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  1. 化学的な製造機器の洗浄に使用するための還流式の洗浄組成物であって、該還流式の洗浄組成物は、
    .ノルマルプロピルアルコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、乳酸エチル、プロピレングリコール n−プロピルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、エチレングリコール n−ブチルエーテル、ジエチレングリコール n−ブチルエーテル、およびそれらの2つ以上の混合物から成る群から選択される少なくとも2つの生物分解性の溶媒の配合物、を含み、
    ここで、選択された溶媒の蒸気圧は、0.1乃至7.0の範囲であり(mmHg@25℃)、選択された溶媒の蒸気密度は、2.0乃至6.0の範囲であり(空気=1)、選択された溶媒の沸点は、100℃乃至150℃の範囲であり、選択された溶媒の比熱(j/g/℃)は、0.3乃至2.3の範囲であり、および選択された溶媒の蒸発熱(j/g@BP)は、250.0乃至270.0の範囲であることを特徴とする還流式の洗浄組成物。
  2. 界面活性剤は、アルコールエトキシレート、EO/POブロックコポリマー、スルフォナート、リン酸エステル、アルカノアート、アミンオキシド、アルキルポリグルコシド、ジプロピオナート、またはそれらの混合物を含むことを特徴とする、請求項1に記載の還流式の洗浄組成物。
  3. 汚れた化学的な製造機器の洗浄に有用な水溶性の還流式の洗浄組成物であって、該水溶性の還流式の洗浄組成物は、
    a.エーテル、ノルマルプロピルアルコール、乳酸エチル、またはそれらの2つ以上の混合物を含む、少なくとも2つの生物分解性の溶媒の配合物;
    b.界面活性剤;
    c.緩衝液;
    d.キレート剤;
    e.腐食抑制剤;
    f.再付着防止剤;および
    g.水、を含み、
    ここで、選択された溶媒の蒸気圧は、0.1乃至7.0の範囲であり(mmHg@25℃)、選択された溶媒の蒸気密度は、2.0乃至6.0の範囲であり(空気=1)、選択された溶媒の沸点は、100℃乃至150℃の範囲であり、選択された溶媒の比熱(j/g/℃)は、0.3乃至2.3の範囲であり、および選択された溶媒の蒸発熱(j/g@BP)は、250.0乃至270.0の範囲である、ことを特徴とする水溶性の還流式の洗浄組成物。
  4. エーテルの溶媒は、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール n−プロピルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、エチレングリコール n−ブチルエーテル、ジエチレングリコール n−ブチルエーテル、またはそれらの混合物をさらに含むことを特徴とする、請求項3に記載の水溶性の還流式の洗浄組成物。
  5. 汚れた化学的な製造機器を洗浄するための還流式の洗浄組成物であって、該還流式の洗浄組成物は、
    a.プロピレングリコール−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、乳酸エチル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジエチレングリコール n−ブチルエーテル、またはそれらの混合物を含む、少なくとも2つの生物分解性の溶媒の配合物;
    b.スルフォナート、リン酸エステル、アミンオキシド、EO/POブロックコポリマー、アルキルポリグルコシド、アルキルジプロピオナート、またはそれらの混合物である、界面活性剤;
    c.キレート剤;
    d.緩衝液;および
    e.水を含み、
    ここで、選択された溶媒の蒸気圧は、0.1乃至7.0の範囲であり(mmHg@25℃)、選択された溶媒の蒸気密度は、2.0乃至6.0の範囲であり(空気=1)、選択された溶媒の沸点は、100℃乃至150℃の範囲であり、選択された溶媒の比熱(j/g/℃)は、0.3乃至2.3の範囲であり、および選択された溶媒の蒸発熱(j/g@BP)は、250.0乃至270.0の範囲であることを特徴とする還流式の洗浄組成物。
  6. キレート剤およびアルカノアートの界面活性剤をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の還流式の洗浄組成物。
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