JP5577454B2 - 共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法 - Google Patents
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Description
化学的又は物理的な方法を用いて使用済みタンタル(Ta)ターゲットの表面に残存した汚染物を取り除く段階(S10)と、
汚染物が除去された使用済みタンタル(Ta)ターゲットと、該タンタルと共晶反応する元素を、それぞれ秤量して、望ましい割合でプラズマ装置内部に装入する段階(S20)と、
プラズマ装置内部を減圧して、反応ガスを投入し、電力を印加して低電力のプラズマを形成させて、タンタル(Ta)共晶合金を製造する段階(S30)と、
該共晶合金に対して高電力プラズマを印加して、超微細化したタンタル(Ta)共晶合金粉末を製造する段階(S40)と、
製造されたタンタル(Ta)共晶合金粉末に混入したカーボン及び酸素の除去のために熱処理をする段階(S50)と、
熱処理された粉末から共晶反応元素を化学的方法で取り除いて、高純度化及び超微細化したタンタル(Ta)粉末を製造する段階(S60)と、
で構成されることを特徴とする。
Claims (9)
- 使用済みタンタル(Ta)ターゲットを用いてタンタル(Ta)粉末を製造する方法であって、
化学的又は物理的な方法を用いて使用済みタンタル(Ta)ターゲットの表面に残存した汚染物を取り除く段階と、
汚染物が除去された使用済みタンタル(Ta)ターゲットと共晶反応元素を各々秤量して、融点が1500℃以下になるような割合でプラズマ装置内部に装入する段階と、
プラズマ装置内部を減圧して、反応ガスを投入し、電力を印加して20kw以下の第一の電力のプラズマを形成させてタンタル(Ta)共晶合金を製造する段階と、
10〜100kwであって前記第一の電力より高い第二の電力のプラズマを印加して微細化したタンタル(Ta)共晶合金粉末を製造する段階と、
製造されたタンタル(Ta)共晶合金粉末に混入されたカーボン及び酸素の除去のために熱処理をする段階と、
熱処理されたタンタル(Ta)共晶合金粉末から共晶反応元素を取り除いて、高純度及び微細なタンタル(Ta)粉末を製造する段階と
を含むことを特徴とする共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。 - 前記タンタル(Ta)粉末及びタンタル(Ta)共晶合金粉末は、1〜300μmのミクロン単位の粉末であることを特徴とする、請求項1に記載の共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。
- 前記タンタル(Ta)粉末及びタンタル(Ta)共晶合金粉末は、1nm〜1μmのナノ単位の粉末であることを特徴とする、請求項1に記載の共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。
- 前記タンタル(Ta)共晶合金を製造する前記段階は、真空溶解法及びプラズマアーク溶解法から選択された、いずれか一つの方法によって行われることを特徴とする、請求項1に記載の共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。
- 前記共晶反応元素はアルミニウム(Al)、銅(Cu)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)から選択されたいずれか一つ又はそれ以上であることを特徴とする、請求項1に記載の共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。
- 前記反応ガスは、アルゴン(Ar)、窒素(N 2 )、酸素(O 2 )、水素(H 2 )、ヘリウム(He)、メタン(CH 4 )の中から選択されたいずれか一つ又はそれ以上であることを特徴とする、請求項1に記載の共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。
- 前記熱処理は、大気(Air)、水素(H 2 )、酸素(O 2 )、真空雰囲気で500℃〜1500℃の温度で熱処理することを特徴とする、請求項1に記載の共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。
- 前記熱処理は、大気(Air)、水素(H 2 )、酸素(O 2 )、真空雰囲気で800℃〜1200℃の温度で熱処理することを特徴とする、請求項1に記載の共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。
- 前記共晶反応元素を取り除く方法は、HNO 3 、HCl、H 2 SO 4 、FeClから選択されたいずれか一つ又はそれ以上を用いて、タンタル(Ta)共晶合金粉末から共晶反応元素を取り除くことを特徴とする、請求項1に記載の共晶合金を用いたタンタル(Ta)粉末の製造方法。
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