JP2012135074A - カーボンナノチューブとポリフッ化ビニリデンポリマーおよびイオン液体から構成される導電性薄膜、アクチュエータ素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマーおよびイオン液体から構成される導電性薄膜。
【選択図】なし
Description
項1. カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマーおよびイオン液体から構成される導電性薄膜。
項2. 項1に記載の導電性薄膜層とイオン伝導層を有する積層体。
項3. 項2に記載の積層体を含むアクチュエータ素子。
項4. イオン伝導層の表面に、項1に記載の導電性薄膜を電極とする導電性薄膜層が互いに絶縁状態で少なくとも2個形成され、当該導電性薄膜層に電位差を与えることにより変形可能に構成されている項3に記載のアクチュエータ素子
項5. 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いる導電性薄膜の形成と工程2の溶液を用いるイオン伝導層の形成を同時にあるいは順次行い、導電性薄膜層とイオン伝導層の積層体を形成する工程。
項6. 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出しまたは射出により、導電性薄膜を形成、その後、必要に応じて、作製した導電性薄膜の熱厚密化を行い、密度を大きくする工程、あるいは数枚の導電性薄膜を熱圧着すると同時に厚密化し、密度を大きくする工程
工程4:工程2の分散液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出しまたは射出により、イオン伝導層を形成する工程;
工程5:工程3で形成した導電性薄膜と工程4で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。
項7. 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いキャスト後加熱により、導電性薄膜を形成する工程
工程4:工程2の分散液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導層を形成する工程;
工程5:工程3で形成した導電性薄膜と工程4で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。
カーボンナノチューブ:
1〜98重量%、好ましくは33〜66重量%、より好ましくは17〜50重量%;
ポリフッ化ビニリデンポリマー:
1〜98重量%、好ましくは17〜50重量%、より好ましくは17〜33重量%;
イオン液体:
1〜98重量%、好ましくは17〜50重量%、より好ましくは17〜50重量%;
である。
1. 使用した薬品、材料
エチルメチルイミダゾリウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(EMITFSI)、エチルメチルイミダゾリウム テトラフルオロボレート(EMIBF4)
使用した導電性薄膜層及びイオン伝導体用ベースポリマー:ポリフッ化ビニリデン(PVDF)ポリマー及びポリフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(PVDF(HFP))ポリマーの物性を表1に示す。
N,N’-ジメチルアセトアミド(DMAc)
プロピレンカーボネート(PC)
メチルペンタノン(MP)
IL(イオン液体)200mg、PVdF(HFP)(Kynar Flex2801)、PC 500mg、MP 6mlを、80℃に液温を上げて30分以上撹拌し、作製したキャスト液0.3mlを25mmx25mmのキャスト枠中にキャストし、溶媒を蒸発させて、ゲル電解質フィルムを得る。厚みは約20μm程度である。
図1に示す様にレーザー変位計を用い、素子を2mmx10mmの短冊状に切り取り、電圧を加えた時の4mmの位置の変位を測定した。
また伸縮率(ε)は
D:素子の厚さ
δ:変位
電極の導電率は、電極の両端、および、表面の2点間に金ペーストで直径50μmの金線を接合し、両端の金線に定電流源で一定電流を流し、表面に接続した接点間の電圧を測定することで、電極の抵抗を測定した。この時の電極の厚みd、電極の幅をbとすると断面積S=bdである。流した電流がI、測定した電圧がV、電圧測定端子間距離がLとすると、
コンダクタンス G=I/V[S]
導電率=GL/S[Scm-1]
となる。
引張り試験機を用い、応力―歪み特性から、電極フィルムのヤング率を求めた。
作成した電極フィルムを直径7mmに切り取り、ステンレス製の電極で挟み込んで、サイクリックボルタンメトリ法により、±0.5V、0.001V/sの条件で測定を行った。測定値は電極フィルム中のカーボンナノチューブのグラム当りの容量値として(Fg-1)表した。
作成した電極フィルム、ゲル電解質フィルム、およびそれらの積層体からなるアクチュエータ素子フィルムの厚みは、マイクロメーターを用いて測定した。
σ= Y ×εmax.
σ; アクチュエータ素子の最大発生力, εmax; アクチュエータ素子の最大伸縮率、Y; 電極層のヤング率
電極膜(導電性薄膜)の作製
CNT50mg、PVdF(Kynar741) 80 mg、 EMIBF4120 mgを試料瓶にとり、溶媒DMAc 4mlを入れマグネティックスターラーで撹拌を3日間行う。さらに試料瓶を超音波分散(20KHz)1時間、その後、溶媒DMAc 5mlを入れマグネティックスターラーで撹拌を1日間行い、超音波分散(20KHz)4時間してキャスト液を得た。その後、試料瓶を逆さまにしても流れない程度に固化した。CNTが分散し、ネットワークを作ることによってゲル状になり、固化したものと思われる。25mm角のテフロン(登録商標)型に上記キャスト液をそれぞれ2.4mlキャストし、温度55℃で一昼夜乾燥した。その後、温度を80℃にして減圧乾燥一昼夜行い、電極膜を得た。
電極膜の作製
実施例1のうち、PVdF(Kynar741)をPVdF(Kynar761)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表5に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表4に示す。素子の応答性能(曲げ)とアクチュエータ素子の最大発生力が比較例1(表10、11)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例1のうち、PVdF(Kynar741)をPVdF(Kynar761A)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表7に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表6に示す。素子の応答性能(曲げ)とアクチュエータ素子の最大発生力が比較例1(表10、11)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例1のうち、PVdF(Kynar741)をPVdF(Kynar HSV900)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表9に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表8に示す。素子の応答性能(曲げ及び高速応答)とアクチュエータ素子の最大発生力が比較例1(表10、11)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例1のうち、PVdF(Kynar741)をPVdF(HFP)(Kynar Flex2801)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表11に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表10に示す。
電極膜の作製
実施例1のうち、EMIBF4 をEMITFSIに変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表13に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表12に示す。素子の応答性能(曲げ及び高速応答)とアクチュエータ素子の最大発生力が比較例2(表20、21)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例5のうち、PVdF(Kynar741)をPVdF(Kynar761)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表15に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表14に示す。素子の応答性能(曲げ及び高速応答)とアクチュエータ素子の最大発生力が比較例2(表20、21)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例5のうち、PVdF(Kynar741)をPVdF(Kynar761A)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表17に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表16に示す。素子の応答性能(曲げ及び高速応答)とアクチュエータ素子の最大発生力が比較例2(表20、21)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例5のうち、PVdF(Kynar741)をPVdF(Kynar HSV900)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表19に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表18に示す。素子の応答性能(曲げ及び高速応答)とアクチュエータ素子の最大発生力が比較例2(表20、21)と比べて飛躍的に上昇していることがわかる。
電極膜の作製
実施例1のうち、PVdF(Kynar741)をPVdF(HFP)(Kynar Flex2801)に変更して行った。
電極間に周波数の異なる±2.0Vの三角波電圧を加えた時に観測された変位を表21に示す。また電極膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表20に示す。
Claims (7)
- カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマーおよびイオン液体から構成される導電性薄膜。
- 請求項1に記載の導電性薄膜層とイオン伝導層を有する積層体。
- 請求項2に記載の積層体を含むアクチュエータ素子。
- イオン伝導層の表面に、請求項1に記載の導電性薄膜を電極とする導電性薄膜層が互いに絶縁状態で少なくとも2個形成され、当該導電性薄膜層に電位差を与えることにより変形可能に構成されている請求項3に記載のアクチュエータ素子
- 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いる導電性薄膜の形成と工程2の溶液を用いるイオン伝導層の形成を同時にあるいは順次行い、導電性薄膜層とイオン伝導層の積層体を形成する工程。 - 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出しまたは射出により、導電性薄膜を形成、その後、必要に応じて、作製した導電性薄膜の熱厚密化を行い、密度を大きくする工程、あるいは数枚の導電性薄膜を熱圧着すると同時に厚密化し、密度を大きくする工程
工程4:工程2の分散液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出しまたは射出により、イオン伝導層を形成する工程;
工程5:工程3で形成した導電性薄膜と工程4で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。 - 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法:
工程1:カーボンナノチューブ、ポリフッ化ビニリデンポリマー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程;
工程2:ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の分散液を用いキャスト後加熱により、導電性薄膜を形成する工程
工程4:工程2の分散液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導層を形成する工程;
工程5:工程3で形成した導電性薄膜と工程4で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。
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