JP2015023239A - 加工装置 - Google Patents

加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015023239A
JP2015023239A JP2013152596A JP2013152596A JP2015023239A JP 2015023239 A JP2015023239 A JP 2015023239A JP 2013152596 A JP2013152596 A JP 2013152596A JP 2013152596 A JP2013152596 A JP 2013152596A JP 2015023239 A JP2015023239 A JP 2015023239A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
annular groove
groove
cutting
cutting blade
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013152596A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6242619B2 (ja
Inventor
秀夫 岩田
Hideo Iwata
秀夫 岩田
浩吉 湊
Kokichi Minato
浩吉 湊
陽平 山脇
Yohei Yamawaki
陽平 山脇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2013152596A priority Critical patent/JP6242619B2/ja
Publication of JP2015023239A publication Critical patent/JP2015023239A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6242619B2 publication Critical patent/JP6242619B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

【課題】外周に環状溝が形成されたウェーハを検査する際にウェーハに異物が付着するおそれやウェーハが破損するおそれを低減することを目的とする。【解決手段】加工装置1は、ウェーハWを保持する保持手段10と、保持手段10に保持されたウェーハWの外周部Wcを円形に切削して環状溝70を形成する切削手段17a及び切削手段17bと環状溝70の幅方向に伸長する帯状レーザービーム65を環状溝70の溝底71と環状溝70に隣接したウェーハWの上面Waとに照射し、ウェーハWの上面Waと溝底71とにおいて反射された反射光66に基づいて環状溝70の少なくとも深さを検出する環状溝検出手段60とを備えているため、環状溝70を検査するときに測定機器等がウェーハWに接触することがなく、ウェーハWに異物が付着するおそれやウェーハWが破損するおそれを低減することができ、製品の生産性が向上する。【選択図】図1

Description

本発明は、表面から裏面に至る面取り部が外周に形成されたウェーハを加工する加工装置に関する。
ウェーハの外周部には、加工や搬送の過程で欠け等が生じるのを防ぐために、表面から裏面にかけて面取りが施されている。このように外周が面取りされたウェーハの裏面を研削する前においては、裏面研削により外周がシャープエッジ状となることによって研削後のウェーハが欠けたり破損したりすることを防止するために、あらかじめウェーハの外周部に形成された面取り部に切削ブレードを所定の深さまで切り込ませて環状の溝を形成する加工(エッジトリミング)を施している。
この環状溝は、ウェーハの研削後の仕上がり厚さに対応した深さに形成される。従来は、ウェーハの外周部に形成された面取り部の一部を除去して環状溝を形成した後、作業者が環状溝の深さをハイトゲージで測定し、その測定値が許容範囲内に入っているか否かを検査している。
特開2000−173961号公報
しかしながら、作業者がウェーハ毎にハイトゲージによって環状溝の深さを測定すると非常に手間がかかるため、製品の生産性が悪いという問題がある。また、環状溝の深さ測定時にハイトゲージがウェーハに接触して異物がウェーハに付着したり、ウェーハが破損したりするおそれがあるという問題もある。
本発明は、上記の事情にかんがみてなされたものであり、ウェーハの外周部に形成された環状溝を検査する際に、ウェーハに異物が付着するおそれやウェーハが破損するおそれを低減するとともに、製品の生産性を向上させることに発明の解決すべき課題を有している。
本発明は、表面から裏面に至る面取り部が外周に形成されたウェーハを加工する加工装置であって、ウェーハを保持する保持手段と、該保持手段で保持されたウェーハの外周を円形に切削して環状溝を形成し該面取り部の一部を除去する切削ブレードと該切削ブレードを回転させるスピンドルとを有した切削手段と、該環状溝の幅方向に伸長する帯状レーザービームを該環状溝の底と該環状溝に隣接したウェーハの上面とに照射しウェーハの上面と該環状溝の底とにおいて反射された反射光に基づいて該環状溝の少なくとも深さを検出する環状溝検出手段と、を備えている。
上記環状溝検出手段は、上記環状溝の溝底形状を検出することによって上記切削ブレードの先端の形状を検出することが可能となっている。
また、上記加工装置は、ウェーハ外周の上面を撮像して該環状溝の幅を含む撮像画像を形成する撮像手段を備え、該撮像手段で形成された該撮像画像に基づいて該環状溝の幅を検出することができる。
本発明にかかる加工装置は、ウェーハの上面とウェーハの外周に形成された環状溝とに環状溝の幅方向に伸長する帯状レーザービームを照射し、ウェーハの上面と環状溝の溝底とにおいて反射した反射光に基づいて環状溝の溝深さや溝底形状を検出する環状溝検出手段を備えるため、ウェーハに形成された環状溝を検査するときに測定機器がウェーハに接触することがなく、ウェーハに異物が付着するおそれやウェーハが破損するおそれを低減することができ、製品の生産性が向上する。
上記環状溝検出手段では、環状溝の溝底の形状を検出することにより切削ブレードに偏磨耗が生じているかどうかを検出できるため、適切なタイミングで切削ブレードのフラットドレスを実施したり、適切なタイミングで新品の切削ブレードに交換したりすることができる。これにより、所望の溝深さを有する環状溝を確実に形成することができる。また、切削ブレードが先細り状態で偏磨耗して先端部分が折れるという問題もなくなる。
また、本発明にかかる加工装置は、ウェーハの外周側の上面を撮像して環状溝を含んだ撮像画像を形成する撮像手段を備えているため、撮像画像に基づいて環状溝の溝幅を検出することができる。これにより、ウェーハ毎に環状溝の溝幅の大きさが許容範囲内であるかどうかを判断してウェーハが不良であるかどうかを検出し、製品の生産性をより向上させることができる。
加工装置の構成を示す斜視図である。 保持手段を示す断面図である。 環状溝検出手段の構成を示す説明図である。 環状溝形成ステップを示す断面図である。 洗浄ステップを示す断面図である。 検査ステップを開始する状態を示す平面図である。 撮像ステップを示す断面図及びその撮像画像である。 深さ測定ステップを示す正面図である。 深さ測定ステップにより測定された環状溝の深さを示す波形データである。 偏磨耗検出ステップを示す拡大断面図及び波形データである。
図1に示す加工装置1は、装置ベース2を有し、その上面2aには、カセット載置台3を備えている。カセット載置台3には、被加工物であるウェーハを複数収容することができるカセット4を載置することが可能となっている。カセット載置台3は、昇降可能となっている。
装置ベース2のX軸方向前部には、カセット3に対してウェーハの搬出及び搬入を行う搬送ロボット6が配設されている。搬送ロボット6は、ウェーハを保持するロボットハンド6aと、ロボットハンド6aを所望の位置に移動させるアーム部6bとを備えている。搬送ロボット6は、図示しない搬送機構によりY軸方向に移動可能となっている。
装置ベース2の上面2aのX軸方向後部には、X軸方向に移動可能な移動基台7が配設されており、移動基台7の経路を跨ぐようにして門型のコラム5が立設されている。移動基台7には、加工具(例えば切削ブレード)の先端形状をフラットにドレスするためのドレスボードを保持するドレスボード保持手段8と、ウェーハを保持し自転可能な保持手段10とが配設されている。図2に示す保持手段10は、その周縁部においてウェーハの外周側を保持するリング状の保持面11を有しており、保持面11の内周側の領域がウェーハと接触しない凹状の空間12となっている。図1に示すように、保持手段10の外周には、少なくとも3つの切り欠き部13が形成されている。図2に示すように、保持手段10には、保持面11において開口した吸引口14が形成されており、この吸引口14がバルブ15を介して吸引源16に接続されている。
図1に示す加工装置1には、保持手段10に保持されたウェーハの外周側を切削する切削手段17aと、切削手段17aと対面して配置され保持手段10に保持されたウェーハの外周側を切削する切削手段17bとが配設されている。切削手段17aは、ウェーハの外周側をその周縁に沿って切削して面取り部の一部を除去する切削ブレード18と、Y軸方向の軸心を有し切削ブレード18を回転させるスピンドル19とを少なくとも有している。切削手段17bも切削手段17aと同様の構成となっている。なお、ウェーハを切削する際に2つの切削手段を同時に稼働させなくてもよいが、同時に稼働させることもできる。
コラム5のX軸方向前方には、切削手段17aをZ軸方向に加工送りする加工送り手段20aと、切削手段17aをY軸方向に割り出し送りする割り出し送り手段25aと、切削手段17bをZ軸方向に加工送りする加工送り手段20bと、切削手段17bをY軸方向に割り出し送りする割り出し送り手段25bと、が配設されている。加工送り手段20aは、Z軸方向にのびるボールネジ21と、ボールネジ21の一端に接続されたモータ22と、ボールネジ21と平行にのびる一対のガイドレール23と、切削手段17aに連結された昇降板24とを備えている。昇降板24の一方の面には一対のガイドレール23が摺接し、昇降板24の中央部に形成された図示しないナットにボールネジ21が螺合している。そして、モータ22がボールネジ21を回動させることにより、昇降板24とともに切削手段17aを所定の送り速度でZ軸方向に昇降させることができる。なお、加工送り手段20bも加工送り手段20aと同様の構成となっているため、加工送り手段20bを構成する各部位には加工送り手段20aと同一の符号を付し、その説明を省略する。
割り出し送り手段25a及び割り出し送り手段25bは、それぞれY軸方向にのびるボールネジ26と、それぞれのボールネジ26に接続されたモータ27と、ボールネジ26と平行にのびるガイドレール28と、一方の面に加工送り手段20aと加工送り手段20bとが連結されるとともに切削手段17a及び切削手段17bをそれぞれY軸方向に移動させる移動板29と、を備えている。移動板29の他方の面には一対のガイドレール28が摺接し、移動板29の中央部に形成された図示しないナットにボールネジ26が螺合している。モータ27によって駆動されボールネジ26が回動すると、移動板29とともに切削手段17a及び切削手段17bをY軸方向に割り出し送りすることができる。
加工装置1には、加工後のウェーハを洗浄する洗浄手段30と、保持手段10から洗浄手段30へ加工後のウェーハを搬送する搬送パッド9とが配設されている。洗浄手段30は、ウェーハを保持し自転するとともに昇降可能なスピンナーテーブル31と、洗浄水をスピンナーテーブル31に保持されたウェーハに供給する洗浄水ノズル32とを少なくとも備えている。
装置ベース2の上面2aの中央部は、ウェーハの外周部に形成された環状溝の深さ、溝幅、溝底の形状を検査する検査領域Pとなっている。この検査領域Pには、ウェーハの外周部をクランプする複数(少なくとも3つ)のエッジクランプ40と、ウェーハの上面を撮像する撮像手段50と、加工後のウェーハの外周に形成された環状溝の少なくとも深さを検出する環状溝検出手段60とを備えている。各エッジクランプ40は、ウェーハの径方向に移動可能となっており、ウェーハの外周側を押圧しながらウェーハをクランプすることができる。また、エッジクランプ40は、回転可能となっており、ウェーハをクランプしながら回転させることができる。
撮像手段50は、光源51を有し、例えば光学系のCCDイメージセンサ又はCMOSイメージセンサが内蔵されている。撮像手段50は、ウェーハの外周部を撮像して撮像画像を取得することができる。この撮像画像に基づいて少なくとも環状溝の幅の大きさを算出することが可能となっている。
環状溝検出手段60は、レーザ変位センサであり、図3に示すように、レーザービームを投光する投光素子61と、投光素子61から投光されたレーザービームから帯状レーザービームを形成する帯状レーザービーム形成手段62と、帯状レーザービーム形成手段62によって形成され出射された帯状レーザービームの反射光を所定の位置に集光させる受光レンズ63と、反射光を受光する受光素子64とを少なくとも有する。
投光素子61としては、例えば半導体レーザを用いることができる。帯状レーザービーム形成手段62としては、例えばシリンドリカルレンズを用いることができる。シリンドリカルレンズは、投光素子61から投光されたレーザービームをウェーハの環状溝の幅方向に伸長させて帯状のレーザービームを形成することができる。受光レンズ63としては、例えば2次元エルノスターレンズを用いることができ、ウェーハの上面と環状溝の底部とで反射された帯状のレーザービームの反射光を受光素子64の所定位置に集光させることができる。
以下では、加工装置1の動作例について説明する。図1に示すウェーハWは、被加工物の一例であって特に限定されるものではない。ウェーハWの上面Waには、複数のデバイスDが形成されており、ウェーハWの上面Waと反対側にある裏面が保持手段10に保持される下面Wbとなっている。また、図2に示すように、ウェーハWの周縁において上面Waから下面Wbに至る面取り部が形成された部分が外周部Wcとなっている。さらに、図1に示すように、ウェーハWの外周部Wcには、結晶方位の識別マークであるノッチNが形成されている。そして、加工前のウェーハWが複数収容されたカセット4をカセット載置台3に載置する。
(1)保持ステップ
搬送ロボット6は、ロボットハンド6aによってカセット4から加工前のウェーハWを取り出し、Y軸方向に移動しつつ、アーム部4bが旋回することによりロボットハンド6aを保持手段10の近傍に移動させ、保持手段10の保持面11にウェーハWの下面Wbを載置する。次いで、図2に示すバルブ15を開くとともに吸引源16の吸引力を保持面11に作用させ、保持面11でウェーハWを吸引保持する。このとき、空間12に面したウェーハWの下面Wbは非接触のため、ゴミ等が付着することがない。
(2)環状溝形成ステップ
保持ステップを実施した後、図1に示した移動基台7がX軸方向に移動し、保持手段10を切削手段17a及び切削手段17bの下方に移動させ、ウェーハWの外周部Wcに環状溝を形成する。本実施形態では、切削手段17aのみで環状溝を形成する場合について説明する。
図4に示すように、切削手段17aの下方に移動してきた保持手段10を例えば矢印A方向に回転させる。切削手段17aは、スピンドル19を回転させることにより、切削ブレード18を例えば矢印E方向に所定の回転速度で回転させながら、図1に示した加工送り手段20aによって、切削手段17aをZ軸方向に下降させ、保持手段10に保持されたウェーハWの外周部Wcに回転する切削ブレード18を切り込ませる。こうして切削ブレード18によってウェーハWの外周部Wcにおける面取り部の一部を除去して所望の深さの環状溝70を形成する。なお、回転する切削ブレード18の刃先を所定高さに位置づけ、保持手段10をX軸方向に移動させてウェーハWの外周部Wcに切削ブレード18を切り込ませた後、保持手段10を例えば矢印A方向に回転させることにより、外周部Wcにおける面取り部の一部を除去して所望の深さの環状溝70を形成するようにしてもよい。
(3)洗浄ステップ
環状溝形成ステップを実施した後、搬送パッド9は、保持手段10から加工後のウェーハWを洗浄手段30のスピンナーテーブル31に搬送する。図5に示すように、スピンナーテーブル31にウェーハWを載置したら、バルブ15aを開き、吸引源16aの吸引力によってウェーハWをスピンナーテーブル31の保持面31aにおいて吸引保持する。その後、スピンナーテーブル31を所定の回転速度(例えば800rpm)で、例えば矢印B方向に回転させながら、スピンナーテーブル31に保持されたウェーハWに向けて洗浄水ノズル32から洗浄水33を供給し、ウェーハWの洗浄を行う。洗浄終了後は、スピンナーテーブル31を洗浄時より高速(例えば2000rpm)で回転させ、高圧エアーを噴出するなどして、ウェーハWを乾燥させる。
(4)検査ステップ
洗浄ステップを実施したら、環状溝70が所望の溝幅、溝深さ及び溝底形状となっているかどうかを検査するために、図1に示した搬送ロボット6によってスピンナーテーブル31から洗浄後のウェーハWを搬出し、検査領域PにウェーハWを搬送する。
(4−1)ウェーハ保持ステップ
ウェーハWが検査領域Pに搬送された後、図6に示すように、各エッジクランプ40が径方向に移動し、ウェーハWの外周部Wcをクランプして固定する。さらに、エッジクランプ40がそれぞれ回転し、ウェーハWを例えば矢印C方向に回転させる。
このとき、ウェーハWの外周部Wcを撮像手段50が撮像してノッチNをあらかじめ検出する。ノッチNを検出したら、ノッチNが形成された位置を図1に示した加工装置1の内部に備えるメモリに記憶させておく。なお、ノッチNの検出は、撮像手段50によって実施することに限定されるものではなく、例えば透過式のセンサを使用することもできる。
(4−2)撮像ステップ
図7(a)に示すように、撮像手段50によってウェーハWの外周部Wcを撮像し、環状溝70の溝幅を検出する。具体的には、エッジクランプ40によってウェーハWを回転させつつ、撮像手段50は、ウェーハWの上方から光源51を発光させ外周部Wcを撮像して図7(b)に示す撮像画像100を取得する。なお、光源51に加えて光源52をウェーハWの下方に配設して、撮像時にウェーハWの下方から発光させてもよい。
撮像画像100は、一箇所で撮像された撮像画像の一例であり、撮像手段50は複数箇所(例えば、32箇所)で複数の撮像画像を形成することが望ましい。それぞれの撮像画像100を取得した位置を上記ノッチNが形成された位置を基準に加工装置1のメモリに記憶させる。
次いで、それぞれの位置で取得した撮像画像100に基づいて環状溝70の溝幅Lを算出し、この溝幅Lの大きさが許容範囲内であるかどうかを判断する。環状溝70の溝幅Lとは、図7(b)に示すように、環状溝70の溝内周エッジ72とウェーハWの外周縁73との間の径方向の長さを指す。
(4−3)深さ測定ステップ
環状溝検出手段60によって、環状溝70の溝深さを測定する。ここで、加工装置1には、あらかじめ投光素子61が投光するレーザービームの波長の受光レンズ63に対する焦点距離と測定対象の上面高さとの関係を設定しておく。これにより、環状溝検出手段60の受光素子64が受光した反射光の受光量の分布を示す受光信号を波形データに変換することにより、環状溝70の溝深さを検出することができる。なお、焦点距離は、受光レンズ63の主点から受光素子64上の焦点までの距離を指す。
図8(a)に示すように、環状溝検出手段60は、投光素子61からレーザービームをウェーハWの上面Waと環状溝70とに向けて照射する。レーザービームが帯状レーザービーム形成手段62を通過する際、レーザービームは環状溝70の幅方向に拡がった帯状レーザービーム65に形成される。すなわち、図8(b)の部分拡大図に示すように、帯状レーザービーム65は、その照射範囲が拡がりウェーハWの上面Waと環状溝70の溝底71とにわたって照射される。
帯状レーザービーム65は、ウェーハWの上面Waと環状溝70の溝底71とにおいて反射すると、図8(a)に示す反射光66となって、受光レンズ63を介して所定の位置に集光されて受光素子64で受光される。こうして複数の箇所において反射した反射光66が受光素子64で受光されることによって、受光量の分布を示す受光信号を図9に示す波形データに変換し、環状溝70の溝深さを検出する。
図9に示す波形データは、受光量が最も大きい部分がウェーハWの上面Waの高さ位置となっており、この位置から中間部分まで下がった位置が環状溝70の溝底71の高さ位置となっている。これにより、上面Waの高さ位置と溝底71の高さ位置との差を環状溝70の溝深さH1として検出することができ、溝深さH1が所望の深さであるかどうかを判断することができる。
また、環状溝70の溝深さH1に基づき、図4に示した切削ブレード18の磨耗量を検出し、磨耗量に応じて切削ブレード18の切り込み深さを調整するようにしてもよい。例えば、加工したウェーハWの環状溝の深さが別に加工したウェーハWの環状溝の深さと比べて5μm浅くなっていた場合、切削ブレード18が5μm磨耗したとして判断し、次の新たなウェーハWの加工時に切り込み深さを5μm深くするように調整する。
(4−4)偏磨耗検出ステップ
切削ブレード18で切削されることにより形成された環状溝70には切削ブレード18の先端形状が転写されるため、ウェーハWを複数加工することにより、切削ブレード18の先端形状が偏磨耗すると、例えば、図10(a)に示す環状溝70aのように、溝底74において盛り上がった凸部75が発生してしまい、溝底74において高低差が生じることがある。特に、ウェーハWの外周部Wcに形成された面取りを除去するには、例えば厚みが0.5mm以上と厚い切削ブレードを用いることが多いため、偏磨耗が生じやすく、先端が先細りした形状に偏磨耗した場合は、先端部分が折れてしまうという問題が生じる。そのため、環状溝70aの溝底74の形状を検出して切削ブレードの先端形状の磨耗量を検出する。
ここで、図10(a)に示す環状溝70aの溝底74の形状を検出する方法としては、深さ測定ステップと同様の方法を用いることができる。すなわち、図8に示した環状溝検出手段60によって帯状レーザービーム65をウェーハWの上面Waと環状溝70aの溝底74とに照射し、反射された反射光66が受光レンズ63を介して受光素子64で受光されることにより、受光量の分布を示す受光信号を図10(b)に示す波形データに変換する。
図10(b)に示す波形データでは、受光量の分布が示す溝底74において盛り上がって凸部75が生じているため、溝底74と凸部75との間の差を高低差H2として検出する。このように波形データに基づいて高低差H2を含んだ環状溝70aの溝底74の形状を検出することにより、当該形状を図4に示す切削ブレード18の先端形状として検出する。検出した高低差H2が、あらかじめ設定された高低差の許容範囲外である場合には、切削ブレード18の先端形状に偏磨耗が発生していると判断し、図1に示したドレスボード保持手段8に保持されたドレスボードに回転する切削ブレード18を切り込ませてフラットドレスを行う。また、切削ブレード18の偏磨耗の程度によっては、新品の切削ブレードに交換してもよい。
検査ステップを実施した後、搬送ロボット6によって検査領域PからウェーハWを搬出するとともにカセット4にウェーハWを収容する。なお、検査ステップを実施して環状溝の溝幅、溝深さ及び溝底形状が許容範囲内に入らなかったウェーハWは、不良のウェーハとしてカセット4の何段目に収容されたかを加工装置1のメモリに記憶させておく。あわせてノッチNを基準にどの位置の溝幅、溝深さ及び溝底形状が許容範囲内に入らなかったのかについても記憶させることができる。
以上のように、加工装置1は、ウェーハWの上面WaとウェーハWの外周部Wcに形成された環状溝70,70aとに幅方向に伸長する帯状レーザービーム65を照射し、ウェーハWの上面Waと環状溝70の溝底71とにおいて反射された反射光66に基づいて環状溝70,70aの溝深さや溝底形状を検出する環状溝検出手段60を備えているため、ウェーハWに形成された環状溝70,70aを検査するときにハイトゲージなどの測定機器がウェーハに接触することがなく、ウェーハWに異物が付着するおそれやウェーハWが破損するおそれを低減することができ、製品の生産性が向上する。
環状溝検出手段60では、環状溝70,70aの溝底の形状を検出することにより切削ブレードに偏磨耗が生じているかを検出できるため、適切なタイミングで切削ブレード18のフラットドレスを実施したり、適切なタイミングで新品の切削ブレードに交換することができる。これにより、ウェーハWの外周部Wcに所望の溝深さを有する環状溝を確実に形成することができる。また、切削ブレードの先端部分が折れるという問題もなくなる。
加工装置1は、ウェーハWの外周部Wc側の上面Waを撮像して環状溝70を含んだ撮像画像100を形成する撮像手段50を備えているため、撮像画像100に基づいて環状溝70の溝幅Lを検出することができる。これにより、ウェーハW毎に環状溝70の溝幅Lの大きさが許容範囲内であるかどうかを判断してウェーハWが不良であるかどうかを検出し、製品の生産性をより向上させることができる。
1:加工装置 2:装置ベース 2a:上面 3:コラム 4:カセット載置台
5:カセット 6:搬送ロボット 6a:ロボットハンド 6b:アーム部
7:移動基台 8:ドレスボード保持手段 9:搬送パッド
10:保持手段 11:保持面 12:空間 13:切り欠き部 14:吸引口
15,15a:バルブ 16,16a:吸引源 17a,17b:切削手段
18:切削ブレード 19:スピンドル
20a,20b:加工送り手段 21:ボールネジ 22:モータ 23:ガイドレール
24:昇降板 25a,25b:割り出し送り手段 26:ボールネジ 27:モータ
28:ガイドレール 29:移動板
30:洗浄手段 31:スピンナーテーブル 32:洗浄水ノズル 33:洗浄水
40:エッジクランプ 50:撮像手段 51:光源 52:光源
60:環状溝検出手段 61:投光素子 62:帯状レーザービーム形成手段
63:受光レンズ 64:受光素子 65:帯状レーザービーム 66:反射光
70,70a:環状溝 71:溝底 72:溝内周エッジ 73:外周縁
74:溝底 75:凸部 100:撮像画像
W:ウェーハ Wa:上面 Wb:下面 Wc:外周部 D:デバイス N:ノッチ

Claims (3)

  1. 表面から裏面に至る面取り部が外周に形成されたウェーハを加工する加工装置であって、
    ウェーハを保持する保持手段と、
    該保持手段で保持されたウェーハの外周を円形に切削して環状溝を形成し該面取り部の一部を除去する切削ブレードと、該切削ブレードを回転させるスピンドルと、を有した切削手段と、
    該環状溝の幅方向に伸長する帯状レーザービームを該環状溝の底と該環状溝に隣接したウェーハの上面とに照射しウェーハの上面と該環状溝の底とにおいて反射した反射光に基づいて該環状溝の少なくとも深さを検出する環状溝検出手段と、を備えた加工装置。
  2. 前記環状溝検出手段は、前記環状溝の溝底形状を検出することによって前記切削ブレードの先端の形状を検出する、請求項1に記載の加工装置。
  3. ウェーハ外周の上面を撮像して該環状溝の幅を含む撮像画像を形成する撮像手段を備え、該撮像手段で形成された該撮像画像に基づいて該環状溝の幅を検出する、請求項1または2に記載の加工装置。
JP2013152596A 2013-07-23 2013-07-23 加工装置 Active JP6242619B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013152596A JP6242619B2 (ja) 2013-07-23 2013-07-23 加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013152596A JP6242619B2 (ja) 2013-07-23 2013-07-23 加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015023239A true JP2015023239A (ja) 2015-02-02
JP6242619B2 JP6242619B2 (ja) 2017-12-06

Family

ID=52487419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013152596A Active JP6242619B2 (ja) 2013-07-23 2013-07-23 加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6242619B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017219364A (ja) * 2016-06-06 2017-12-14 株式会社ディスコ ウェーハの外周位置を検出するウェーハの検出方法及びウェーハの外周位置を検出することが可能な加工装置
JP2018027604A (ja) * 2016-08-19 2018-02-22 株式会社ディスコ 切削装置
KR20190016914A (ko) * 2017-08-09 2019-02-19 가부시기가이샤 디스코 절삭 장치 및 웨이퍼의 가공 방법
US20200185241A1 (en) * 2018-12-11 2020-06-11 Disco Corporation Cutting apparatus and wafer processing method using cutting apparatus
JP2020169822A (ja) * 2019-04-01 2020-10-15 株式会社ディスコ 測定方法
JP2020203366A (ja) * 2019-06-19 2020-12-24 株式会社ディスコ 加工装置
KR20210090776A (ko) * 2020-01-10 2021-07-21 전북대학교산학협력단 반도체 웨이퍼 절삭 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 절삭 방법
JPWO2020105483A1 (ja) * 2018-11-21 2021-09-27 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010107300A (ja) * 2008-10-29 2010-05-13 Aisin Seiki Co Ltd 物体形状評価装置
JP2010181249A (ja) * 2009-02-05 2010-08-19 Kobelco Kaken:Kk 形状測定装置
JP2011249571A (ja) * 2010-05-27 2011-12-08 Disco Abrasive Syst Ltd 切削ブレード外形形状検査方法
JP2013059833A (ja) * 2011-09-14 2013-04-04 Disco Corp 切削ブレード先端形状検出方法
JP2014085296A (ja) * 2012-10-26 2014-05-12 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ形状測定装置
JP2015020226A (ja) * 2013-07-17 2015-02-02 株式会社ディスコ 切削ブレード先端形状検出方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010107300A (ja) * 2008-10-29 2010-05-13 Aisin Seiki Co Ltd 物体形状評価装置
JP2010181249A (ja) * 2009-02-05 2010-08-19 Kobelco Kaken:Kk 形状測定装置
JP2011249571A (ja) * 2010-05-27 2011-12-08 Disco Abrasive Syst Ltd 切削ブレード外形形状検査方法
JP2013059833A (ja) * 2011-09-14 2013-04-04 Disco Corp 切削ブレード先端形状検出方法
JP2014085296A (ja) * 2012-10-26 2014-05-12 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ形状測定装置
JP2015020226A (ja) * 2013-07-17 2015-02-02 株式会社ディスコ 切削ブレード先端形状検出方法

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017219364A (ja) * 2016-06-06 2017-12-14 株式会社ディスコ ウェーハの外周位置を検出するウェーハの検出方法及びウェーハの外周位置を検出することが可能な加工装置
JP2018027604A (ja) * 2016-08-19 2018-02-22 株式会社ディスコ 切削装置
KR102546465B1 (ko) 2017-08-09 2023-06-21 가부시기가이샤 디스코 절삭 장치 및 웨이퍼의 가공 방법
CN109382920A (zh) * 2017-08-09 2019-02-26 株式会社迪思科 切削装置和晶片的加工方法
JP2019033189A (ja) * 2017-08-09 2019-02-28 株式会社ディスコ 切削装置及びウェーハの加工方法
US10622215B2 (en) * 2017-08-09 2020-04-14 Disco Corporation Cutting apparatus and wafer processing method
KR20190016914A (ko) * 2017-08-09 2019-02-19 가부시기가이샤 디스코 절삭 장치 및 웨이퍼의 가공 방법
CN109382920B (zh) * 2017-08-09 2022-02-18 株式会社迪思科 切削装置和晶片的加工方法
TWI751354B (zh) * 2017-08-09 2022-01-01 日商迪思科股份有限公司 切割裝置及晶圓的加工方法
JPWO2020105483A1 (ja) * 2018-11-21 2021-09-27 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP7108710B2 (ja) 2018-11-21 2022-07-28 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
US20200185241A1 (en) * 2018-12-11 2020-06-11 Disco Corporation Cutting apparatus and wafer processing method using cutting apparatus
JP2020096050A (ja) * 2018-12-11 2020-06-18 株式会社ディスコ 切削装置及び切削装置を用いたウエーハの加工方法
JP7266398B2 (ja) 2018-12-11 2023-04-28 株式会社ディスコ 切削装置及び切削装置を用いたウエーハの加工方法
JP2020169822A (ja) * 2019-04-01 2020-10-15 株式会社ディスコ 測定方法
JP2020203366A (ja) * 2019-06-19 2020-12-24 株式会社ディスコ 加工装置
KR102329992B1 (ko) * 2020-01-10 2021-11-24 전북대학교산학협력단 반도체 웨이퍼 절삭 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 절삭 방법
KR20210090776A (ko) * 2020-01-10 2021-07-21 전북대학교산학협력단 반도체 웨이퍼 절삭 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 절삭 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP6242619B2 (ja) 2017-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6242619B2 (ja) 加工装置
TWI713707B (zh) 元件之製造方法及研削裝置
TWI667099B (zh) Wafer inspection method and grinding and polishing device
TWI751354B (zh) 切割裝置及晶圓的加工方法
TWI809228B (zh) 切割裝置及使用切割裝置的晶圓加工方法
TWI602229B (zh) Wafer processing methods
TWI748082B (zh) 雷射加工方法
US10937697B2 (en) Method of processing a semiconductor wafer that involves cutting to form grooves along the dicing lines and grinding reverse side of the wafer
TW201902615A (zh) 切削裝置之切削刀具檢測機構
JP7366637B2 (ja) ワークの確認方法、及び、加工方法
JP5991890B2 (ja) ウエーハの加工方法
US20230258577A1 (en) Edge portion measuring apparatus and method for measuring edge portion
JP6205231B2 (ja) 切削装置
JP2010194678A (ja) 加工装置
JP2019046923A (ja) ウエーハの加工方法
JP5976433B2 (ja) 切削装置
JP6774263B2 (ja) 切削装置
JP6057853B2 (ja) 切削装置
TWI720254B (zh) 磨削裝置
JP2016095244A (ja) チャックテーブルの汚れの判定方法
TW202327779A (zh) 磨削裝置
JP2022180024A (ja) 切削装置、及び、切削方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20150428

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160519

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170323

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170518

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171012

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171108

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6242619

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250