JP2014518565A - 廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】
Description
[発明の内容]
[14]図2は、廃ルテニウム(Ru)ターゲットにプラズマを用いて製造された飛散ルテニウム(Ru)粉末に関するFESEMイメージである。
[15]図3は、プラズマによって製造されたルテニウム(Ru)粉末を用いて粉砕、大気熱処理及び水素熱処理されたルテニウム(Ru)粉末に関するFESEMイメージである。
[20]以下、上記工程段階に関して詳細に説明する。
[21]先に、廃ルテニウム(Ru)ターゲットの表面に残存する汚染物や異物質を化学的または機械的な方法を用いて取り除く。
上記の機械的な加工法たちを用いて取り除く場合には 0.1mm程度の厚さを取り除くのが望ましいが、これは薄い場合酸化膜などの除去が完璧なのないこともあって、厚い場合最終粉末収率を低下させることができるからだ。
[24]次の段階で, 汚染物及び異物質が除去された廃ルテニウム(Ru)ターゲットに熱プルラズマを用いてルテニウム(Ru)粉末を製造する。
[38]高温加圧成形によって製造された高密度ルテニウム(Ru)焼結体に対して旋盤加工及び研磨などを実施してスポトリングのための表面粗度確保及び最終ターゲットを製造する。
[40]
[42]廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いたルテニウム(Ru)粉末を製造するためにハードディスクのシード層(Seed Layer)用に使われた3N7純度、14μm結晶粒を持つ廃ルテニウム(Ru)ターゲット1.8kgを購入した。 廃ルテニウム(Ru)ターゲット表面異物質及び汚染源を取り除くため、次塩素酸ナトリュム(NaClO)に30分間沈積させたし、表面についた溶液を洗滌した。 異物質が除去された廃ルテニウム(Ru)ターゲットに対して熱プラズマ装備を用いてルテニウム(Ru)粉末1.8kgを製造した。
[47]
[50]
Claims (12)
- 廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いて超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットを製造するにおいて、
化学的または機械的な方法を用いて廃ルテニウムターゲットの表面に残存する汚染物及び異物質を取り除く段階;
上記汚染物及び異物質が除去された廃ルテニウムターゲットにプラズマを用いてルテニウム粉末を製造する段階;
上記製造されたルテニウム粉末に熱処理及び粉砕を用いて高純度化されたルテニウム粉末を製造する段階;
上記高純度化されたルテニウム粉末に高温加圧成形を用いて高密度のルテニウム焼結体を製造する段階;
後加工を通じて表面粗度が制御されたルテニウムターゲットを製造する段階で構成されることを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲット製造方法。 - 請求項1において、
上記廃ルテニウム(Ru)ターゲットの表面汚染物及び異物質の除去は化学的な方法または機械的な方法を用いることを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲット製造方法。 - 請求項2において、
上記廃ルテニウムターゲット表面の汚染物及び異物質を取り除く化学的な方法で次塩素酸ナトリュム(NaClO)溶液または次塩素酸ナトリュム(NaClO)が混合した溶液を用いることを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項2において、
上記廃ルテニウムターゲット表面の汚染物及び異物質を取り除く機械的な方法で旋盤または研磨加工などを用いることを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項1において、
上記プラズマを用いてルテニウム(Ru)粉末を製造する段階で使われるモールドの材質は黒煙(Graphite)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)またはルテニウム(Ru)中で選択されたどのひとつののを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項1において、
上記プラズマを用いてルテニウム(Ru)粉末を製造する段階で使われる電極の材質はモリブデン(Mo)、タングステン(W)またはルテニウム(Ru)中で選択されたどのひとつだということを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項1において、
上記プラズマを形成の時Ar、H2、N2、またはCH4中1種以上のガスを使ってプラズマを形成させることを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項1において、
上記プラズマを用いて製造されたルテニウム(Ru)粉末の熱処理は大気熱処理及び水素熱処理を行って高純度Ru粉末を得ることを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項8において、
上記大気熱処理は800℃乃至1000℃の温度で1乃至5時間の間熱処理することを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項8において、
上記水素熱処理は800℃乃至1000℃の温度で1乃至5時間の間熱処理することを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項1において、
上記プラズマを用いて製造されたルテニウム(Ru)粉末の粉砕はボルミル(BallMill)、リュウセイミル(Planetary Mill)またはジェットミル(Jet Mill)中で選択されたどのひとつだということを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。 - 請求項1において、
上記高温加圧成形は熱間成形(Hot Press)、高温等方向成形(Hot Isostatic Press)またはプラズマ焼結(Spark PlasmaSintering)中で選択されたどのひとつだということを特徴とする廃ルテニウム(Ru)ターゲットを用いた超高純度ルテニウム(Ru)粉末及びターゲットの製造方法。
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