JP2014503494A5 - - Google Patents
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[1] 99.5重量パーセントを超える純度を有し、約500ppm未満の何らかのその他の飽和フルオロカーボンしか含有しない2,3,3,3−テトラフルオロプロペン生成物の製造法であって、
蒸留分離不能な2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンと約500ppmより多い量の少なくとも一つの不純物の供給ストリームを準備し;
供給ストリームを少なくとも一つの不純物が実質的に除去されるまで処理し;そして
供給ストリームを脱ハロゲン化水素して2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを製造する
ことを含む方法。
[2] 不純物が、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(HFC−245cb)、1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HFC−254eb)、1,1,1,3−テトラフルオロプロパン(HFC−254fb)、3,3,3−トリフルオロプロペン(HFO−1243zf)、2,3−ジクロロ−3,3−ジフルオロプロペン(HCFO−1232xf)、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233zd)、1,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1223xd)、クロロテトラフルオロプロペン(HCFO−1224異性体)、1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(HFO−1225ye(シス及びトランス異性体))、1,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234ze(シス及びトランス異性体))、及び3,3,3−トリフルオロプロピンならびにそれらの組合せからなる群から選ばれる、[1]に記載の方法。
[3] 不純物が、供給ストリーム中に下記の量:すなわち、0〜約400ppmの3,3,3−トリフルオロプロペン(HFO−1243zf)、0〜約200ppmの2,3−ジクロロ−3,3−ジフルオロプロペン(HCFO−1232xf)、0〜約200ppmの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)、0〜約200ppmの1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233zd)、0〜約200ppmの1,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1223xd)、0〜約200ppmのクロロテトラフルオロプロペン(HCFO−1224異性体)、0〜約200ppmの1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(HFO−1225ye(シス及びトランス異性体))、0〜約200ppmの1,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234ze(シス及びトランス異性体))、0〜約200ppmの1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(HFC−245cb)、0〜約200ppmの1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HFC−254eb)、0〜約200ppmの1,1,1,3−テトラフルオロプロパン(HFC−254fb)、及び0〜約200ppmの3,3,3−トリフルオロプロピンで供給される、[2]に記載の方法。
[4] 処理工程が、供給ストリームを光塩素化反応に付することを含む、[1]に記載の方法。
[5] 処理工程が、供給ストリームを水素化反応に付することを含む、[1]に記載の方法。
[6] 2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン供給材料から一つ又は複数の不純物を除去するための方法であって、
前記2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン供給材料を光塩素化法に付し;そして
2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを精製して実質的に純粋な2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを製造する
ことを含む方法。
[7] 前記光塩素化反応が、電磁放射線の存在下で、不純物を塩素(Cl2)と反応させることを含む、[6]に記載の方法。
[8] 電磁放射線が紫外線スペクトルの中にある、[7]に記載の方法。
[9] 2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン供給材料から一つ又は複数の不純物を除去するための方法であって、
前記2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン供給材料を水素化法に付し;そして
2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを精製して実質的に純粋な2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン供給材料を製造する
ことを含む方法。
[10] 水素化法が、一つ又は複数の触媒の存在下で不純物を水素(H2)と反応させることを含む、[9]に記載の方法。
[11] 触媒が、Pt、Pd、Ni、及びそれらの混合物からなる群から選ばれ、不活性担体上に担持されていないか又は担持されているのいずれかである、[10]に記載の方法。
[12] 担体が、活性炭、アルミナ、様々な金属酸化物、ゼオライト、アルミノケイ酸塩、及びモレキュラーシーブからなる群から選ばれる、[11]に記載の方法。
Claims (5)
- 99.5重量パーセントを超える純度を有し、約500ppm未満のいずれかの他の飽和フルオロカーボンを含有する2,3,3,3−テトラフルオロプロペン生成物の製造法であって、
蒸留分離不能な2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンと約500ppmより多い量の少なくとも一つの不純物の供給ストリームを準備し;
供給ストリームを少なくとも一つの不純物が実質的に除去されるまで処理し;そして
供給ストリームを脱ハロゲン化水素して2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを製造する
ことを含む方法。 - 不純物が、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(HFC−245cb)、1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HFC−254eb)、1,1,1,3−テトラフルオロプロパン(HFC−254fb)、3,3,3−トリフルオロプロペン(HFO−1243zf)、2,3−ジクロロ−3,3−ジフルオロプロペン(HCFO−1232xf)、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233zd)、1,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1223xd)、クロロテトラフルオロプロペン(HCFO−1224異性体)、1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(HFO−1225ye(シス及びトランス異性体))、1,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234ze(シス及びトランス異性体))、及び3,3,3−トリフルオロプロピンならびにそれらの組合せからなる群から選ばれる、請求項1に記載の方法。
- 不純物が、供給ストリーム中に下記の量:すなわち、0〜約400ppmの3,3,3−トリフルオロプロペン(HFO−1243zf)、0〜約200ppmの2,3−ジクロロ−3,3−ジフルオロプロペン(HCFO−1232xf)、0〜約200ppmの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)、0〜約200ppmの1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233zd)、0〜約200ppmの1,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1223xd)、0〜約200ppmのクロロテトラフルオロプロペン(HCFO−1224異性体)、0〜約200ppmの1,2,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(HFO−1225ye(シス及びトランス異性体))、0〜約200ppmの1,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234ze(シス及びトランス異性体))、0〜約200ppmの1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(HFC−245cb)、0〜約200ppmの1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HFC−254eb)、0〜約200ppmの1,1,1,3−テトラフルオロプロパン(HFC−254fb)、及び0〜約200ppmの3,3,3−トリフルオロプロピンで供給される、請求項2に記載の方法。
- 処理工程が、供給ストリームを光塩素化反応に付することを含む、請求項1に記載の方法。
- 処理工程が、供給ストリームを水素化反応に付することを含む、請求項1に記載の方法。
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