JP2015003967A - 導電性薄膜、積層体、アクチュエータ素子及びその製造法 - Google Patents
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Abstract
Description
チュエータ素子を提供することができるようになった。そしてアクチュエータの伸縮率、高速応答性が飛躍的に大きくなる素子を得ることができるようになった。
本発明に用いられるイオン液体(ionic liquid)とは、常温溶融塩または単に溶融塩などとも称されるものであり、常温(室温)を含む幅広い温度域で溶融状態を呈する塩であり、例えば0℃、好ましくは−20℃、さらに好ましくは−40℃で溶融状態を呈する塩である。また、本発明で使用するイオン液体はイオン導電性が高いものが好ましい。
アニオン(X−)としては、テトラフルオロホウ酸イオン(BF4 -)、BF3CF3 -、BF3C2F5 -、BF3C3F7 -、BF3C4F9 -、ヘキサフルオロリン酸イオン(PF6 -)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドイオン((CF3SO2)2N-)、ビス(フルオロメタンスルホニル)イミドイオン((FSO2)2N-)、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミドイオン((CF3CF2SO2)2N-)、過塩素酸イオン(ClO4 -)、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)炭素酸イオン(CF3SO2)3C-)、トリフルオロメタンスルホン酸イオン(CF3SO3 -)、ジシアンアミドイオン((CN)2N-)、トリフルオロ酢酸イオン(CF3COO-)、有機カルボン酸イオンおよびハロゲンイオンが例示できる。
(メソポーラス)カーボンブラック及び/又は(メソポーラス)グラファイト:
1〜98重量%、好ましくは25〜66重量%、より好ましくは17〜50重量%;
ポリマー:
1〜98重量%、好ましくは17〜50重量%、より好ましくは17〜40重量%;
イオン液体:
1〜98重量%、好ましくは17〜50重量%、より好ましくは17〜50重量%;
である。
1. 使用した薬品、材料
エチルメチルイミダゾリウム テトラフルオロボレート(EMIBF4),エチルメチルイミダゾリウム トリフルオロメタントリフルオロボレート(EMICF3BF3)エチルメチルイミダゾリウム ビス(フルオロメタンスルホニル)イミド(EMIFSI)エチルメチルイミダゾリウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(EMITFSI)、
使用した導電性薄膜層及びイオン伝導体用ベースポリマー:ポリフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(PVDF(HFP))ポリマー
IL(イオン液体)200mg、PVdF(HFP)(Kynar Flex2801)、PC 500mg、MP 6mlを、80℃に液温を上げて30分以上撹拌し、作製したキャスト液0.3mlを25mmx25mmのキャスト枠中にキャストし、溶媒を蒸発させて、ゲル電解質フィルムを得る。厚みは約20μm程度である。
3.電極/電解質ゲル/電極3層構造からなるアクチュエータ素子の変位測定方法
図1に示す様にレーザー変位計を用い、素子を2mmx10mmの短冊状に切り取り、電圧を加えた時の4mmの位置の変位を測定した。
また伸縮率(ε)は
電極の導電率は、電極の両端、および、表面の2点間に金ペーストで直径50μmの金線を接合し、両端の金線に定電流源で一定電流を流し、表面に接続した接点間の電圧を測定することで、電極の抵抗を測定した。この時の電極の厚みd、電極の幅をbとすると断面積S=bdである。流した電流がI、測定した電圧がV、電圧測定端子間距離がLとすると、
コンダクタンス G=I/V[S]
導電率=GL/S[Scm-1]
となる。
引張り試験機を用い、応力―歪み特性から、電極フィルムのヤング率を求めた。
作成した電極フィルムを直径7mmに切り取り、ステンレス製の電極で挟み込んで、サイクリックボルタンメトリ法により、±0.5V、0.001V/sの条件で測定を行った。測定値は電極フィルム中のメソポーラスカーボンブラックのグラム当りの容量値として(Fg-1)表した。
作成した電極フィルム、ゲル電解質フィルム、およびそれらの積層体からなるアクチュエータ素子フィルムの厚みは、マイクロメーターを用いて測定した。
σ= Y ×εmax.
σ; アクチュエータ素子の最大発生力, εmax; アクチュエータ素子の最大伸縮率、Y; 電極層のヤング率
電極膜(導電性薄膜)の作製
MCB(ALDRICH 699632)50mg、PVdF(HFP) 80 mg、EMIBF4 120 mgを試料瓶にとり、溶媒DMAc 4mlを入れマグネティックスターラーで撹拌を1日間行う。その後、溶媒DMAc 5mlを入れマグネティックスターラーで撹拌を1日間行い、キャスト液を得た。25mm角のテフロン型に上記キャスト液をそれぞれ2.4mlキャストし、温度50℃で一昼夜乾燥した。その後、温度を80℃にして減圧乾燥一昼夜行い、電極膜を得た。
電極膜の作製
実施例1のうち、EMIBF4をEMICF3BF3に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表5に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表4に示す。素子の応答性能(曲げ及び高速応答)がカーボンブラックを用いた実施例5(表11)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例1のうち、EMIBF4をEMIFSIに変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表7に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表6に示す。素子の応答性能(曲げ及び高速応答)がカーボンブラックを用いた実施例5(表11)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例1のうち、EMIBF4をEMITFSIに変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表9に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表8に示す。素子の応答性能(曲げ及び高速応答)がカーボンブラックを用いた実施例5(表11)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例1のうち、MCB(ALDRICH 699632 )をカーボンブラック(CB;HS-100)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表11に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表10に示す。
Claims (11)
- カーボンブラック又はグラファイト、ポリマーおよびイオン液体から構成される導電性薄膜。
- 前記カーボンブラック又はグラファイトがメソポーラスカーボンブラックまたはメソポーラスグラファイトである、請求項1に記載の導電性薄膜。
- 請求項1又は2に記載の導電性薄膜層とイオン伝導層を有する積層体。
- 請求項3に記載の積層体を含むアクチュエータ素子。
- イオン伝導層の表面に、請求項1又は2に記載の導電性薄膜を電極とする導電性薄膜層が互いに絶縁状態で少なくとも2個形成され、当該導電性薄膜層に電位差を与えることにより変形可能に構成されている請求項4に記載のアクチュエータ素子
- 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンブラック又はグラファイト、ポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いる導電性薄膜の形成と工程2の溶液を用いるイオン伝導層の形成を同時にあるいは順次行い、導電性薄膜層とイオン伝導層の積層体を形成する工程。 - 前記カーボンブラック又はグラファイトがメソポーラスカーボンブラックまたはメソポーラスグラファイトである、請求項6に記載のアクチュエータ素子の製造方法。
- 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンブラック又はグラファイト、ポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出しまたは射出により、導電性薄膜を形成、その後、必要に応じて、作製した導電性薄膜の熱厚密化を行い、密度を大きくする工程、あるいは数枚の導電性薄膜を熱圧着すると同時に厚密化し、密度を大きくする工程
工程4:工程2の分散液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出しまたは射出により、イオン伝導層を形成する工程;
工程5:工程3で形成した導電性薄膜と工程4で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。 - 前記カーボンブラック又はグラファイトがメソポーラスカーボンブラックまたはメソポーラスグラファイトである、請求項8に記載のアクチュエータ素子の製造方法。
- 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンブラック又はグラファイト、ポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いキャスト後加熱により、導電性薄膜を形成する工程
工程4:工程2の分散液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導層を形成する工程;
工程5:工程3で形成した導電性薄膜と工程4で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。 - 前記カーボンブラック又はグラファイトがメソポーラスカーボンブラックまたはメソポーラスグラファイトである、請求項10に記載のアクチュエータ素子の製造方法。
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