JP2014519559A - 非シアン化物ベースの電解研磨 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
Claims (10)
- 電解槽アセンブリを含む金属研磨システムであって、前記電解槽アセンブリは、
正電極に接続され、複数の研磨対象金属を受け取るように構成されたアノード固定具と、
負電極に接続されたカソードと、
前記アノード固定具と前記カソードとの間でイオンが移動することを可能にするように構成されたストリッピング溶液と、を備え、
前記ストリッピング溶液はシアン化物を含まない、
システム。 - 前記アノード固定具は、チタン製の治具から選択される、請求項1に記載のシステム。
- 前記カソードは、ステンレス鋼から選択される、請求項1に記載のシステム。
- 前記アノード固定具及び前記カソードの面積比は1:1に維持される、請求項1に記載のシステム。
- 前記ストリッピング溶液はチオ尿素ベースの溶液である、請求項1に記載のシステム。
- 前記ストリッピング溶液は、チオ尿素と、蒸留水、還元糖、活性化酸、及び湿潤剤のうちの少なくとも1つとを均一混合させたものである、請求項1に記載のシステム。
- 前記電解槽アセンブリと蒸気連通するように設けられたスクラバ装置を更に含み、前記スクラバ装置は、
前記電解アセンブリ内で発生するガスから酸性物質を除去するように構成されたバルブと、
前記電解アセンブリ内で発生するガスから懸濁粒子を除去するように構成されたスクラバ水と、を備える、
請求項1に記載のシステム。 - ストリッピング溶液を調製するステップと、
前記ストリッピング溶液を予熱するステップと、
正電極に接続されたアノードと、負電極に接続されたカソードとを、前記ストリッピング溶液中に設けるステップと、
前記アノード及び前記カソードに所望の電圧を与えるステップと、
を含む金属研磨方法であって、
前記アノードは複数の研磨対象金属を含み、
前記ストリッピング溶液はシアン化物を含まない、
方法。 - 前記金属研磨中に発生するガスを清浄化する工程を更に含む、請求項8に記載の金属研磨方法。
- 前記ストリッピング溶液は、チオ尿素と、蒸留水、還元糖、活性化酸、及び湿潤剤のうちの少なくとも1つとを均一混合させたものである、請求項9に記載の金属研磨方法。
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