JP2015057376A - 有機塩の合成と精製 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】これまで有機塩の合成及び/又は精製に用いられてきた塩化メチレン等のハロゲン系溶媒の代わりに、非ハロゲン系溶媒として、水と混和しないアルコール、ケトン、エステル、二トリル及びエーテルのうち少なくとも二つの混合物を用いた製造及び精製方法。反応原料は第一化合物として水素・酸素単結合を含む、有機塩で例えばオニウム塩であり、第二化合物として、水素−酸素単結合、炭素−酸素結合、炭素−酸素二重結合及び炭素−窒素三重結合の内、一つを含有する化合物。
【選択図】なし
Description
本出願の特許請求の範囲は、米国特許法35 U.S.C. §119(e)に基づいて2013年5月20日に出願された米国仮出願第61/825,201号の利益を主張するものであり、 その内容がここに参考文献として援用される。
実験手順:
Claims (27)
- 有機塩を製造する方法であって、
第1の溶媒と第1の化合物とを含む第1の溶液を用意する工程と、
第1の部分を有する第2の化合物を用意する工程と、
前記第1の溶液と前記第1の溶媒と混和しない第2の溶媒と前記第2の化合物との混合物を攪拌する工程と、を含み、
前記第1の化合物は、第1の電荷を有する第1のイオンと前記第1の電荷と反対の第2の電荷を有し、
前記混合物を攪拌する工程により、前記第1のイオン及び前記第2の部分を有する第3の化合物が生じ、
前記第1の溶媒は、ハロゲン原子を含む結合を含まない化学構造を有し、
前記第2の溶媒は、ハロゲン原子を含む結合を含まない化学構造有していること、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項1に記載の有機塩の製造方法において、
前記第2の化学構造は、水素−酸素単結合、炭素−酸素単結合、炭素−酸素二重結合及び炭素−窒素三重結合のうち少なくとも一つを含むこと、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項1に記載の有機塩の製造方法において、
前記第1の化学構造は、水素−酸素単結合を含み、
前記第2の化学構造は、水素−酸素単結合及び炭素−酸素二重結合のうち少なくとも一つを含むこと、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項1に記載の有機塩の製造方法において、
前記第2の溶媒は、5個から12個の炭素原子からなるアルコールであること、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項1に記載の有機塩の製造方法において、
前記混合物は、第3の溶媒を含むこと、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項1に記載の有機塩の製造方法において、
前記第1のイオンは、オニウム塩であること、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項5に記載の有機塩の製造方法において、
前記第3の溶媒は、前記第1の溶媒とは混和せず、
前記第3の溶媒は、前記第2の溶媒とは混和すること、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項7に記載の有機塩の製造方法において、
前記第3の溶媒は、ハロゲン原子を含む結合を含まない第3の化学構造を有していること、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項8に記載の有機塩の製造方法において、
前記第3の化学構造は、炭素−酸素二重結合を含むこと、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項4に記載の有機塩の製造方法において、
前記第1の溶媒は水であること、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 請求項1に記載の有機塩の製造方法において、
前記第3の化合物は、光酸発生剤として機能する性質を有していること、
を特徴とする有機塩の製造方法。 - 有機塩の精製方法であって、
有機塩、第1の溶媒及び前記第1の溶媒とは混和しない第2の溶媒を含む混合物を容器内で攪拌する工程と、
前記混合物を静置することにより、前記混合物を第1の液層と第2の液層とに分離する工程と、
前記第1の液層を前記容器から除く工程と、
前記第2の液層から前記有機塩を得る工程と、を含み、
前記第1の液層は前記第1の溶媒を含み、
前記第2の液層は前記第2の溶媒を含み、
前記第1の溶媒は、ハロゲン原子を含む結合を含まない第1の化学構造を有し、
前記第2の溶媒は、ハロゲン原子を含む結合を含まない第2の化学構造を有していること、
を特徴とする有機塩の精製方法。 - 請求項12に記載の有機塩の精製方法において、
前記有機塩は、光酸発生剤として機能する性質を有していること、
を特徴とする有機塩の精製方法。 - 請求項12に記載の有機塩の精製方法において、
前記第2の化学構造は、水素−酸素単結合及び炭素−酸素二重結合のうち少なくとも一つを含んでいること、
を特徴とする有機塩の精製方法。 - 請求項12に記載の有機塩の精製方法において、
前記第2の溶媒は、5個から12個の炭素原子からなる分子を有しているアルコールであること、
を特徴とする有機塩の精製方法。 - 請求項12に記載の有機塩の精製方法において、
前記混合物は、第3の溶媒を含み、
前記第2の液層は、前記第3の溶媒を含むこと、
を特徴とする有機塩の精製方法。 - 請求項12に記載の有機塩の精製方法において、
前記分離工程において、前記混合物を前記第1の液層が、前記第2の液層より下方に位置すること、
を特徴とする有機塩の精製方法。 - 残留ハロゲン濃度が 20000 ppmより小である有機塩であること、
を特徴とする有機塩。 - 請求項18に記載の有機塩において、
第1のイオンと、
第3のイオンと、を含み、
前記残留ハロゲン濃度が、 30 ppmかそれより小であること、
を特徴とする有機塩。 - 請求項19に記載の有機塩において、
第1のイオンと、
第3のいおんと、を含み、
前記残留ハロゲン濃度が 7 ppmかそれより小であること、
を特徴とする有機塩。 - 請求項19に記載の有機塩において、
前記有機塩は、プロトンを発生するか又はプロトンを受容する性質を有していること、
を特徴とする有機塩。 - 請求項19に記載の有機塩と、
酸の存在下で結合開裂が起こる第1の結合か、酸の存在下で第2の結合を形成する少なくとも一つの原子を含む第4の化合物と、を含むこと、
を特徴とするフォトレジスト。 - デバイスの製造方法であって、
請求項21に記載のフォトレジストの溶液を基板に、前記基板上に前記フォトレジストを含む膜が形成されるように塗布する工程と、
前記膜に対して電磁波及び粒子線のうち少なくとも一つを、前記膜の第1の部分は前記電磁波及び前記粒子線のうち少なくとも一つに照射され、前記膜の第2の部分は前記電磁波及び前記粒子線のうち少なくとも一つに照射されないように照射すること、
を特徴とするデバイスの製造方法。 - 残留ハロゲン濃度が 30 ppmかそれより小であることを特徴とするデバイス。
- 請求項24に記載のデバイスにおいて、
前記デバイスの残留ハロゲン濃度は、7 ppmかそれより小であること、
を特徴とするデバイス。 - 請求項25に記載のデバイスにおいて、
前記デバイスはトランジスタを含んでいること、
を特徴とするデバイス。 - 請求項25に記載のデバイスにおいて、
前記デバイスは集積回路であること、
を特徴とするデバイス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361825201P | 2013-05-20 | 2013-05-20 | |
US61/825,201 | 2013-05-20 |
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Family Applications (1)
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JP2014104755A Pending JP2015057376A (ja) | 2013-05-20 | 2014-05-20 | 有機塩の合成と精製 |
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Country | Link |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004012898A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2004292389A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Wako Pure Chem Ind Ltd | スルホニウム塩の新規製造法 |
JP2011039502A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-24 | Sumitomo Chemical Co Ltd | レジスト組成物 |
JP2013092657A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ArF液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
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2014
- 2014-05-20 JP JP2014104755A patent/JP2015057376A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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