JP2015005750A - 薄膜ブロックコポリマーの配向制御のための無水物コポリマートップコート - Google Patents
薄膜ブロックコポリマーの配向制御のための無水物コポリマートップコート Download PDFInfo
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Abstract
Description
この一部継続出願は2013年2月7日に出願された米国特許出願第13/761,918号に対する優先権の利益を主張する。この米国特許出願第13/761,918号は2012年2月10日に出願された米国仮特許出願第61/597,327号に対する優先権の利益を主張し、これらの出願の開示は本明細書において参考として援用される。
自己組織化したブロックコポリマーを使用して高度なリソグラフパターンを生成することは薄膜中のそれらの配向制御に依存する。トップコートは熱アニールによるブロックコポリマーの配向を可能にし、そうでなければこのことは非常に挑戦的なものである。本発明は、ブロックコポリマー薄膜上にスピンコートされ得、そして加熱によるブロックコポリマードメインの配向を制御するために使用され、次いで除去されるコポリマートップコートの使用を含む。トップコートは、トップコートの非存在下で単独で加熱することによって指向することのないブロックコポリマー薄膜中のドメインの配向を可能にする。
ジブロックコポリマーの、およそ5〜100nmの寸法を有するはっきりした構造への自己組織化は周知である[1]。これらの構造が多くの用途において有用であるためには、薄膜としてそれらを使用し、そして例えばラメラや円柱などのブロックコポリマー構造を配向して、その結果、基材(この基材上にそれらがコーティングされる)に対してそれらが垂直であることが必要である。必要とされるものは、エッチングされ得る所望の構造的整列を有する特徴部を作り出す方法である。
(項目1)
方法であって、該方法は、
a.表面を有する基材、表面中和層、ブロックコポリマー、およびトップコートを提供する工程、
b.第一層が作り出されるような条件の下、該表面中和層により該基材の表面を処理する工程、
c.ブロックコポリマーフィルムを含む第二層が該表面上に作り出されるような条件の下、ブロックコポリマーにより該表面中和層をコーティングする工程と、
d.該表面上に第三層を作り出すようにトップコートにより該ブロックコポリマーをコーティングする工程とを包含する方法であり、ここで、該第三層は、単独で熱アニールすることによって、該フィルムの面に対して垂直な該ブロックコポリマードメインの配向を可能にする、方法。
(項目2)
前記トップコート層の非存在下での熱アニールは、垂直である特徴部を生成しない、上記項目に記載の方法。
(項目3)
工程d)のトップコートは、前記ブロックコポリマーを傷つけもせず、溶かしもせず、実質的に膨張もさせない溶媒または溶媒混合物中にある、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目4)
前記工程d)のトップコートは、該トップコートと反応する溶媒中にある、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目5)
前記工程d)のトップコートは、溶媒混合物中にあり、そして該溶媒混合物は、該トップコートと反応する構成要素を含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目6)
前記トップコートは、水、アルコール、および有機溶媒からなる群の少なくとも1つから構成される液体に溶かされる、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目7)
前記トップコートは、水、アルコールおよび有機溶媒からなる群のいずれか2つ以上の混合物から構成される液体に溶かされる、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目8)
前記液体は、塩基をさらに含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目9)
前記液体は、塩基である、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目10)
前記塩基は、アミンである、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目11)
前記アミンは、アルキルアミン、脂肪族アミン、および官能基の任意の組み合わせに結合しているアミンからなる群から選択される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目12)
前記アミンは、塩である、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目13)
前記塩は、アンモニウムカチオン、アルキルアンモニウムカチオンおよび脂肪族アンモニウムカチオンからなる群から選択されるカチオンを有する、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目14)
前記塩は、カチオンの組み合わせを含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目15)
前記塩は、アニオンを含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目16)
前記アニオンは、水酸化物アニオンである、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目17)
前記塩基は、水酸化アンモニウムを含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目18)
前記塩基は、水酸化アルキルアンモニウムを含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目19)
前記塩基は、トリメチルアミンを含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目20)
前記塩基は、塩とアミンの混合物を含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目21)
前記反応したトップコートは、再び単離される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目22)
前記溶かされたトップコートは、再び単離される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目23)
前記再び単離されたトップコートは、上記項目のうちのいずれかに記載の方法において再び使用される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目24)
前記トップコートは、沈殿、蒸発および蒸留からなる群から選択される、1つまたは1つより多くの技術により再び単離される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目25)
工程d)の後に熱アニールする工程をさらに包含する、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目26)
前記ブロックコポリマーを傷つけもせず、溶かしもせず、実質的に膨張もさせない剥離用溶剤により該ブロックコポリマーから前記トップコートを除去する工程をさらに包含する、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目27)
前記トップコートは、無水物を含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目28)
前記無水物は、マレイン酸無水物から誘導される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目29)
前記基材は、ケイ素、酸化ケイ素、ガラス、表面修飾ガラス、プラスチック、セラミック、透明基材、可撓性基材、およびロールツ−ロールプロセスにおいて使用される基材からなる群から選択される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目30)
前記ブロックコポリマーは、複数の異なるブロックから構成される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目31)
前記ブロックコポリマーは、他のブロック(単数または複数)とは異なる速度でエッチングする少なくとも1つのブロックを含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目32)
前記ブロックコポリマーは、少なくとも1つのブロックの中にケイ素を含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目33)
前記ブロックコポリマーは、ポリ(スチレン−ブロック−4−トリメチルシリルスチレン−ブロック−スチレン)である、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目34)
前記ブロックコポリマーは、ポリ(4−トリメチルシリルスチレン−ブロック−D,L−ラクチド)である、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目35)
前記ブロックコポリマーは、少なくとも1つのブロックの中に錫を含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目36)
前記ブロックコポリマーは、無機構成要素を含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目37)
前記ブロックコポリマーは、有機金属構成要素を含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目38)
前記熱アニールは、前記フィルムの面に対して垂直であるブロックコポリマードメインを作り出す、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目39)
前記ドメインの形態は、ラメラ状、球状、および円柱状からなる群から選択される、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目40)
前記熱アニールは、大気環境、不活性ガスの環境、圧力減少、および圧力増加からなる群から選択される条件の下で行われる、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目41)
前記表面中和層は、架橋されたポリマー、ブラシ、自己組織化した単一層、化学修飾された表面、物理的に修飾された表面、および熱硬化表面からなる群から選択される構成要素を含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目42)
方法であって、該方法は、
a)表面を有する基材、表面中和層、ブロックコポリマー、およびトップコートを提供する工程、
b)第一層が作り出されるような条件の下、該表面中和層により該基材の表面を処理する工程、
c)ブロックコポリマーフィルムを含む第二層が該表面上に作り出されるような条件の下、ブロックコポリマーにより該表面中和層をコーティングする工程、および
d)該表面上に第三層を作り出すようにトップコートにより該ブロックコポリマーをコーティングする工程、
e)該フィルムの面に対して垂直なブロックコポリマー特徴部の配向を可能にする条件の下、該第三層を処理する工程
を包含する方法。
(項目43)
前記工程e)の処理は、熱アニールを含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目44)
前記トップコート層非存在下での熱アニールは、垂直である特徴部を生成しない、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目45)
前記トップコートは、トリメチルアミン中に溶かされる、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
(項目46)
前記コーティングは、スピンコーティングを含む、上記項目のうちのいずれかに記載の方法。
高度なリソグラフパターンを生成するための自己組織化したブロックコポリマー構造の使用は、薄膜中のこれらの構造の配向の制御に依存している。特に、上記ブロックコポリマーフィルムの面に対して垂直である円柱およびラメラの配向は、たいていの用途に対して必要とされる。配向を達成する好ましい方法は、加熱によるものである。本発明は、加熱によりブロックコポリマー薄膜配向を制御するための極性切替えトップコートの使用を含む。上記トップコートは、極性の流延溶媒からブロックコポリマー薄膜上にスピンコートされ得、そしてそれらは、熱アニールの際、組成物を「中性」に変える。トップコートは、そうでなければ単独での加熱によっては可能ではないブロックコポリマーの容易な配向制御を可能にする。
本発明は、相分離構造がフィルムの面に対して垂直に指向するように加熱することによる薄膜内でのブロックコポリマー(これは、加熱のみによって他の状態に配向され得なかった)の配向を可能にするポリマートップコートを含む。さらに、このトップコートは、ブロックコポリマーの任意の成分を溶かしもせず実質的に膨張もさせない溶媒からコーティングされ得る。本発明において記載されるトップコートポリマーは、配向プロセスにおいてそれらを効果的にする加熱の際に特性の変化を受ける。さらに、本発明のトップコートポリマーは、ブロックコポリマーの任意の成分を溶かしもせず実質的に膨張もさせない溶媒の使用によりブロックコポリマーの表面から除去され得る。
本発明の理解を促進するため、多数の用語が以下に定義される。本明細書において定義される用語は、本発明と関連がある分野の当業者により一般に理解される意味を有する。例えば「a」、「an」および「the」などの用語は、単数の存在のみを言及することを意図しないものの、具体的な例が、例示のために使用され得る一般的なクラスを含む。本明細書において、専門用語は、本発明の具体的な実施形態を記載するために使用されるものの、それらの使用は、特許請求の範囲に概説されたことを除いて、本発明の範囲を定めない。
本発明は、ブロックコポリマー薄膜上にスピンコートされ得、加熱により上記ブロックコポリマードメイン(または特徴部)の配向を制御するために使用され得、次いで除去され得るコポリマートップコートの使用を含む。上記トップコートは、トップコートの非存在下で単独で加熱することによって指向することのないブロックコポリマー薄膜内で上記ドメインの配向を可能にする。
(薄膜ブロックコポリマーの配向制御のための無水物コポリマートップコート)
トルエン中のポリ(4−tert−ブチルスチレン−co−メタクリル酸メチル−co−4−ビニル−ベンジルアジド)の0.5wt%溶液を、0.2ミクロンChromafil(登録商標)フィルターで濾過し、3000rpmで30秒間スピンコートし、約15nmの平滑なフィルムを得た。このフィルムを、ホットプレート上で5分間250℃に加熱して架橋し、その後、トルエンにより3回3000rpmですすぎ、架橋されていない鎖を除去した。すすがれた後の最終フィルム厚さは、楕円偏光法により測定した場合、約14nmであった。トルエン中のポリ(スチレン−ブロック−4−トリメチルシリルスチレン−ブロック−スチレン)のさまざまな濃度の溶液(1〜2.5wt%)を、0.2ミクロンChromafil(登録商標)フィルターで濾過し、架橋された基材表面上にさまざまなスピン速度で入れ、約30〜60nm(1〜2×L0)の厚さを有する比較的平滑なフィルムを生成した。次いで、3:1(質量単位で)のMeOH:30wt%NH4OH水溶液中のトップコートの1wt%溶液(図5を参照のこと。)を、3000rpmでBCPフィルム上にスピンコートした。MeOH:30wt%NH4OH水溶液の溶液(質量単位で3:1)は、楕円偏光法により測定した場合、上記ブロックコポリマーフィルム厚さの変化を引き起こさないことを見出した。試料を、Thermolyne HP−11515Bホットプレート上で、190℃で1分間アニールした。それらを、すぐに取り除き、固体金属ブロック上で室温まで冷却した。上記トップコートを、MeOH:30wt%NH4OH水溶液(3:1)により剥離した。剥離された試料は、ほとんど残余トップコート層を含まなかった(<=5nm)。上記ブロックコポリマーフィルムを、次の条件で酸素プラズマエッチングにより上記ブロックコポリマーをエッチングした:圧力=20mTorr、RF電力=10W、ICP電力=50W、O2流速=75sccm、アルゴン流速=75sccm、温度=15℃、時間=30秒。図5を参照のこと。
ポリ(4−メトキシスチレン−co−4−ビニルベンジルアジド)(XST−OMe)の0.5wt%トルエン溶液を、アセトンおよびイソプロパノールによりそれぞれ3回すすいでおいたウェーハ上で3000rpmで30秒間スピンコートした。このウェーハを、大気に開放されているホットプレート上で250℃で5分間アニールし、フィルムを架橋した。ホットプレートから取り除き室温まで冷却したら、次いで上記ウェーハを、トルエン中に2分間沈め、2回吹き付け乾燥し、架橋していないポリマーを除去した。代表的なフィルム厚さは、楕円偏光法により決定した場合約13〜15nmであった。ラメラを形成しているポリ(4−トリメチルシリルスチレン−ブロック−D,L−ラクチド)の1wt%トルエン溶液を、架橋したXST−OMeフィルムに対して適用した。
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3. Zhao,B.およびBrittain,W.J.(2000)「Polymer brushes:surface−immobilized macromolecules」,Prog.Polym.Sci.25(5),677−710.
Claims (46)
- 方法であって、該方法は、
a.表面を有する基材、表面中和層、ブロックコポリマー、およびトップコートを提供する工程、
b.第一層が作り出されるような条件の下、該表面中和層により該基材の表面を処理する工程、
c.ブロックコポリマーフィルムを含む第二層が該表面上に作り出されるような条件の下、ブロックコポリマーにより該表面中和層をコーティングする工程と、
d.該表面上に第三層を作り出すようにトップコートにより該ブロックコポリマーをコーティングする工程とを包含する方法であり、ここで、該第三層は、単独で熱アニールすることによって、該フィルムの面に対して垂直な該ブロックコポリマードメインの配向を可能にする、方法。 - 前記トップコート層の非存在下での熱アニールは、垂直である特徴部を生成しない、請求項1に記載の方法。
- 工程d)のトップコートは、前記ブロックコポリマーを傷つけもせず、溶かしもせず、実質的に膨張もさせない溶媒または溶媒混合物中にある、請求項1に記載の方法。
- 前記工程d)のトップコートは、該トップコートと反応する溶媒中にある、請求項1に記載の方法。
- 前記工程d)のトップコートは、溶媒混合物中にあり、そして該溶媒混合物は、該トップコートと反応する構成要素を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記トップコートは、水、アルコール、および有機溶媒からなる群の少なくとも1つから構成される液体に溶かされる、請求項1に記載の方法。
- 前記トップコートは、水、アルコールおよび有機溶媒からなる群のいずれか2つ以上の混合物から構成される液体に溶かされる、請求項1に記載の方法。
- 前記液体は、塩基をさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 前記液体は、塩基である、請求項7に記載の方法。
- 前記塩基は、アミンである、請求項8に記載の方法。
- 前記アミンは、アルキルアミン、脂肪族アミン、および官能基の任意の組み合わせに結合しているアミンからなる群から選択される、請求項10に記載の方法。
- 前記アミンは、塩である、請求項10に記載の方法。
- 前記塩は、アンモニウムカチオン、アルキルアンモニウムカチオンおよび脂肪族アンモニウムカチオンからなる群から選択されるカチオンを有する、請求項12に記載の方法。
- 前記塩は、カチオンの組み合わせを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記塩は、アニオンを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記アニオンは、水酸化物アニオンである、請求項15に記載の方法。
- 前記塩基は、水酸化アンモニウムを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記塩基は、水酸化アルキルアンモニウムを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記塩基は、トリメチルアミンを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記塩基は、塩とアミンの混合物を含む、請求項8に記載の方法。
- 前記反応したトップコートは、再び単離される、請求項4に記載の方法。
- 前記溶かされたトップコートは、再び単離される、請求項6に記載の方法。
- 前記再び単離されたトップコートは、請求項1に記載の方法において再び使用される、請求項22に記載の方法。
- 前記トップコートは、沈殿、蒸発および蒸留からなる群から選択される、1つまたは1つより多くの技術により再び単離される、請求項22に記載の方法。
- 工程d)の後に熱アニールする工程をさらに包含する、請求項1に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーを傷つけもせず、溶かしもせず、実質的に膨張もさせない剥離用溶剤により該ブロックコポリマーから前記トップコートを除去する工程をさらに包含する、請求項25に記載の方法。
- 前記トップコートは、無水物を含む、請求項3に記載の方法。
- 前記無水物は、マレイン酸無水物から誘導される、請求項27に記載の方法。
- 前記基材は、ケイ素、酸化ケイ素、ガラス、表面修飾ガラス、プラスチック、セラミック、透明基材、可撓性基材、およびロールツ−ロールプロセスにおいて使用される基材からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーは、複数の異なるブロックから構成される、請求項1に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーは、他のブロック(単数または複数)とは異なる速度でエッチングする少なくとも1つのブロックを含む、請求項30に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーは、少なくとも1つのブロックの中にケイ素を含む、請求項30に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーは、ポリ(スチレン−ブロック−4−トリメチルシリルスチレン−ブロック−スチレン)である、請求項30に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーは、ポリ(4−トリメチルシリルスチレン−ブロック−D,L−ラクチド)である、請求項30に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーは、少なくとも1つのブロックの中に錫を含む、請求項30に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーは、無機構成要素を含む、請求項30に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーは、有機金属構成要素を含む、請求項30に記載の方法。
- 前記熱アニールは、前記フィルムの面に対して垂直であるブロックコポリマードメインを作り出す、請求項25に記載の方法。
- 前記ドメインの形態は、ラメラ状、球状、および円柱状からなる群から選択される、請求項38に記載の方法。
- 前記熱アニールは、大気環境、不活性ガスの環境、圧力減少、および圧力増加からなる群から選択される条件の下で行われる、請求項25に記載の方法。
- 前記表面中和層は、架橋されたポリマー、ブラシ、自己組織化した単一層、化学修飾された表面、物理的に修飾された表面、および熱硬化表面からなる群から選択される構成要素を含む、請求項2に記載の方法。
- 方法であって、該方法は、
a)表面を有する基材、表面中和層、ブロックコポリマー、およびトップコートを提供する工程、
b)第一層が作り出されるような条件の下、該表面中和層により該基材の表面を処理する工程、
c)ブロックコポリマーフィルムを含む第二層が該表面上に作り出されるような条件の下、ブロックコポリマーにより該表面中和層をコーティングする工程、および
d)該表面上に第三層を作り出すようにトップコートにより該ブロックコポリマーをコーティングする工程、
e)該フィルムの面に対して垂直なブロックコポリマー特徴部の配向を可能にする条件の下、該第三層を処理する工程
を包含する方法。 - 前記工程e)の処理は、熱アニールを含む、請求項42に記載の方法。
- 前記トップコート層非存在下での熱アニールは、垂直である特徴部を生成しない、請求項43に記載の方法。
- 前記トップコートは、トリメチルアミン中に溶かされる、請求項42に記載の方法。
- 前記コーティングは、スピンコーティングを含む、請求項42に記載の方法。
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