JP2014512986A - モールドキャスティングを用いたディスプレイパネル用ベゼルの製造方法及びこれを通して製造されるディスプレイパネル用ベゼル - Google Patents

Abstract

【課題】不要な資材費を減少させ、３次元表面形状を容易に付与することができ、変形を最小化することができるディスプレイパネル用ベゼルの製造方法を実現できるようにする。
【解決手段】本発明に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、（ａ）成形面に前記ベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成された下部モールドを用意する段階；（ｂ）前記下部モールドの成形面の枠にガスケットを締結する段階；（ｃ）前記下部モールドのガスケット上に、原料注入部を備える上部モールドを締結する段階；（ｄ）前記上部モールドの原料注入部を通して前記ベゼルの高分子原料を注入する段階；及び（ｅ）前記高分子原料を硬化させながら、前記下部モールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する段階；を含むことを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、ディスプレイパネルの枠に付着され、このディスプレイパネルを支持するベゼルの製造方法及びこれを通して製造されるディスプレイパネル用ベゼルに関し、より詳細には、不要な資材費用を減少させ、３次元パターンの具現が容易なモールドキャスティング方式を用いるディスプレイパネル用ベゼルの製造技術に関する。

「ベゼル（Ｂｅｚｅｌ）」とは、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの多様なパネルを支持及び／又は収納するために使用されるフレーム、シャーシなどをいう。

一般に、テレビ、パーソナルコンピューターのモニター、携帯電話などに画面表示器具として使用される液晶表示装置は、画面を表示するディスプレイパネルと、ディスプレイパネルを支持及び収納するベゼルとを備える。

このような液晶ディスプレイパネル用ベゼルは、通常、アクリル系樹脂などを押出加工して中央部を除去し、プレート状に製造される。

しかし、このような従来のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、アクリルプレートの中央部を除去して平面フレームを設けるので、切断されて捨てられる量が相当あり、資材費用が上昇するという問題を有する。

また、従来のディスプレイパネル用ベゼルは、アクリル押出を通して製造されるので、深み感を与える３次元パターンの具現が難しいという問題を有する。

押出成形過程での３次元表面パターンの形成においては、ベゼルの強度的な問題により、相対的に薄い厚さの３次元パターンしか形成できないという問題がある。

また、射出成形過程での３次元表面パターンは、相対的に厚い３次元パターンは形成できるが、モールドの変形が問題となったり、或いは脱型が問題となるので、大きいサイズの製品の成形が難しい。

本発明の目的は、不要な資材費用を減少させ、３次元表面パターンを容易に形成することができ、また、モールドの変形を防止することができ、脱型を容易に行えるディスプレイパネル用ベゼルの製造方法を提供することにある。

本発明の他の目的は、前記方法を通して表面に３次元パターンが形成されたディスプレイパネル用ベゼルを提供することにある。

前記の一つの目的を達成するための本発明の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、（ａ）成形面に前記ベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成された下部モールドを用意する段階；（ｂ）前記下部モールドの成形面の枠にガスケットを締結する段階；（ｃ）前記下部モールドのガスケット上に、原料注入部を備える上部モールドを締結する段階；（ｄ）前記上部モールドの原料注入部を通して前記ベゼルの高分子原料を注入する段階；及び（ｅ）前記高分子原料を硬化させながら、前記下部モールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する段階；を含むことを特徴とする。

前記の一つの目的を達成するための本発明の他の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、（ａ）成形面に前記ベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成された下部モールドを用意する段階；（ｂ）前記下部モールドの成形面の枠にガスケットを締結する段階；（ｃ）前記下部モールドの成形面上にベゼルの高分子原料を注入する段階；（ｄ）前記下部モールドのガスケット上に上部モールドを締結する段階；及び（ｅ）前記高分子原料を硬化させながら、前記下部モールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する段階；を含むことを特徴とする。

前記の一つの目的を達成するための本発明の更に他の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、（ａ）成形面に前記ベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成されたモールドを用意する段階；（ｂ）前記モールドの成形面の枠にガスケットを締結する段階；（ｃ）前記モールドの成形面上にベゼルの高分子原料を注入する段階；及び（ｄ）前記高分子原料を硬化させながら、前記モールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する段階；を含むことを特徴とする。

前記の他の目的を達成するための本発明の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルは、少なくとも一つの表面に３次元パターンが形成された樹脂組成物の硬化物からなる基材；及び前記基材の少なくとも一つの表面にコーティングされたガラス膜層；を含むことを特徴とする。

本発明に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、モールドキャスティング方式でベゼルを製作するので、既存の押出方式と異なって不要な資材費を節減できるという長所を有する。

また、本発明に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、モールドの内部で原料を硬化すると同時に、モールドの成形面に形成された３次元パターンを硬化物に転写できるので、製造されるディスプレイパネル用ベゼルの表面に容易に３次元パターンを付与することができる。

また、本発明に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、モールドの外部にガラスなどの材質で形成されたフレーム部を付着し、モールドの変形が発生することを防止することができる。

本発明の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法を概略的に示したフローチャートである。 本発明に適用され得る下部モールドの断面図である。 本発明に適用され得る下部モールドの平面図である。 本発明に適用され得る下部モールドの他の断面図である。 本発明に適用され得る下部モールド及び上部モールドの例を示した図である。 本発明に適用され得る下部モールド及び上部モールドの他の例を示した図である。 本発明の上下部モールドに注入された樹脂組成物を示した概略図である。 本発明の他の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法を概略的に示したフローチャートである。 本発明の更に他の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法を概略的に示したフローチャートである。

本発明の利点及び特徴、そして、それらを達成する方法は、添付の図面と共に詳細に説明している各実施例を参照すれば明確になるだろう。しかし、本発明は、以下で開示する各実施例に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で具現可能である。ただし、本実施例は、本発明の開示を完全にし、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであって、本発明は、請求項の範疇によって定義されるものに過ぎない。明細書全体にわたる同一の参照符号は同一の構成要素を示す。

以下、添付の図面を参照して、本発明に係るモールドキャスティングを用いたディスプレイパネル用ベゼルの製造方法及びディスプレイパネル用ベゼルについて詳細に説明する。

図１は、本発明の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法を概略的に示したフローチャートである。

図１を参照すると、図示したディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、下部モールド用意段階（Ｓ１１０）、ガスケット締結段階（Ｓ１２０）、上部モールド締結段階（Ｓ１３０）、原料注入段階（Ｓ１４０）、及び硬化／３次元パターン転写段階（Ｓ１５０）を含む。

また、熱処理段階（Ｓ１６０）をさらに含むことができ、ガラス膜コーティング段階（Ｓ１７０）をさらに含むことができる。

下部モールド用意段階（Ｓ１１０）では、成形面に前記ベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成された下部モールドを用意する。

図２と図３は、本発明に適用され得る下部モールドの例であって、図２は断面図、図３は平面図である。

下部モールド２１０は、メタル、テフロン、ゴムなどの成形面２１５に３次元パターンを容易に形成できる材質で形成されていることが望ましい。さらに、下部モールドは、耐食性及び強度に優れたステンレススチールで形成されることがさらに望ましい。

下部モールド２１０の成形面２１５に形成された３次元パターンは、図３に示したように、ディスプレイパネル用ベゼルの形状に応じて製作することができる。

このとき、前記各材質は、反りに脆弱であるため、単独で用いるときにモールドの変形が発生し得る。

このような点を防止するために、下部モールド２１０の外部面には、図４に示した例のように、ガラス、メタルハニカム（ｍｅｔａｌ ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）板材などの材質で形成されたフレーム部３１０が付着されていることが望ましい。これらガラスなどで形成されたフレーム部３１０は、反りに強いため、下部モールド２１０の変形を抑制することができる。

下部モールド２１０の成形面２１５の３次元パターンは、ＮＣ（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ ｃｏｎｔｒｏｌ）加工、化学的エッチング、スタンピングなどの多様な方法で形成することができる。

このとき、下部モールド２１０の成形面２１５の３次元パターンは、ディスプレイパネル用ベゼル表面の３次元パターンの厚さを決定する。したがって、下部モールド２１０の成形面２１５に１mm以上の厚さで３次元パターンを形成する場合、ディスプレイパネル用ベゼル表面にも１mm以上の厚さで３次元パターンを形成することができる。

一方、下部モールド２１０には、容易な脱型のために成形面２１５に離型処理剤が約２μmほどコーティングされていることが望ましい。

次に、ガスケット締結段階（Ｓ１２０）では、下部モールドの成形面の枠にガスケットを締結する。

ガスケット（図２の２２０）は、上部モールド及び下部モールドへの密封付与効果を有すると同時に、その厚さに応じて成形物の厚さも決定する役割をする。このようなガスケットには、シリコンゴムなどを用いることができる。

次に、上部モールド締結段階（Ｓ１３０）では、下部モールドのガスケット上に、原料注入部を備える上部モールドを締結する。

このとき、上部モールドは、成形面が平面形態であるか、成形面に３次元パターンを備えることができる。

まず、図５に示した例のように、本発明の上部モールド４１０の成形面は、平面形態であり得る。この場合、成形面が滑らかでなければならないので、上部モールド４１０の材質はガラス又は金属であることが望ましく、特にガラスであることがさらに望ましい。上部モールド４１０の成形面が平面形態であることから、製造されるディスプレイパネル用ベゼルは両面のうち一面が３次元パターンを有するようになる。３次元パターンを有する一面の裏面は平らであるので、後ほどの表面処理のためのコーティング、デザイン効果付与のための印刷工程などを容易に行うことができる。

一方、図６に示した例のように、上部モールド４１０は、下部モールド２１０の成形面２１５に形成された３次元パターンとは反対のパターンが形成された成形面４１５を備えることもできる。すなわち、上部モールド４１０の成形面４１５において、下部モールド２１０の成形面２１５のうち突出部分に対応する部分は凹状になり得る。その一方、上部モールド４１０の成形面４１５において、下部モールド２１０の成形面２１５のうち凹状部分に対応する部分は突出形態になり得る。

図６に示した例のように、互いに反対の３次元パターンを有する成形面が適用された下部モールド２１０と上部モールド４１０の構造は、ディスプレイパネル用ベゼルの硬化時における前記の注入された樹脂組成物の収縮程度を均一にすることができる。したがって、製造されるディスプレイパネル用ベゼルの３次元表面パターンの厚さ均一度を確保することができ、また、ディスプレイパネル用ベゼルの表面又は内部のボイド発生現象を減少させることができる。

このとき、前記下部モールド及び上部モールドは３〜２０mmの厚さを有することが望ましい。下部モールド及び上部モールドの厚さが３mm未満である場合は、それぞれのモールドの反り現象が発生し得る。その一方、下部モールド及び上部モールドの厚さが２０mmを超える場合は、取り扱いが難しいという問題がある。

次に、原料注入段階（Ｓ１４０）では、上部モールドの原料注入部を通してディスプレイパネル用ベゼルの原料を下部モールドの成形面上に注入する。原料注入部は、上部モールドを貫通するホールの形態になり、スリットの形態にもなり得る。

原料注入は、約１８〜２５℃の常温で行うことができる。

このとき、原料は、熱によって硬化される樹脂組成物になり得る。

このとき、樹脂組成物に含まれる樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン樹脂、オレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂などを適用することができる。これら樹脂は、単独で或いは２種以上混合して用いることができる。また、樹脂組成物には、フィラーとしてアルミナトリハイドレート（ＡＴＨ）などをさらに含むことができる。

これら樹脂組成物は、製造されるディスプレイパネル用ベゼルの色相、物性などに応じて多様に選択することができる。

例えば、透明なディスプレイパネル用ベゼルを製造する場合、原料は、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）を主成分とする樹脂組成物になり得る。白色ディスプレイパネル用ベゼルを製造する場合、原料は、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）とアルミナトリハイドレート（ＡＴＨ）を主成分とする樹脂組成物になり得る。

このとき、前記樹脂組成物としては、３００〜５００ｃＰｓの粘度を有するものを用いることが望ましい。前記範囲では、樹脂組成物の注入を容易に行うことができる。樹脂組成物の粘度が３００ｃＰｓ未満である場合は、硬化時間が長くなり、製造される高分子成形体の密度が不十分になり得る。一方、樹脂組成物の粘度が５００ｃＰｓを超える場合は、樹脂組成物が容易に注入されにくいという問題がある。

一方、前記原料には、デザイン的効果などを付与するために、パール（ｐｅａｒｌ）、顔料、チップなどをさらに含ませることができる。

次に、硬化／３次元パターン転写段階（Ｓ１５０）では、熱硬化方式を用いて前記の下部モールドの成形面上に注入された原料を硬化させる。熱硬化方式は、特別に制限されるものでなく、図７に示したように、樹脂組成物Ｐが内部に注入された上部モールド及び下部モールドを加熱することによって、モールド内の樹脂組成物を硬化させることができる。このとき、原料の硬化物には、下部モールドの成形面に形成された３次元パターンが転写される。

次に、熱処理段階（Ｓ１６０）では、熱処理を通して、前記硬化／３次元パターン転写段階で反応されなかった原料をさらに熱硬化させることができる。

すなわち、熱処理段階（Ｓ１６０）では、硬化過程で反応していないモノマーなどをさらに硬化し、製造されるディスプレイパネル用ベゼルを完全に硬化させる。

本過程は、硬化過程で未反応のモノマーなどをさらに硬化させる過程であるので、１００℃以上、約１００〜２００℃のスチームを用いて実施することが望ましい。

硬化／３次元パターン転写段階（Ｓ１５０）及び熱処理段階（Ｓ１６０）の所要時間は原料によって変わり得る。例えば、透明ディスプレイパネル用ベゼルの製造のためにメチルメタクリレート（ＭＭＡ）を主成分とする樹脂組成物を原料として用いる場合、約３時間の硬化時間と２時間の熱処理時間を適用することができる。その一方、白色ディスプレイパネル用ベゼルの製造のためにメチルメタクリレート（ＭＭＡ）とアルミナトリハイドレート（ＡＴＨ）を主成分とする樹脂組成物を原料として用いる場合、約１〜２時間の硬化時間と３０分〜１時間の熱処理時間を適用することができる。

その後、製造されたディスプレイパネル用ベゼルから下部モールド及び上部モールドを脱型する。

次に、ガラス膜コーティング（Ｓ１７０）段階では、硬化された高分子原料からなる前記ベゼルで少なくとも３次元パターンが転写された部分を含む表面にガラス膜をコーティングする。

前記ガラス膜は、ディスプレイパネル用ベゼルの表面を保護し、外観を維持するための機能を行う。

前記ガラス膜は、ガラス塗料液を使用して形成することができ、無機物コーティング溶液又はポリシラザンを含むコーティング溶液を使用して形成することができる。

本発明に係るベゼルの製造方法において、前記ガラス膜は、ポリシラザンを含むコーティング溶液で形成されることが望ましい。

前記ポリシラザンは、分子内にＳｉ―Ｎ（ケイ素―窒素）結合が繰り返された重合体であって、シリカへの転化が容易であればその種類に特別な限定はない。一般に、Ｓｉ―Ｎ（ケイ素―窒素）結合においてＳｉ原子に二つの水素原子が結合されており、シリカへの転化が容易である。

このようなポリシラザンの分子構造としては、直鎖状、分岐された直鎖状、分岐状、環状、架橋構造を有するもの、又は分子内にこれら複数の構造を同時に有するものがある。

本発明においては、これらを単独で又は混合して使用することができる。これらポリシラザンの代表例としては、下記の化学式（１）で表示されるシラザン単位を繰り返し単位とする重合体などがある。ここで、重合体はオリゴマーも含む。

前記式において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素原子数１〜８のアルキル基である。

シリカへの転化容易性の点から、Ｒ^１、Ｒ^２が全て水素原子である単位を含有することが望ましく、分子中のＲ^１、Ｒ^２が全て水素原子であり、特に、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３が全て水素原子であることがより望ましい。

一方、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３が全て水素原子であるポリシラザンは、下記の化学式（２）で表示される繰り返し単位を有し、ペルヒドロポリシラザンと称される。

ペルヒドロポリシラザンは、下記の化学式（３）で表示される化学構造部分を有する。

前記ペルヒドロポリシラザンは、ケイ素原子に結合された水素原子の一部が水酸基に置換されたものであってもよい。

前記ペルヒドロポリシラザンは、ジヒドロゲンジクロロシランと有機塩基（例えば、ピリジン又はピコリン）を反応させて付加物を作り、この付加物とアンモニアを反応させることによって容易に合成することができる。

このようなポリシラザン、特に、ペルヒドロポリシラザンの数平均分子量は通常１００〜５０，０００であり、加熱時の非揮発性と溶剤への溶解性の点で２００〜２，５００であることがより望ましい。

本発明に係るベゼルのガラス膜に含まれるポリシラザン、特にペルヒドロポリシラザンは、少量のシリカ転化促進触媒を含有していてもよい。

前記シリカ転化促進触媒として、有機アミン化合物、有機酸、無機酸、カルボン酸金属塩、有機金属錯塩を挙げることができる。

前記シリカ転化促進触媒として、特に有機アミン化合物が望ましく、具体例としては、１―メチルピペラジン、１―メチルピペリジン、４，４'―トリメチレンジピペリジン、４，４'―トリメチレンビス（１―メチルピペリジン）、ジアザビシクロ―［２，２，２］ オクタン、シス―２，６―ジメチルピペラジン、４―（４―メチルペリジン）ピリジン、ピリジン、ジピリジン、α―ピコリン、β―ピコリン、γ―ピコリン、ピペリジン、ルチジン、ピリミジン、ピリダジン、４，４'―トリメチレンジピリジン、２―（メチルアミノ）ピリジン、ピラジン、キノリン、キノキサリン、トリアジン、ピロール、３―ピロリン、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、１―メチルピロリジンなどの窒素含有環状有機アミン；メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ペンチルアミン、ジペンチルアミン、トリペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ジヘプチルアミン、オクチルアミン、ジオクチルアミン、トリオクチルアミン、フェニルアミン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミンなどの脂肪族又は芳香族アミン類；ＤＢＵ（１，８―ジアザビシクロ［５，４，０］７―ウンデセン）、ＤＢＮ（１，５―ジアザビシクロ［４，３，０］５―ノネン）、１，５，９―トリアザシクロドデカン、１，４，７―トリアザシクロノナンを挙げることができる。

前記シリカ転化促進触媒の含有量は、ポリシラザン、特にペルヒドロポリシラザンの全体重量のうち０．１〜１０重量％であることが望ましい。

本発明に係るベゼルの表面を、ポリシラザンを含む溶液でコーティングすることによって、前記基板の表面に高密度被膜を形成することができ、また、本発明に係るベゼルは、耐食性、耐磨耗性、防汚性、洗浄容易性、水への湿潤性、密封効果、耐薬品性、耐酸化性、物理的障壁効果、耐熱性、耐火性、低収縮率、平滑効果、耐久性効果、帯電防止性及びスクラッチ防止性などに優れるという効果を有する。

前記ガラス膜をコーティングする方法には特別な制限がなく、一般的なコーティング方法を全て使用することができる。望ましくは、前記ガラス膜コーティングの方法として、スプレーコーティング、ディップコーティング、スピンコーティングなどの方法を主に使用することができる。

図８は、本発明の他の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法を概略的に示したフローチャートである。

図８を参照すると、図示したディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、下部モールド用意段階（Ｓ５１０）、ガスケット締結段階（Ｓ５２０）、原料注入段階（Ｓ５３０）、上部モールド締結段階（Ｓ５４０）、及び硬化／３次元パターン転写段階（Ｓ５５０）を含む。

また、熱処理段階（Ｓ５６０）をさらに含むことができ、また、ガラス膜コーティング段階（Ｓ５７０）をさらに含むことができる。

下部モールド用意段階（Ｓ５１０）では、成形面にベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成された下部モールドを用意する。ガスケット締結段階（Ｓ５２０）では、下部モールドの成形面の枠にガスケットを締結する。

次に、原料注入段階（Ｓ５３０）では、下部モールドの成形面上にディスプレイパネル用ベゼルの原料を注入する。上部モールド締結段階（Ｓ５４０）では、下部モールドのガスケット上に上部モールドを締結する。

次に、硬化／３次元パターン転写段階（Ｓ５５０）では、注入された原料を熱硬化させながら、下部モールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する。熱処理段階（Ｓ５６０）では、熱処理を通して、硬化過程で反応されなかったモノマーなどをさらに熱硬化させる。

そして、ガラス膜コーティング（Ｓ５７０）段階では、硬化された高分子原料からなる前記ベゼルで少なくとも３次元パターンが転写された部分を含む表面にガラス膜をコーティングする。

図８に示した例のように、まず、下部モールドの成形面上に原料注入を行った後、上部モールドを締結することができる。この場合、上部モールドには別途の原料注入部を形成しなくてもよい。

異物流入防止及び原料注入量制御の側面では、図１に示した例のように、上部モールドと下部モールドを締結した後で原料を注入することがさらに望ましい。その一方、原料注入便宜性の側面では、図８に示した例のように、下部モールドの成形面上に原料を注入した後で上部モールドを締結することがさらに望ましい。

図１及び図８に示した例では、熱硬化を通してディスプレイパネル用ベゼルを製造する過程を説明した。

しかし、本発明に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、図１及び図８に示した例のみに限定されるものではなく、ディスプレイパネル用ベゼルの製造のために多様な方式の硬化を適用することができる。

図９は、本発明の更に他の実施例に係るディスプレイパネル用ベゼルの製造方法を概略的に示したフローチャートである。

図９を参照すると、図示したディスプレイパネル用ベゼルの製造方法は、モールド用意段階（Ｓ６１０）、ガスケット締結段階（Ｓ６２０）、原料注入段階（Ｓ６３０）及び硬化／３次元パターン転写段階（Ｓ６４０）を含む。

また、ガラス膜コーティング段階（Ｓ６５０）をさらに含むことができる。

モールド用意段階（Ｓ６１０）では、成形面にベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成されたモールドを用意する。

次に、ガスケット締結段階（Ｓ６２０）では、モールドの成形面の枠にガスケットを締結する。

次に、原料注入段階（Ｓ６３０）では、モールドの成形面上にディスプレイパネル用ベゼルの原料を注入する。このとき、原料は、熱、光又は電子ビームによって硬化される樹脂組成物になり得る。

次に、硬化／３次元パターン転写段階（Ｓ６４０）では、注入された原料を硬化させながら、硬化物にモールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する。

このとき、硬化には、原料によって多様な方式を適用することができる。

例えば、熱によって硬化される樹脂組成物を原料として用いる場合、硬化には熱硬化方式を適用することができる。その一方、紫外線によって硬化される樹脂組成物を原料として用いる場合、硬化には紫外線硬化方式を適用することができる。

また、ガラス膜コーティング（Ｓ６５０）段階では、硬化された高分子原料からなる前記ベゼルで少なくとも３次元パターンが転写された部分を含む表面にガラス膜をコーティングする。

本発明に係る方法で製造されるディスプレイパネル用ベゼルによると、不要な資材費用を減少させることができ、前記ベゼルの表面に３次元パターンを容易に形成することができる。

すなわち、このとき、前記ディスプレイパネル用ベゼルは、少なくとも一つの表面に３次元パターンが形成された樹脂組成物の硬化物からなる基材と、前記基材の少なくとも一つの表面にコーティングされたガラス膜層とを含む。

前記ベゼルは、使用される原料によって透明色又は白色に形成することができる。

特に、表面に形成される３次元パターンは１mm以上の厚さで形成することができる。すなわち、上述したように、モールドの材質としてパターン形成が容易な金属などを用い、モールドの成形面にＮＣ加工などを適用することによって、モールドに１mm以上の厚さを有する３次元パターンを形成することができる。

Claims (38)

1. ディスプレイパネルの枠を取り囲んで支持するベゼルの製造方法において、
   （ａ）成形面に前記ベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成された下部モールドを用意する段階；
   （ｂ）前記下部モールドの成形面の枠にガスケットを締結する段階；
   （ｃ）前記下部モールドのガスケット上に、原料注入部を備える上部モールドを締結する段階；
   （ｄ）前記上部モールドの原料注入部を通して前記ベゼルの高分子原料を注入する段階；及び
   （ｅ）前記高分子原料を硬化させながら、前記下部モールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する段階；を含むことを特徴とするディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
2. ディスプレイパネルの枠を取り囲んで支持するベゼルの製造方法において、
   （ａ）成形面に前記ベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成された下部モールドを用意する段階；
   （ｂ）前記下部モールドの成形面の枠にガスケットを締結する段階；
   （ｃ）前記下部モールドの成形面上にベゼルの高分子原料を注入する段階；
   （ｄ）前記下部モールドのガスケット上に上部モールドを締結する段階；及び
   （ｅ）前記高分子原料を硬化させながら、前記下部モールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する段階；を含むことを特徴とするディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
3. （ｆ）熱処理を通して、前記（ｅ）段階で反応されなかった高分子原料をさらに熱硬化させる段階；をさらに含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
4. （ｇ）硬化された高分子原料からなる前記ベゼルで少なくとも３次元パターンが転写された部分を含む表面にガラス膜をコーティングする段階；をさらに含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
5. 前記ガラス膜はポリシラザンを含むことを特徴とする、請求項４に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
6. 前記ポリシラザンは、繰り返し単位として下記の化学式（１）の単位を有することを特徴とする、請求項５に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
   

   

   （前記式において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素原子数１〜８のアルキル基である。）
7. 前記ポリシラザンはペルヒドロポリシラザンであることを特徴とする、請求項５に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
8. 前記ポリシラザンは、触媒量のシリカ転化促進触媒を含有し、
   前記シリカ転化促進触媒はアミン系触媒であることを特徴とする、請求項５に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
9. 前記下部モールドの成形面の３次元パターンは、ＮＣ（Numerical control）加工、化学的エッチング及びスタンピングのうち一つ以上の方法で形成されることを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
10. 前記高分子原料は、熱によって硬化される樹脂組成物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
11. 前記樹脂組成物は、３００〜５００ｃＰｓの粘度を有することを特徴とする、請求項１０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
12. 前記樹脂組成物は、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、オレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂及び不飽和ポリエステル系樹脂のうち一つ以上を含むことを特徴とする、請求項１０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
13. 前記高分子原料には、パール、顔料及びチップのうち一つ以上がさらに含まれることを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
14. 前記下部モールドは、前記成形面に離型処理剤がコーティングされていることを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
15. 前記下部モールドは、メタル、テフロン、ゴムのうち１種以上の材質からなることを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
16. 前記下部モールドは、外部面に、ガラス又はメタルハニカム板材で形成されたフレーム部が付着されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
17. 前記上部モールドは、ガラス又は金属材質で形成されたことを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
18. 前記上部モールドは、平らな成形面を備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
19. 前記上部モールドは、前記下部モールドの成形面に形成された３次元パターンとは反対のパターンが形成された成形面を備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
20. ディスプレイパネルの枠を取り囲んで支持するベゼルの製造方法において、
    （ａ）成形面に前記ベゼルの表面形状を付与するための３次元パターンが形成されたモールドを用意する段階；
    （ｂ）前記モールドの成形面の枠にガスケットを締結する段階；
    （ｃ）前記モールドの成形面上にベゼルの高分子原料を注入する段階；及び
    （ｄ）前記高分子原料を硬化させながら、前記モールドの成形面に形成された３次元パターンを転写する段階；を含むことを特徴とするディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
21. （ｅ）硬化された高分子原料からなる前記ベゼルで少なくとも３次元パターンが転写された部分を含む表面にガラス膜をコーティングする段階；をさらに含むことを特徴とする、請求項２０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
22. 前記ガラス膜はポリシラザンを含むことを特徴とする、請求項２１に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
23. 前記ポリシラザンは、繰り返し単位として下記の化学式（１）の単位を有することを特徴とする、請求項２２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
    

    

    （前記式において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素原子数１〜８のアルキル基である。）
24. 前記ポリシラザンはペルヒドロポリシラザンであることを特徴とする、請求項２２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
25. 前記ポリシラザンは、触媒量のシリカ転化促進触媒を含有し、
    前記シリカ転化促進触媒はアミン系触媒であることを特徴とする、請求項２２に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
26. 前記モールドの成形面の３次元パターンは、ＮＣ加工、化学的エッチング及びスタンピングのうち一つ以上の方法で形成されることを特徴とする、請求項２０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
27. 前記高分子原料は、熱、光又は電子ビームによって硬化される樹脂組成物であることを特徴とする、請求項２０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
28. 前記樹脂組成物は、３００〜５００ｃＰｓの粘度を有することを特徴とする、請求項２７に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
29. 前記高分子原料には、パール、顔料及びチップのうち一つ以上がさらに含まれることを特徴とする、請求項２０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
30. 前記モールドは、前記成形面に離型処理剤がコーティングされていることを特徴とする、請求項２０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
31. 前記モールドは、メタル、テフロン及びゴムのうち１種以上の材質からなることを特徴とする、請求項２０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
32. 前記モールドは、外部面に、ガラス又はメタルハニカム板材で形成されたフレーム部が付着されていることを特徴とする、請求項２０に記載のディスプレイパネル用ベゼルの製造方法。
33. ディスプレイパネルの枠を取り囲んで支持するベゼルにおいて、
    少なくとも一つの表面に３次元パターンが形成された樹脂組成物の硬化物からなる基材；及び
    前記基材の少なくとも一つの表面にコーティングされたガラス膜層；を含むディスプレイパネル用ベゼル。
34. 前記硬化物は、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、オレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂及び不飽和ポリエステル系樹脂のうち一つ以上を含むことを特徴とする、請求項３３に記載のディスプレイパネル用ベゼル。
35. 前記ガラス膜層は、ポリシラザンを含むことを特徴とする、請求項３３に記載のディスプレイパネル用ベゼル。
36. 前記ポリシラザンは、繰り返し単位として下記の化学式（１）の単位を有することを特徴とする、請求項３５に記載のディスプレイパネル用ベゼル。
    

    

    （前記式において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素原子数１〜８のアルキル基である。）
37. 前記ポリシラザンはペルヒドロポリシラザンであることを特徴とする、請求項３５に記載のディスプレイパネル用ベゼル。
38. 前記ポリシラザンは、触媒量のシリカ転化促進触媒を含有し、
    前記シリカ転化促進触媒はアミン系触媒であることを特徴とする、請求項３５に記載のディスプレイパネル用ベゼル。

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