JP6375498B2 - 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 - Google Patents
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Description
CX2=CCl−CH2X (I)
Xは、すくなくとも1つのXがフッ素ではないことを条件として、F、Cl、BrおよびIから独立的に選択され、出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、前記出発組成物をフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む最終組成物を製造する工程とによる。ある実施形態において、式Iを有する少なくとも1つの化合物は、少なくとも1つのXが塩素である。さらなる実施形態において、式Iを有する少なくとも1つの化合物は、それぞれのXの位置に塩素を有する。さらに別の実施形態において、式Iを有する少なくとも1つの化合物は、1,1,2,3−テトラクロロプロペンを含む。
a. 式Iを有する化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
CX2=CCl−CH2X (I)
Xは、すくなくとも1つのXがフッ素ではないことを条件として、F、Cl、BrおよびIから独立的に選択され、出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
b. 出発組成物を第1のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンおよび第1の塩素含有副生成物を含む第1の中間体組成物を製造する工程と、
c. 第1の中間体組成物を第2のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを含む第2の中間体組成物を製造する工程と、
d. 2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの少なくとも一部を脱塩化水素化して、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを含む反応生成物を製造する工程と
による。
CX2=CCl−CH2X (I)
式中、Xは、すくなくとも1つのXがフッ素ではないことを条件として、F、Cl、BrおよびIから独立的に選択される。ある実施形態において、式Iの化合物は、少なくとも1つの塩素を含むか、Xの大部分が塩素であるか、または全てのXが塩素である。ある実施形態において、式Iの化合物は、1,1,2,3−テトラクロロプロペン(1230xa)を含む。
本実施例は、1,1,2,3−テトラクロロプロペン(1230xa)から2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンへの連続的な気相フッ素化反応を例示する。この試験のためのフッ素化触媒は、フッ素化されたCr2O3であった。実施例1で用いる1230xa供給物は、99.2GC(ガスクロマトグラム)面積%の純度を有し、360ppmのヘキサクロロエタンおよび約5000ppmのテトラクロロプロパンを含有した。
実施例2においてより純粋な1230xaを用いたことを除いて、実施例1と同様に実施した。実施例2で用いた1230xa供給物は、99.7GC(ガスクロマトグラム)面積%の純度を有し、77ppmのヘキサクロロエタンを含有し、およびテトラクロロプロパンを含有しなかった。反応を、約1378時間にわたり、693ポンド(約314kg)の1233xfおよび1232xfが精製するまで、連続的に運転した。1230xaの平均転化率および1233xfの平均選択性は、それぞれ90.3%および87.1%であった。
実施例3は、225℃の温度における約99%純度のHCO−1230xaのフッ素化のための方法を例示する。3cc(3cm3)の大表面積クロム酸化物(BASF)を、1/2インチ(約1.3cm)ハステロイ(登録商標)反応器中に装填した。触媒の頂部に6インチ(約15cm)のハステロイ(登録商標)1/8インチ(約0.32cm)蒸留充填物を充填し、気化領域を形成した。触媒を、フッ化水素で活性化した。225℃において、18sccmのフッ化水素および3sccmの窒素と一緒に、反応器の頂部から、0.54ml/時の速度でHCO−1230xaを供給した。反応器からの流れを、GCおよびGC−MSで分析した。実施例3〜8において、用いたGCは、キャリアガスとして3.7674ml/分の速度で流れるヘリウムガスを用いる、Agilent Technologies 7890Aであった。GCは、長さ30cm、直径0.32mm、厚さ0.25μMのHP−5カラムを収容し、カラム内に充填された固定相は、5%フェニルメチルシロキサンであり、GCでの分離のための温度条件は、5分間にわたって50℃、ついで50分間にわたって25℃/分で200℃までの温度プログラムを用いて実施した。図1は、50時間の期間にわたる関数として、生成物流中のHCFO−1233xfおよびHCFO−1232xfのモルパーセントを示す。図1は、生成物流中に残存する未反応のHCO−1230xaの量も示す。
実施例4において、フッ素化反応のための出発物質として、約99.9%のHCO−1230xaを用いた。3cc(3cm3)の大表面積クロム酸化物(BASF)を、1/2インチ(約1.3cm)ハステロイ(登録商標)反応器中に装填した。触媒の頂部に6インチ(約15cm)のハステロイ(登録商標)1/8インチ(約0.32cm)蒸留充填物を充填し、気化領域を形成した。触媒を、フッ化水素で活性化した。225℃において、18sccmのフッ化水素および3sccmの窒素と一緒に、反応器の頂部から、0.54ml/時の速度でHCO−1230xaを供給した。反応器からの流れを、GCおよびGC−MSで分析した。図2は、50時間の期間にわたる関数として、生成物流中のHCFO−1233xfおよびHCFO−1232xfのモルパーセントを示す。図2は、生成物流中に存在する未反応のHCO−1230xaの量も示す。図5は、実施例3および4において、転化されたHCO−1230xa(すなわち、反応したHCO−1230xaのパーセンテージ)を示す。
実施例5において、プロセスは、上記の実施例3において用いたものと同一のHCO−1230xaを用いた。3cc(3cm3)の大表面積クロム酸化物(BASF)を、1/2インチ(約1.3cm)ハステロイ(登録商標)反応器中に装填した。触媒の頂部に6インチ(約15cm)のハステロイ(登録商標)1/8インチ(約0.32cm)蒸留充填物を充填し、気化領域を形成した。触媒を、フッ化水素で活性化した。275℃において、18sccmのフッ化水素および3sccmの窒素と一緒に、反応器の頂部から、0.54ml/時の速度でHCO−1230xaを供給した。反応器からの流れを、GCおよびGC−MSで分析した。図3は、55時間の期間にわたる関数として、生成物流中のHCFO−1233xfおよびHCFO−1232xfのモルパーセントを示す。図3は、生成物流中に存在する未反応のHCO−1230xaの量も示す。
実施例6は、上記の実施例4において用いたHCO−1230xa供給物を用いた。3cc(3cm3)の大表面積クロム酸化物(BASF)を、1/2インチ(約1.3cm)ハステロイ(登録商標)反応器中に装填した。触媒の頂部に6インチ(約15cm)のハステロイ(登録商標)1/8インチ(約0.32cm)蒸留充填物を充填し、気化領域を形成した。触媒を、フッ化水素で活性化した。275℃において、18sccmのフッ化水素および3sccmの窒素と一緒に、反応器の頂部から、0.54ml/時の速度でHCO−1230xaを供給した。反応器からの流れを、GCおよびGC−MSで分析した。図4は、160時間の期間にわたる関数として、生成物流中のHCFO−1233xfおよびHCFO−1232xfのモルパーセントを示す。図4は、生成物流中に存在する未反応のHCO−1230xaの量も示す。
実施例7において、99%純度の1230xa(第1表に示したもの)に1%の250fbを添加した。次いで、この約98%純度のHCO−1230xaを、フッ素化反応のための出発材料として用いた。2.15cc(2.15cm3)の大表面積クロム酸化物E410(BASF)を、1/2インチ(約1.3cm)ハステロイ(登録商標)反応器中に装填した。触媒の頂部に6インチ(約15cm)のハステロイ(登録商標)1/8インチ(約0.32cm)蒸留充填物を充填し、気化領域を形成した。触媒を、フッ化水素で活性化した。225℃において、18sccmのフッ化水素および6sccmの窒素と一緒に、反応器の頂部から、0.54ml/時の速度でHCO−1230xaを供給した。反応器からの流れを、GCおよびGC−MSで分析した。図8は、28時間の期間にわたる関数として、生成物流中のHCFO−1233xfおよびHCFO−1232xfのモルパーセントを示す。図9は、生成物流中に存在する未反応のHCO−1230xaの量も示す。
実施例8において、99%純度の1230xa(第1表に示したもの)を、フッ素化反応のための出発材料として用いた。2.15cc(2.15cm3)の大表面積クロム酸化物E410(BASF)を、1/2インチ(約1.3cm)ハステロイ(登録商標)反応器中に装填した。触媒の頂部に6インチ(約15cm)のハステロイ(登録商標)1/8インチ(約0.32cm)蒸留充填物を充填し、気化領域を形成した。触媒を、フッ化水素で活性化した。225℃において、18sccmのフッ化水素および6sccmの窒素と一緒に、反応器の頂部から、0.54ml/時の速度でHCO−1230xaを供給した。反応器からの流れを、GCおよびGC−MSで分析した。図8は、28時間の期間にわたる関数として、生成物流中のHCFO−1233xfおよびHCFO−1232xfのモルパーセントを示す。図9は、生成物流中に存在する未反応のHCO−1230xaの量も示す。これらの結果は、98%の1230xaを用いた触媒が、99%の1230xaを用いた触媒よりも、遙かに早く活性を失ったことを示す。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] フルオロオレフィンを調製するのに用いる供給原料であって、不純物を実質的に含まない1,1,2,3−テトラクロロプロペンを含む組成物を含むことを特徴とする供給原料。
[2] GC(FID)面積で測定される際に、1%未満の不純物が存在することを特徴とする[1]に記載の供給原料。
[3] GC(FID)面積で測定される際に、0.5%未満の不純物が存在することを特徴とする[1]に記載の供給原料。
[4] GC(FID)面積で測定される際に、0.2%未満の不純物が存在することを特徴とする[1]に記載の供給原料。
[5] GC(FID)面積で測定される際に、0.1%未満の不純物が存在することを特徴とする[1]に記載の供給原料。
[6] 前記不純物がイオン性金属であることを特徴とする[1]に記載の供給原料。
[7] 前記イオン性金属が鉄であることを特徴とする[6]に記載の供給原料。
[8] 前記イオン性金属が、約100ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[6]に記載の供給原料。
[9] 前記イオン性金属が、約50ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[6]に記載の供給原料。
[10] 前記イオン性金属が、約20ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[6]に記載の供給原料。
[11] 前記イオン性金属が、約10ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[6]に記載の供給原料。
[12] 前記不純物が、1,1,2,3−テトラクロロプロペン以外の1種または複数種の有機化合物を含むことを特徴とする[1]に記載の供給原料。
[13] 前記1種または複数種の有機化合物が、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、トリクロロプロペン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする[12]に記載の供給原料。
[14] 前記有機化合物のいずれもが、1000ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[12]に記載の供給原料。
[15] 前記有機化合物のいずれもが、500ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[12]に記載の供給原料。
[16] 前記有機化合物のいずれもが、200ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[12]に記載の供給原料。
[17] 前記有機化合物のいずれもが、100ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[12]に記載の供給原料。
[18] 前記1種または複数種の有機化合物が、前記組成物の0.5%(w/w)未満で提供されていることを特徴とする[12]に記載の供給原料。
[19] 前記1種または複数種の有機化合物が、前記組成物の0.3%(w/w)未満で提供されていることを特徴とする[12]に記載の供給原料。
[20] 前記1種または複数種の有機化合物が、前記組成物の0.1%(w/w)未満で提供されていることを特徴とする[12]に記載の供給原料。
[21] 2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを調製するための方法であって、
式Iを有する少なくとも1種の化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
CX2=CCl−CH2X (I)
Xは、少なくとも1つのXがフッ素ではないことを条件として、F、Cl、BrおよびIから独立的に選択され、前記出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
前記出発組成物をフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む最終組成物を生成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
[22] 式Iを有する少なくとも1種の化合物は、少なくとも1つのXが塩素である化合物であることを特徴とする[21]に記載の方法。
[23] 式Iを有する少なくとも1種の化合物は、全てのXが塩素である化合物であることを特徴とする[21]に記載の方法。
[24] 式Iを有する少なくとも1種の化合物は、1,1,2,3−テトラクロロプロペンを含むことを特徴とする[21]に記載の方法。
[25] 前記出発物質をフッ素化剤と接触させる工程を、気相で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[26] 触媒の存在下で接触工程を実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[27] 前記触媒が気相触媒であることを特徴とする[26]に記載の方法。
[28] 前記気相触媒が、クロム酸化物、クロム水酸化物、クロムハロゲン化物、クロムオキシハロゲン化物、アルミニウム酸化物、アルミニウム水酸化物、アルミニウムハロゲン化物、アルミニウムオキシハロゲン化物、コバルト酸化物、コバルト水酸化物、コバルトハロゲン化物、コバルトオキシハロゲン化物、マンガン酸化物、マンガン水酸化物、マンガンハロゲン化物、マンガンオキシハロゲン化物、ニッケル酸化物、ニッケル水酸化物、ニッケルハロゲン化物、ニッケルオキシハロゲン化物、鉄酸化物、鉄水酸化物、鉄ハロゲン化物、鉄オキシハロゲン化物、それらの無機塩、それらのフッ素化誘導体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする[27]に記載の方法。
[29] 前記触媒は、クロム酸化物を含むことを特徴とする[28]に記載の方法。
[30] 前記触媒は、Cr2O3を含むことを特徴とする[29]に記載の方法。
[31] 前記組成物中に存在する不純物を、蒸留またはクロマトグラフィーにより減少させることを特徴とする[21]に記載の方法。
[32] GC面積で測定される際に、1%未満の不純物が存在することを特徴とする[21]に記載の方法。
[33] GC(FID)面積で測定される際に、0.5%未満の不純物が存在することを特徴とする[21]に記載の方法。
[34] GC(FID)面積で測定される際に、0.2%未満の不純物が存在することを特徴とする[21]に記載の方法。
[35] GC(FID)面積で測定される際に、0.1%未満の不純物が存在することを特徴とする[21]に記載の方法。
[36] 前記不純物がイオン性金属を含むことを特徴とする[21]に記載の方法。
[37] 前記イオン性金属が鉄であることを特徴とする[36]に記載の方法。
[38] 前記イオン性金属が、約100ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[36]に記載の方法。
[39] 前記イオン性金属が、約36ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[36]に記載の方法。
[40] 前記イオン性金属が、約20ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[36]に記載の方法。
[41] 前記イオン性金属が、約10ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[36]に記載の方法。
[42] 前記不純物が、1,1,2,3−テトラクロロプロペン以外の1種または複数種の有機化合物を含むことを特徴とする[21]に記載の方法。
[43] 前記1種または複数種の有機化合物が、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする[42]に記載の方法。
[44] 前記有機化合物のいずれもが、1000ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[42]に記載の方法。
[45] 前記有機化合物のいずれもが、500ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[42]に記載の方法。
[46] 前記有機化合物のいずれもが、200ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[42]に記載の方法。
[47] 前記有機化合物のいずれもが、100ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする[42]に記載の方法。
[48] 前記1種または複数種の有機化合物が、総量として、前記組成物の0.5%(w/w)未満の濃度で存在することを特徴とする[42]に記載の方法。
[49] 前記1種または複数種の有機化合物が、総量として、前記組成物の0.3%(w/w)未満の濃度で存在することを特徴とする[42]に記載の方法。
[50] 前記1種または複数種の有機化合物が、総量として、前記組成物の0.1%(w/w)未満の濃度で存在することを特徴とする[42]に記載の方法。
[51] 前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、供給酸素および重合禁止剤の両方の不在下で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[52] 前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、供給酸素の不在下で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[53] 前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、重合禁止剤の不在下で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[54] 前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、供給酸素の存在下で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[55] 前記組成物をフッ化水素と接触させる工程を、重合禁止剤の存在下で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[56] 前記触媒は、約60m2/gから約300m2/gの範囲内で変動する表面積を有することを特徴とする[29]に記載の方法。
[57] 前記触媒は、約100m2/gから約300m2/gの範囲内で変動する表面積を有することを特徴とする[29]に記載の方法。
[58] 前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程を、約180℃から約400℃の範囲内で変動する温度で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[59] 前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程を、約200℃から約300℃の範囲内で変動する温度で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[60] 前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程を、約5psia(約0.03MPa)から約100psia(約0.69MPa)の範囲内で変動する圧力で実施することを特徴とする[21]に記載の方法。
[61] 前記方法を連続的に運転することを特徴とする[21]に記載の方法。
[62] 前記方法を、少なくとも150時間にわたって連続的に運転し、少なくとも90%のHCO−1230xaが反応することを特徴とする[21]に記載の方法。
[63] 2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを調製するための方法であって、
式Iを有する化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
CX2=CCl−CH2X (I)
Xは、少なくとも1つのXがフッ素ではないことを条件として、F、Cl、BrおよびIから独立的に選択され、前記出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
前記出発組成物を第1のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第1の中間体組成物を生成する工程と、
前記第1の中間体組成物を第2のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを含む第2の中間体組成物を生成する工程と、
前記2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの少なくとも一部を脱塩化水素化して、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを含む反応生成物を生成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
Claims (20)
- フッ素化剤との反応により2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを調製するのに用いる供給原料であって、前記供給原料は、不純物を実質的に含まない1,1,2,3−テトラクロロプロペンを含む組成物を含み、前記不純物はイオン性金属、あるいは1,1,2,3−テトラクロロプロペン以外の1種または複数種の有機化合物を含み、前記1種または複数種の有機化合物は、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、トリクロロプロペン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択され、前記供給原料は、0.9モル%未満の不純物を含むことを特徴とする供給原料。
- 0.5モル%未満の不純物を含むことを特徴とする請求項1に記載の供給原料。
- 0.2モル%未満の不純物を含むことを特徴とする請求項1に記載の供給原料。
- 前記1種または複数種の有機化合物が、独立的に、1000ppm未満の量で前記組成物中に存在することを特徴とする請求項1に記載の供給原料。
- 前記1種または複数種の有機化合物が、前記組成物の0.5%(w/w)未満で存在することを特徴とする請求項1に記載の供給原料。
- 前記イオン性金属が鉄であることを特徴とする請求項1に記載の供給原料。
- 前記不純物が、100ppm未満の量で供給原料中に存在する鉄であることを特徴とする請求項1に記載の供給原料。
- 前記不純物が前記1種または複数種の有機化合物であり、前記有機化合物が、独立的に、500ppm未満の量で存在することを特徴とする請求項1に記載の供給原料。
- 前記有機化合物が、独立的に、200ppm未満の量で存在することを特徴とする請求項8に記載の供給原料。
- 2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを調製するための方法であって、
式Iを有する少なくとも1種の化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
CX2=CCl−CH2X (I)
Xは、少なくとも1つのXがフッ素ではないことを条件として、F、Cl、BrおよびIから独立的に選択され、前記出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
前記出発組成物をフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む最終組成物を生成する工程と
を含み、前記不純物は、イオン性金属、および1,1,2,3−テトラクロロプロペン以外の1種または複数種の有機化合物からなる群から選択され、前記1種または複数種の有機化合物は、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、トリクロロプロペン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択され、前記不純物は、0.9モル%未満の量で存在することを特徴とする方法。 - 前記出発組成物をフッ素化剤と接触させる工程を気相で、任意選択的に触媒の存在下で実施し、前記触媒が気相触媒であることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記触媒は、60m2/gから300m2/gの範囲内で変動する表面積を有することを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記不純物がイオン性金属を含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記イオン性金属が鉄であることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記不純物が1種または複数種の有機化合物を含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記有機化合物は、独立的に、1000ppm未満の量で組成物中に存在することを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記1種または複数種の有機化合物が、組成物の0.5%(w/w)未満の量で組成物中に存在することを特徴とする請求項10に記載の方法。
- GC(FID)面積で測定される際に、0.2%未満の不純物が存在することを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記出発組成物をフッ素化剤と接触させる工程は、
180℃から400℃の範囲内で変動する温度で前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程、および/または
5psia(34.5kPa)から100psia(689.5MPa)の範囲内で変動する圧力で前記出発組成物をフッ化水素と接触させる工程
を含むことを特徴とする請求項10から18のいずれかに記載の方法。 - 2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを調製するための方法であって、
式Iを有する化合物を含む出発組成物を提供する工程であって、
CX2=CCl−CH2X (I)
Xは、少なくとも1つのXがフッ素ではないことを条件として、F、Cl、BrおよびIから独立的に選択され、前記出発組成物は不純物を実質的に含まない工程と、
前記出発組成物を第1のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第1の中間体組成物を生成する工程と、
前記第1の中間体組成物を第2のフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを含む第2の中間体組成物を生成する工程と、
前記2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの少なくとも一部を脱塩化水素化して、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを含む反応生成物を生成する工程と
を含み、前記不純物は、イオン性金属、または1,1,2,3−テトラクロロプロペン以外の1種または複数種の有機化合物を含み、前記イオン性金属は鉄であり、前記1種または複数種の有機化合物は、ヘキサクロロエタン、テトラクロロプロパン、ペンタクロロプロパン、ジクロロプロペン、トリクロロプロパン、ヘキサクロロヘキサジエン、トリクロロプロペン、ペンタクロロプロペン、ジクロロブテンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択され、前記出発組成物は、0.9モル%未満の不純物を含むことを特徴とする方法。
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