JP2014501698A

JP2014501698A - ルビプロストンの調製方法

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Publication number: JP2014501698A
Application number: JP2013533064A
Authority: JP
Inventors: ピーヘンシュケ、ジュリアン; リウ、ユアンリアン; シア、リゼン; チェン、ユン−ファ
Original assignee: サイノファーム（クンシャン）バイオケミカルテクノロジカンパニーリミテッド
Priority date: 2010-10-15
Filing date: 2010-10-15
Publication date: 2014-01-23
Anticipated expiration: 2030-10-15
Also published as: BR112013009163A2; KR101787159B1; TW201300370A; US20130225842A1; AU2010362494B2; CA2813839A1; NZ608823A; JP5755750B2; CN103180306B; CA2813839C; EP2627647B1; WO2012048447A1; CN103180306A; TWI434837B; KR20140027905A; US20150005528A1; AU2010362494A1; IL225754A; EP2627647A1; US9012662B2

Abstract

ルビプロストンの調製方法及び精製方法を開示する。また、中間体及びその調製についても開示する。
【選択図】なし

Description

本発明は、ルビプロストンを作るための効果的な合成方法を提供する。

ルビプロストン、７-[(１Ｒ,３Ｒ,６Ｒ,７Ｒ)-３-(１,１-ジフルオロペンチル)-３-ヒドロキシ-８-オキソ-２-オキサビシクロ[４.３.０]ノナ-７-イル]ヘプタン酸は、Ａｍｉｔｉｚａ（登録商標）製剤、成人における慢性特発性便秘の治療に用いられる胃腸薬における医薬品有効成分（ＡＰＩ；原薬）である。それは、ＳｕｃａｍｐｏＰｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．によって販売されており、２００６年１月３１日に、米国食品医薬品局（ＦＤＡ）の承認を受けた。それはまた、１８歳以上の成人女性における便秘を伴った過敏性腸症候群（ＩＳＢ−Ｃ）を治療するため、２００８年４月２９日に、ＦＤＡの承認を受けた。また、Ａｍｉｔｉｚａ（登録商標）は、他の胃腸障害についての臨床試験も受けている。ルビプロストンは、二環式の１３,１４-ジヒドロ-１５-ケト-１６,１６-ジフルオロ-プロスタグランジンＥ１誘導体（所謂１３,１４-ジヒドロ-１５-ケト-プロスタグランジン誘導体としても知られる）である。プロスタグランジンは、Ｃ２０脂肪酸であるプロスタン酸骨格を持つ（図１）。

図１−プロスタグランジンの命名

Ｃ１５位の電子欠損ケトンの存在は、都合のよい位置にあるＣ１１位のヒドロキシル基と一体となって、大部分が６員環のヘミケタール環を含む二環式形態で存在するルビプロストンを生じさせる。この形態は、単環式形態との平衡状態で存在する（スキーム１）。総合すれば、これら２つの形態は、互変異性体と称される。糖化学において、この種の環式及び非環式形態の平衡は、環−鎖互変異性化（Ｒ−ＣＴ）と称される（非特許文献１；非特許文献１によれば、環−鎖互変異性化は、「プロトンの移動が、グルコースの開鎖形態とピラン形態等の開いた構造から環への変化を伴う場合に起こる」）。Ｄ_２Ｏでは、二環式形態の単環式形態に対する比が６：１であるのに対して、ＣＤＣｌ_３では、それが９６：４である（特許文献１）。この互変異性化と二環式ヘミケタール形態の優位性にもかかわらず、ルビプロストンは、それでも、１５-ケト-プロスタグランジンＥ１誘導体と称される。特許文献２によれば、ルビプロストンの報告された２種類の結晶多形体は、固体状態の二環式形態として存在する。

スキーム１−ルビプロストンの「環−鎖互変異性体」形態

関連技術
プロスタグランジン及び類似体の合成の多用性に優れた初期アプローチが、Ｅ．Ｊ．コーリー（非特許文献２）によって６０年代後半に発明され、これは、恐らく産業上最も用いられる戦略である。現在請求されている方法の他、今まで、ルビプロストンの合成について開示された唯一の方法である。このアプローチは、「コーリー法」と称される。コーリーラクトンアルデヒド（別名コーリーアルデヒド）（非特許文献３）は、それ自体が多くの合成ステップを必要とするものであるが、コーリーアプローチの中心となり、既に適当な位置にある３つのＰＧＥ_１立体化学的中心（ルビプロストンに必要とされるもの等）の全てを含んでおり、ホーナー・ワズワース・エモンス反応（又はＨＷＥ反応）とウィッティヒ反応によってω−側鎖とα−側鎖とが連続して加えられる（スキーム２）。コーリーアプローチでは、α−側鎖とω−側鎖を加える順番が交替できる。

スキーム２−プロスタグランジンを合成する「コーリー法」

米国特許第７，３５５，０６４号明細書米国特許出願公開第２０１００５６８０８号明細書

http://en.wikipedia.org/wiki/Tautomer J. Am. Chem. Soc., 1969, 91, 5675-5676. Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 1991, 30, 455-465.

本発明のプロスタグランジンプラットフォーム技術
我々の会社は、以前に、プロスタグランジン類似体トラボプロスト及びビマトプロストの全合成を開発した。これらの合成経路及びそれらのプロセスは、米国特許出願公開第２００９０２５９０５８号明細書及び国際公開第２００９／１４１７１８号において２００９年に公開された。トラボプロスト及びビマトプロストの合成における最終工程は、スキーム３に示されており、ＰＧＥ_２化合物（３Ａ）又は（３Ｂ）を与えるための、シクロペンテノン（１）（分岐する共通中間体）との高次クプラート（化合物（２Ａ）又は（２Ｂ）から形成されたもの）の重要な１，４−共役付加反応（別名マイケル付加）を中心に置く。これに続いて、２つのＰＧＥ_２は、立体選択的Ｃ９ケトン還元によって、ＰＧＦ_２α化合物（４Ａ）又は（４Ｂ）に転化された。この後に、二重のＴＢＳ脱保護（Ｃ１１−ＯＴＢＳ及びＣ１５−ＯＴＢＳ）が続き、トラボプロスト又はビマトプロストのイソプロピルエステル類似体、化合物（５）を提供した。そのイソプロピルエステルは、エステルアミド交換によって、ビマトプロストに転化された。

本発明の対象であるルビプロストンについて、我々は、ＡＰＩの構造が、ビマトプロスト及びトラボプロストとかなり異なるため、異なる合成経路を利用したが、それでも、重要な中間体化合物（１）は、クプラート化合物の１，４−共役付加において同様に利用される。それ故に、我々が製造方法を有する分岐中間体（１）は、ルビプロストンの合成にも依然として使用できる。

スキーム３−我々のプロスタグランジンプラットフォーム技術を用いたトラボプロスト及びビマトプロストの合成における最終工程（米国特許出願公開第２００９０２５９０５８号明細書及び国際公開第２００９／１４１７１８号）

ルビプロストンの合成へのプロスタグランジンプラットフォーム技術の適用：
我々の好ましいルビプロストンの合成をスキーム４に示す。我々は、シリル保護基を様々な類似体から選択できるが、ＴＢＳが好適であることを提案する。α−側鎖は、Ｃ５とＣ６間に二重結合を持つ可能性があり、これは、ｃｉｓ−若しくはｔｒａｎｓ−又はｃｉｓ−とｔｒａｎｓ−の混合物の場合があるが、Ｃ５−Ｃ６は、飽和していてもよい。Ｃ１７−Ｃ１８−Ｃ１９の結合は、すべてＣ−Ｃ単結合の場合があるが、１つの二重結合と１つの単結合を含有することもできる。Ｃ１７とＣ１８間又はＣ１８とＣ１９間での二重結合の存在は、ＩＩの合成の人為結果にすぎない。Ｃ１５の立体化学的配置は、(Ｒ)−でも(Ｓ)−でもよく、混合物でもよい。ベンジル保護基は、非置換でもよいし（即ち、Ｒ^１４＝Ｈ）、置換されていてもよい（即ち、Ｒ^１４＝４−ＭｅＯ、２，４−ＤｉＭｅＯ等）。Ｒ^１３は、クプラートＩＩＩがそのビニル基をシクロペンテノンＩに効率的に移動できるようにするがそれ自体はシクロペンテノンＩと反応しないあらゆる置換基又は置換基の組み合わせとなり得る。Ｒ^１３は、シアノ、メチル及びチエニル、並びにこれらのリチウム対イオンとの組み合わせの群から選択されるのが好ましい。考えられる限りでは、他の有機銅試薬もまた使用し得る。クプラートＩＩＩとシクロペンテノンＩの１，４−共役付加（工程１ｃ）の後に、水素雰囲気中で金属触媒、好ましくはＰｄを用いて、ベンジル又は置換ベンジル基と一緒に、化合物ＩＶの全ての二重結合（Ｃ１３、Ｃ１４と、例えば、Ｃ５とＣ６間、Ｃ１７とＣ１８間及びＣ１８とＣ１９間に存在する場合にはその他のもの全て）を取り除く（工程２）。この後、適切なあらゆる試薬、但し、好ましくは金属残渣で生成物を汚染しないもの（例えば、プフィッツナー−モファット型酸化試薬）を用いて、化合物ＶのＣ１５アルコールをケトンに酸化する。１５−ケトプロスタグランジンＶＩは、ルビプロストンの二重に保護された形態であるが、これは、化合物ＶＩＩを提供するための、好ましくは酵素の助けにより達成される、イソプロピルエステル加水分解（工程４ｉ）と、次いで、ルビプロストンのイソプロピルエステルを提供するための酸性条件又はフッ化物試薬による脱シリル化（工程５ｉ）とによって、或いは、酸性条件又はフッ化物試薬による脱シリル化（工程４ｉｉ）と、次いで、好ましくは酵素の助けにより達成される、イソプロピルエステル加水分解（工程５ｉｉ）とによって、ルビプロストンに転化される。

エステルＶＩＩＩのＲ^１１は、アルキル、ベンジル、アリールになり得るが、メチル及びエチルが好適である。Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は、アルキル、アリールのいずれでもよいが、全てメチルが好適である。Ｒ^７は、Ｈ又はＢｎＲ^１４である。Ｒ^１５は、ＳｎＲ^８Ｒ^９Ｒ^１０、Ｂｒ、Ｉ、ＺｒＣｐ_２Ｍｅになり得るが、好ましくはＳｎＲ^８Ｒ^９Ｒ^１０である。Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０は、アルキル、アリールのいずれもよいが、全てｎ−ブチルが好適である。Ｒ^１３は、ないか、Ｌｉ(ＣＮ)、Ｌｉ_２(ＣＮ)Ｍｅ、Ｌｉ_２(ＣＮ)２-チエニル、Ｌｉ(ＣＨ＝ＣＨＣＨ(ＯＢｎＲ^１４)ＣＦ_２ＣＨ_ｎＣＨ_ｍＣＨ_ｏＣＨ_３)（Ｃ１７からＣ１９までが完全に飽和しているか又はＣ１７からＣ１９までが１つの単結合と１つの二重結合若しくは三重結合とを含有するように、ｎ、ｍ及びｏは、１又は２である）、Ｌｉ_２(ＣＮ)(ＣＨ＝ＣＨＣＨ(ＯＢｎＲ^１４)ＣＦ_２ＣＨ_ｎＣＨ_ｍＣＨ_ｏＣＨ_３)（Ｃ１７からＣ１９までが完全に飽和しているか又はＣ１７からＣ１９までが１つの単結合と１つの二重結合若しくは三重結合とを含有するように、ｎ、ｍ及びｏは、１又は２である）であるが、好ましくはＬｉ_２(ＣＮ)Ｍｅ又はＬｉ_２(ＣＮ)２-チエニルである。

これまでに報告されていない本発明の重要な側面には、１つの単一工程においてシクロペンテノンＩと高次クプラートＩＩＩからルビプロストンのプロスタグランジン骨格を形成する重要な工程として、１，４−共役付加を使用することが含まれる。この後、水素化／水素化分解の効率的利用によって、ＩＶの合成の人為結果であるＩＶの二重結合すべてを除去し、同時にＣ１５−Ｏ保護基を除去し、Ｖを提供する。上記合成における他の重要な側面は、エステル保護基を除去するために酵素を使用することである。酸性又は塩基性の水性条件によるイソプロピルエステルの加水分解が、敏感な１５−ケト−ＰＧＥ構造の分解を引き起こし、また、シリル保護基も除去し得るので直交しておらず、それにより、我々に合成の制御を提供しないため、これは好適である。最後の２工程は、脱保護工程であるが、いずれの順番でも行うことができる。

当然ながら、他のエステル類似体（例えば、メチル、エチル、プロピル等）が、ルビプロストンの合成において本発明の合成経路に続いて使用し得るが、イソプロピルが好適である。

スキーム４−ルビプロストンの合成の好適な方法の概要（番号は、ルビプロストンで見られる原子の番号を反映して示す）

従って、本発明は、ルビプロストンへの新しい合成経路を含み（スキーム５）、それは、保護されたシクロペンテノン（１）への高次クプラート化合物Ｃｕ−ＩＭ７（ＩＭ７からインサイチューで調製されたもの）の１，４−共役付加を重要な工程として含む。我々は、ルビプロストンのω−側鎖の出発物質であるＩＭ７（スキーム７）及びＩＭ７ｂ（スキーム８）（並びに４−メトキシベンジル誘導体ＩＭ７ｉ及びＩＭ７ｂｉ）への合成経路も提供した。我々が知る全てのルビプロストンの先行技術合成と違って、我々は、最終的にルビプロストン中でＣ１１−Ｏになるアルコールの保護のためにケイ素系保護基を利用した。我々の知る限り開示されている他の全ての先行技術方法は、ＴＨＰ等の炭素系保護基の使用を開示する。また、我々が知る全ての他の先行技術方法と違って、我々は、他の全ての先行技術方法で用いられるコーリー法と大きく異なる１，４−共役付加アプローチによってルビプロストンを調製した。これはまた他の全ての方法から離れた我々のアプローチを定める。

以下、上記合成経路を詳細に論じる。

１）−ルビプロストンの合成（スキーム５）：
工程１：第１の工程は、ＰＧＥ_２生成物（７）を提供するため、重要な分岐中間体（１）との高次クプラートＣｕ−ＩＭ７の１，４−共役付加（工程１ｃ）を含む。この工程での高次クプラートＣｕ−ＩＭ７は、ビニルリチウム誘導体Ｌｉ−ＩＭ７を形成するためのＭｅＬｉとＩＭ７の段階的な反応（工程１ａ）と、続いて、インサイチューで調製したクプラート塩（ＭｅＣｕ(ＣＮ)Ｌｉ）との反応による高次クプラートＣｕ−ＩＭ７への転化（工程１ｂ）とによってインサイチューで調製された（スキーム６も参照）。ＴＨＦが、この反応工程の主要な溶媒として好ましく、上記反応は、低温（好ましくは−３０℃未満）にて行われた。

保護されたＣ１５−ＯＨ（即ち、ＩＭ７のＣ３−ＯＨ）に使用されるベンジル保護基に加えて、ｐ−メトキシベンジル（別名４−メトキシベンジル）についても保護基としてテストする。それ故に、工程１はまた、ｐ−メトキシベンジル誘導体を用い、生成物ｐ−メトキシベンジルエーテル（７ｉ）を提供するための化合物（１）と高次クプラートＣｕ−ＩＭ７ｉ（ｐ−メトキシベンジルＩＭ７類似体、ＩＭ７ｉから調製されたもの）の１，４−共役付加を行うことによってテストされた。

工程２：我々は、有機溶媒中、水素雰囲気において炭素に担持されたパラジウム触媒を用いて全体的水素化／水素化分解を行い、３つ全ての二重結合（Ｃ５−Ｃ６、Ｃ１３−Ｃ１４及びＣ１７-１８）及びベンジル保護基（又は、化合物（７ｉ）を用いた場合、ｐ−メトキシベンジル基）を除去し、同時に化合物（８）を提供した。ＥｔＯＡｃが好ましい溶媒であったが、ＥｔＯＨを含む他の溶媒を使用することもできた。酸触媒（ｐ−ＴｓＯＨ等）も上記反応に使用することができた。

工程３：Ｃ１５−ＯＨを、スワーン酸化法（即ち、ＤＭＳＯを用いた(ＣＯＣｌ)_２）によって酸化させ、ジケトン（９）を提供した。ピリジン三酸化硫黄錯体／ＤＭＳＯを含む他の酸化剤も使用することができる。

工程４ｉ：エステルの加水分解を触媒できる様々な触媒（リパーゼＰＳＩＭ、リパーゼＰＳＳＤ、ＰＰＬ、ＰＳＩＭを含む）は、様々な反応条件下で、化合物（９）のイソプロピルエステルを加水分解することができ、そのカルボン酸形態（１０）を提供することを見出した。アセトン、グリコール、グリセロール、ＤＭＳＯを含む広範囲の有機溶媒を使用することができた。典型的に、加水分解反応は、高温（例えば、３０〜６０℃の間）及び適切なｐＨ範囲で行われた。有機溶媒としてのアセトンを高温下で水性緩衝液と併用して用いる場合、市販のリパーゼＰＳＳＤが好適であった。

工程５ｉ：ルビプロストンは、Ｈ_２ＳＯ_４、ＨＣｌ、ＴＦＡ等の鉱酸若しくは有機酸又はＴＢＡＦ及び含水ＨＦを含むフッ化物試薬を有機溶媒中で用いた化合物（１０）のＣ１１−ＯＴＢＳのＴＢＳ脱保護によって調製される。ＭｅＣＮ中でのＨ_２ＳＯ_４が好ましい。

或いは、最後の２工程（即ち、工程４ｉ及び工程５ｉ）は、工程４ｉｉのＴＢＳ脱保護（酸又はフッ化物試薬を用いる）と、次いで、工程５ｉｉのエステル加水分解（水性緩衝液／有機溶媒中におけるエステル加水分解酵素を用いる）による逆の順番でも行うことができる。

ルビプロストンは、例えばグアニジン等の窒素含有塩基を含む塩基との反応によって、塩誘導体に転化できる。これらの塩は、ルビプロストンと比べて異なる融点と溶解度を持つことができ、それにより、ルビプロストンを精製できる代替方法へのアクセスを提供する。我々は、ルビプロストンのグアニジン塩を形成する簡単な方法を提供する。

スキーム５−ルビプロストンの合成

２）ω−側鎖の合成：
ルビプロストンは、ＰＧＥ_２化合物を形成するための、化合物（１）と高次クプラート（Ｃｕ−ＩＭ７、Ｃｕ−ＩＭ７ｂ、Ｃｕ−ＩＭ７ｉ又はＣｕ−ＩＭ７ｂｉ）の１，４−共役付加によって調製される。高次クプラートＣｕ−ＩＭ７（又はＣｕ−ＩＭ７ｂ、Ｃｕ−ＩＭ７ｉ若しくはＣｕ−ＩＭ７ｂｉ）は、スキーム６に示されるようにｔｒａｎｓ−ビニルスタンナンＩＭ７（又はＩＭ７ｉ、ＩＭ７ｂ若しくはＩＭ７ｂｉ）から調製される。Ｔｈ−Ｃｕ−ＩＭ７を提供するため、メチル(シアノ)銅リチウム（ＭｅＣｕ(ＣＮ)Ｌｉ）の代わりに、市販の低次クプラート塩２−チエニル(シアノ)銅リチウムを工程１ｂにおいて使用することによって、メチルダミー配位子を２−チエニル基で置換することができる。

スキーム６−化合物（１）との１，４−共役付加に必要とされる必須の高次クプラートの合成

我々は、スキーム７に示されるような方法によって、必須のｔｒａｎｓ−ビニルスタンナンＩＭ７（又はＩＭ７ｉ）を調製した。市販の安価なＳＭ１は、その有機亜鉛臭化物誘導体にインサイチューで転化され、市販の安価なブタナールと反応し、アルコールＩＭ１を提供した。これは、ＴＨＦ中で行われるのが好ましく、ルイス酸を加えることが有益になり得た。Ｃ３−酸素の除去は、そのトリフラートＩＭ２への転化と、続いて、ＩＭ３を提供するための、ＤＢＵを含む塩基によって促進される脱離とによって達成された。ＩＭ３中の二重結合の存在は、全く重大ではなく、ルビプロストンは、ＩＭ３又はＩＭ３ｂのいずれからでも合成できる（スキーム８参照）。その合成後に、ＩＭ３をアシルアセチレンＩＭ４に転化し、それをワンポットで還元及び脱シリル化し、プロパルギルアルコールＩＭ５を提供した。それ故に、ＩＭ５は、ラジカル開始剤ＡＩＢＮの存在下、Ｂｕ_３ＳｎＨで処理され、Ｄｅ−Ｂｎ−ＩＭ７を提供し、次いで、塩基性条件（例えば、ＮａＨ又はｔ−ＢｕＯＮａであり、前者が好適であった）の下、臭化ベンジルを用いてＯ−保護を行い、ＩＭ７を提供した。或いは、ＩＭ５のＣ３−ＯＨを保護することができ、次いで、その生成物ＩＭ６をスタンニル化し、ＩＭ７を与えた。

スキーム７−高次クプラートＣｕ−ＩＭ７に必要とされるＩＭ７の合成

上述のように、ＩＭ３類似体２,２−ジフルオロヘキサン酸エチル（ＩＭ３ｂ）は市販されている。スキーム７に記載されたものと同一の合成順序によって、ＩＭ３ｂをＩＭ７ｂに転化させた（スキーム８）

スキーム８−高次クプラートＣｕ−ＩＭ７ｂに必要とされるＩＭ７ｂの合成

例１
工程１：ＩＭ１（２,２-ジフルオロ-３-ヒドロキシヘキサン酸エチル）の合成
約２５℃にて機械攪拌した亜鉛（１０８ｇ、１．６６ｍｏｌ）、ｎ−ブタノール（１００ｇ、１．３９ｍｏｌ）、ＣｅＣｌ_３・７Ｈ_２Ｏ（１０．１４ｇ、０．０２７ｍｏｌ）及び無水ＴＨＦ（１．３Ｌ）の混合物に、Ｎ_２下、２-ブロモ-２,２-ジフルオロ酢酸エチル（ＳＭ１、３３．８ｇ、０．１６７ｍｏｌ）を加えた。反応が開始するまで、その混合物を約２５℃で攪拌し、次いで、外部加熱なしで、ＳＭ１（３０４ｇ、１．５０ｍｏｌ）を滴下しながら３５℃にて加えた。添加が完了した後、ｎ−ブタノールが２．０％未満になるまで、その混合物を２０〜３５℃で攪拌した。次いで、反応混合物を約５℃まで冷却し、ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（８００ｍＬ）を約５℃にてゆっくりと加え、その後、６ＮのＨＣｌを用いてｐＨ３．０に調整した。その混合物を１５分間攪拌し、次いで、セライト栓を通してろ過した；そのろ過ケーキをＭＴＢＥ（１Ｌ）で１回洗った。次いで、合わせたろ液を分離し、水層をＭＴＢＥ（１Ｌ）で１回抽出した。合わせた有機層を、ＮａＨＣＯ_３飽和水溶液（１Ｌ）で１回、ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（１Ｌ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜５０℃にて濃縮し、ＧＣ純度８０％で２８１ｇの粗ＩＭ１を与えた。真空蒸留により粗ＩＭ１を精製し、ＧＣ純度９８％及びＧＣ全収率５８％で１６０ｇのＩＭ１を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 4.36 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 4.10 - 3.98 (m, 1H), 1.68 - 1.58 (m, 2H), 1.57 -1.40 (m, 2H), 1.37 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 0.97 (t, J = 7.1 Hz, 3H)
m/z (GC-MS): 197 ([MH]⁺, 1), 124 (75), 96 (100), 73 (45), 55 (80)

例２
工程２：ＩＭ２（２,２-ジフルオロ-３-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ヘキサン酸エチル）の合成
０〜５℃にて機械攪拌した無水ＤＣＭ（６ｍＬ)中におけるＩＭ１（３ｇ、０．０１５ｍｏｌ）及びピリジン（１．４２ｇ、０．０１８ｍｏｌ）の溶液に、Ｎ_２下、０〜１５℃にて滴下しながら、無水ＤＣＭ（３ｍＬ）中におけるＴｆ_２Ｏ（４．５３ｇ、０．０１６ｍｏｌ）の混合物を加えた。ＩＭ１が２．０％未満になるまで、その混合物を５〜１５℃で攪拌した。次いで、水（９ｍＬ）を加え、その結果生じた混合物を分離した。水層をＤＣＭ（９ｍＬ）で１回抽出し、合わせた有機層を、５％ＨＣｌ水溶液（９ｍＬ）で１回、ＮａＨＣＯ_３飽和水溶液（９ｍＬ）で１回、食塩水（９ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜４５℃にて濃縮し、ＧＣ純度９６％で４．２ｇの粗ＩＭ２を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): ¹H NMR (300 MHz, CDCl₃) δ 5.21 (m, 1H), 4.40 (q, J = 7.2 Hz, 2H), 2.00 - 1.74 (m, 2H), 1.70-1.43 (m, 2H), 1.39 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.00 (t, J = 7.3 Hz, 3H)
m/z (GC-MS): 329 ([MH]⁺, 1), 151 (20), 124 (15), 106 (70), 77 (100), 69 (45), 55 (55)

例３
工程３：ＩＭ３（２,２-ジフルオロヘキサ-３-エン酸エチル）の合成
機械攪拌したフラスコに、無水ＭＴＢＥ（９００ｍＬ）中におけるＩＭ２（３００ｇ、０．９１ｍｏｌ）及びＤＢＵ（１６５ｇ、１．０８ｍｏｌ）を加え、その混合物を加熱し、ＩＭ２が３．０％未満になるまで攪拌しながら還流させた。次いで、反応混合物を０〜１０℃に冷却し、その後に、５％ＨＣｌ水溶液（９００ｍＬ）を加えた。その結果生じた溶液を分離し、水層をＭＴＢＥ（９００ｍＬ）で１回抽出した。合わせた有機層を、ＮａＨＣＯ_３飽和水溶液（９００ｍＬ）で１回、食塩水（９００ｍＬ）で１回洗浄し、無水ＭｇＳＯ_４で乾燥させ、次いで、減圧下＜４５℃にて濃縮し、１６７ｇの粗ＩＭ３を与えた。真空蒸留により粗ＩＭ３を精製し、ＧＣ純度８５％及びＩＭ１に基づいたＧＣ収率６６％で１２５ｇのＩＭ３を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 6.33 (dtt, J = 11.5, 6.2, 2.6 Hz, 1H), 5.75 - 5.58 (m, 1H), 4.32 (q, J = 7.1 Hz, 2H), 2.24 - 2.11 (m, 2H), 1.35 (t, J = 7.1 Hz, 3H), 1.05 (t, J = 7.4 Hz, 3H)
m/z (GC-MS): 179 ([MH]⁺, 4), 106(65), 77 (100), 55 (20)

例４
工程４：ＩＭ４（４,４-ジフルオロ-１-(トリメチルシリル)オクタ-５-エン-１-イン-３-オン）の合成
０〜１０℃にて機械攪拌した無水ＴＨＦ（８８０ｍＬ）中におけるＴＭＳ−アセチリド（１８２ｇ、１．８５ｍｏｌ）の溶液に、Ｎ_２下、０〜１０℃にて滴下しながら、ｎ−ＢｕＬｉの溶液（２．５ｍｏｌ／Ｌ、７４８ｍＬ、１．８７ｍｏｌ）を加えた。反応混合物をこの温度にて１時間攪拌した。機械攪拌したフラスコに、無水ＴＨＦ（２２０ｍＬ）中におけるＩＭ３（２２０ｇ、１．２３ｍｏｌ、１．０ｅｑ．、ＧＣ純度９２％）及びＢＦ_３／Ｅｔ_２Ｏ（２６４ｇ、１．８６ｍｏｌ）をＮ_２下で加えた。その溶液を−７０〜−７８℃に冷却し、次いで、ＴＭＳ−アセチレン−リチウム溶液を−６０〜−７８℃で２時間かけて加えた。ＩＭ３が消失するまでその反応溶液を−７０〜−７８℃で攪拌した。その反応の中にＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（１．１Ｌ）をゆっくりと加え、温度を０〜１０℃まで温めた。次いで、その混合物をＥｔＯＡｃ（５５０ｍＬ）で１回抽出し、その後分離した；水層をＥｔＯＡｃ（５５０ｍＬ）で１回抽出した。合わせた有機層を、水（６６０ｍＬ）で１回、食塩水（６６０ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜５５℃にて濃縮し、ＧＣ純度８７％で２９７ｇの粗ＩＭ４を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): ¹H NMR (300 MHz, CDCl₃) δ 6.37 (dtt, J = 11.3, 6.3, 2.5 Hz, 1H), 5.69 - 5.52 (m, 1H), 2.26 - 2.13 (m, 2H), 1.06 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 0.28 (s, 9H)
m/z (GC-MS): 231 ([MH]⁺, 1), 125 (100), 97 (35), 73 (30)

例５
工程５：ＩＭ５（４,４-ジフルオロオクタ-５-エン-１-イン-３-オール）の合成
０〜−５℃のＭｅＯＨ（１．５Ｌ）中におけるＩＭ４（３２１ｇ、１．４ｍｏｌ）の溶液に、固体ＮａＢＨ_４（１９．６ｇ、０．７ｍｏｌ）をゆっくりと加えた。ＩＭ４が消費されるまで、反応溶液をこの温度で攪拌した。次いで、固体ＮａＯＭｅ（３７．７ｇ、０．７ｍｏｌ）を加え、ＴＭＳ−ＩＭ５が消費されるまで、反応溶液をこの温度で攪拌した。ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（１Ｌ）及びＨ_２Ｏ（１Ｌ）を加え、次に、６ＭのＨＣｌを用いて、その混合物をｐＨ５〜６に調整し、その後、その混合物をＭＴＢＥ（各６００ｍＬ）で３回抽出した。合わせた有機層を、水（６００ｍＬ）で１回、食塩水（６００ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜４５℃にて濃縮し、ＧＣ純度８７％で２２４ｇの粗ＩＭ５を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 6.32 (dtd, J = 10.8, 6.1, 2.3 Hz, 1H), 5.78 - 5.59 (m, 1H), 4.57 - 4.46 (m, 1H), 2.55 (d, J = 2.2 Hz, 1H), 2.26 - 2.12 (m, 2H), 1.06 (t, J = 7.4 Hz, 3H)
m/z (GC-MS): 159 ([M-H]⁺, 1), 105 (5), 77 (100), 55 (30)

例６
工程６：Ｄｅ−Ｂｎ−ＩＭ７（(１Ｅ)-４,４-ジフルオロ-１-(トリブチルスタンニル)オクタ-１,５-ジエン-３-オール）の合成
トルエン（５５０ｍＬ）中におけるＩＭ５（１１０ｇ、０．６８ｍｏｌ）の高温（７０℃）溶液に、攪拌しながら、Ｂｕ_３ＳｎＨ（２１９ｇ、０．７５ｍｏｌ）及びＡＩＢＮ（１２．４ｇ、０．０７５ｍｏｌ）を加え、ＩＭ５が消費されるまで、その混合物を８０〜８５℃で攪拌した。反応混合物を＜５５℃で蒸発させ、３３８ｇの粗Ｄｅ−Ｂｎ−ＩＭ７を与えた。カラムクロマトグラフィーによって粗Ｄｅ−Ｂｎ−ＩＭ７を精製し、ＧＣ純度９１％で８２．５ｇのＤｅ−Ｂｎ−ＩＭ７、及びｃｉｓ−Ｄｅ−Ｂｎ−ＩＭ７とＤｅ−Ｂｎ−ＩＭ７の混合物１１１．５ｇを与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 6.48 - 6.40 (m, 1H), 6.27 - 6.13 (m, 1H), 6.01 (dd, J = 19.3, 5.1 Hz, 1H), 5.55 (dtt, J = 15.4, 11.9, 1.7 Hz, 1H), 4.34 - 4.22 (m, 1H), 2.20 - 2.11 (m, 2H), 1.55 - 1.43 (m, 6H), 1.30 (dq, J = 14.0, 7.1 Hz, 6H), 1.03 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 0.90 (dd, J = 14.5, 7.3 Hz, 15H)
m/z (ES-API, Neg): 451, 495 (M+HCOO^-)

例７
工程７：ＩＭ７（((１Ｅ,５Ｅ)-３-(ベンジルオキシ)-４,４-ジフルオロオクタ-１,５-ジエニル)トリブチルスタンナン）の合成
機械攪拌したＤＭＦ（１７０ｍＬ）中におけるＮａＨ（４．０ｇ、６０％、０．１ｍｏｌ）の混合物に、ＤＭＦ（２０ｍＬ）中におけるＤｅ−Ｂｎ−ＩＭ７（４２ｇ、９３．１ｍｍｏｌ）の溶液を−１０〜０℃にて加え、反応混合物をこの温度にて１時間攪拌し、Ｄｅ−Ｂｎ−ＩＭ７が消費されるまで、−１０〜０℃の反応混合物中に、ＤＭＦ（２０ｍＬ）中におけるＢｎＢｒ（１６．７ｇ、９７．７ｍｍｏｌ）の溶液を滴下しながら加えた。水（２１０ｍＬ）を加え、その混合物をＭＴＢＥ（各２１０ｍＬ）で２回抽出した。合わせた有機層を、ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（２１０ｍＬ）で１回、水（２１０ｍＬ）で１回、食塩水（２１０ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜４５℃にて濃縮し、ＨＰＬＣ純度９１．１％で５２．３ｇの粗ＩＭ７を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 7.39 - 7.26 (m, 5H), 6.38 (d, J = 19.2 Hz, 1H), 6.19 - 6.09 (m, 1H), 5.88 (dd, J = 19.2, 6.8 Hz, 1H), 5.60 (dtt, J = 15.4, 11.9, 1.7 Hz, 1H), 4.69 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 4.51 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 3.94 - 3.87 (m, 1H), 2.20 - 2.06 (m, 2H), 1.57 - 1.43 (m, 6H), 1.32 (dt, J = 15.0, 7.4 Hz, 6H), 1.02 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 0.91 (q, J = 7.5 Hz, 15H)
m/z (EI): 581 ([M+K⁺], 100), 565 ([M+Na⁺], 60)

例８
工程８：ＩＭ７ｉ（((１Ｅ,５Ｅ)-３-(ベンジルオキシ)-４,４-ジフルオロオクタ-１,５-ジエニル)トリブチルスタンナン）の合成
機械攪拌したＤＭＦ（２０ｍＬ）中におけるＮａＨ（０．４９ｇ、６０％、０．０１２ｍｏｌ）の混合物に、ＤＭＦ（２．５ｍＬ）中におけるＤｅ−Ｂｎ−ＩＭ７（５ｇ、０．０１１ｍｏｌ）の溶液を−１０〜０℃にて加え、反応混合物をこの温度で１時間攪拌し、Ｄｅ−Ｂｎ−ＩＭ７が消費されるまで、−１０〜０℃の反応混合物中に、ＤＭＦ（２．５ｍＬ）中における１-(ブロモメチル)-４-メトキシベンゼン（２．３４ｇ、０．０１１６ｍｏｌ）の溶液を滴下しながら加えた。水（２５ｍＬ）を加え、その混合物をＭＴＢＥ（各２５ｍＬ）で２回抽出した。合わせた有機層を、ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（２５ｍＬ）で１回、水（２５ｍＬ）で１回、食塩水（２５ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜４５℃にて濃縮し、６．３ｇの粗ＩＭ７ｉを与えた。カラムクロマトグラフィーによって粗ＩＭ７ｉを精製し、ＧＣ純度９２％及びＨＰＬＣ収率６４％で４．２ｇのＩＭ７ｉを与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 7.25 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.87 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 6.42 - 6.31 (m, 1H), 6.13(d, J = 15.8 Hz, 1H), 5.87 (dd, J = 19.2, 6.7 Hz, 1H), 5.58 (dd, J = 26.5, 13.2 Hz, 1H), 4.62 (d, J = 11.8 Hz, 1H), 4.44 (d, J = 11.8 Hz, 1H), 3.94 - 3.87 (m, 1H), 2.20 - 2.06 (m, 2H), 1.57 - 1.43 (m, 6H), 1.32 (dt, J = 15.0, 7.4 Hz, 6H), 1.02 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 0.91 (q, J = 7.5 Hz, 15H)
m/z (ES API, Pos): 611 ([M+K⁺], 100), 595 ([M+Na⁺], 70)

例９
工程９：ＩＭ６（(Ｅ)-((４,４-ジフルオロオクタ-５-エン-１-イン-３-イルオキシ)メチル)ベンゼン）の合成
機械攪拌したＴＨＦ（３００ｍＬ）中におけるＩＭ５（１００ｇ、ＧＣ純度７６％、０．６２ｍｏｌ）及びｔ−ＢｕＯＫ（７１．４ｇ、０．７４ｍｏｌ）の混合物に、ＴＨＦ（２００ｍＬ）中におけるＢｎＢｒ（１１６ｇ、０．６８ｍｏｌ）の溶液を６０〜７０℃にて加え、ＩＭ５が５％未満になるまで、反応混合物をこの温度で１時間攪拌した。その混合物を１５〜３０℃まで冷却し、水（１Ｌ）及びＭＴＢＥ（１Ｌ）を加え、その混合物を１５分間攪拌し、その水層をＭＴＢＥ（５００ｍＬ）で１回抽出した。合わせた有機層を、ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（５００ｍＬ）で１回、食塩水（５００ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜４５℃にて濃縮し、ＨＰＬＣ純度６１％で１５５ｇの粗ＩＭ６を与えた。カラムクロマトグラフィーによって粗ＩＭ６を精製し、ＧＣ純度８６％及びＧＣ収率６２％で８６ｇのＩＭ６を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 7.37 - 7.31 (m, 5H), 6.35 - 6.22(m, 1H), 5.78 - 5.61 (m, 1H), 4.86 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 4.64 (d, J = 12.0 Hz, 1H), 4.29 (dt, J = 8.0, 2.2 Hz, 1H), 2.55 (d, J = 8.0, 2.1 Hz, 1H), 2.22 - 2.09 (m, 2H), 1.02 (t, J = 7.4 Hz, 3H)

例１０
工程１０：ＩＭ７の合成
トルエン（３４０ｍＬ）中におけるＩＭ６（６９ｇ、８６％、０．２８ｍｏｌ）の高温（８０℃）溶液に、Ｂｕ_３ＳｎＨ（８８ｇ、０．３０ｍｏｌ）及びＡＩＢＮ（５．１ｇ、０．０３ｍｏｌ）を攪拌下で加えた。ＩＭ６が消費されるまで、その混合物を８０〜８５℃で攪拌した。その反応混合物を＜５５℃で蒸発させ、１５０ｇの粗ＩＭ７を与えた。カラムクロマトグラフィーによって粗ＩＭ７を精製し、ＧＣ純度６１．２％及びＧＣ収率６５％で７５ｇのＩＭ７を与えた。

工程１ａ：化合物（７）の合成
（(Ｚ)-７-((１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)-２-((１Ｅ,５Ｅ)-３-(ベンジルオキシ)-４,４-ジフルオロオクタ-１,５-ジエニル)-３-(ｔｅｒｔ-ブチルジメチル-シリルオキシ)-５-オキソシクロペンチル)ヘプタ-５-エン酸イソプロピル）
例１１
−１０〜０℃のＴＨＦ（３７５ｍＬ）中におけるＣｕＣＮ（２６．７ｇ、０．３ｍｏｌ）の混合物に、Ｎ_２下で滴下しながら、ＭｅＬｉのジエトキシメタン溶液（９１ｍＬ、３Ｍ、０．２７ｍｏｌ）を加えた。反応混合物をこの温度で０．５時間攪拌した。−６０〜−７０℃のＴＨＦ（７５０ｍＬ）中におけるＩＭ７（１４７ｇ、ＨＰＬＣ純度９０％、０．２７ｍｏｌ）の溶液に、Ｎ_２下で滴下しながら、ＭｅＬｉのジエトキシメタン溶液（９１ｍＬ、３Ｍ、０．２７ｍｏｌ）を加えた。ＩＭ７が消費されるまで、反応混合物をこの温度で攪拌した。その反応の中に、調製したＭｅＣｕ(ＣＮ)Ｌｉ溶液を更に３０分間かけて−４０〜−５０℃で滴下しながら加えた。次いで、先の反応溶液中に、ＴＨＦ（３７５ｍＬ）中における化合物（１）（８２．７ｇ、０．２２ｍｏｌ）の溶液を−５０〜−６０℃で滴下しながら加えた。反応が完了するまで、その反応混合物をこの温度で攪拌した。ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（７５０ｍＬ）をこの温度で加え、次いで、その結果生じた混合物を室温まで温め、ろ過し、そのろ過ケーキをＭＴＢＥ（７５０ｍＬ）で１回洗った。ろ液を分離し、水層をＭＴＢＥ（３７５ｍＬ）で１回抽出した。合わせた有機層を食塩水（７５０ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜５５℃にて濃縮し、２２８ｇの粗化合物（７）を与え、カラムクロマトグラフィーによってそれを精製し、ＨＰＬＣ純度９０％及び化合物（１）に基づいた収率７０％で１０７ｇの化合物（７）を与えた。

例１２
−６０〜−７０℃のＴＨＦ（３０ｍＬ）中におけるＩＭ７（５ｇ、９．２ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ_２下で滴下しながら、ＭｅＬｉのジエトキシメタン溶液（３．１ｍＬ、３Ｍ、９．３ｍｍｏｌ）を加えた。ＩＭ７が消費されるまで、反応混合物をこの温度にて攪拌した。リチウム２−チエニルシアノクプラート（３７ｍＬ、０．２５Ｍ、９．２５ｍｍｏｌ）をＮ_２下で滴下しながら加えた。その反応混合物をこの温度で１時間攪拌した。次いで、先の反応溶液中に、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中における化合物（１）（２．８ｇ、７．４ｍｍｏｌ）の溶液を−５０〜−６０℃で滴下しながら加えた。反応が完了するまで、反応混合物をこの温度で攪拌した。ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（１５ｍＬ）をこの温度で加え、次いで、その結果生じた混合物を室温まで温め、ろ過し、そのろ過ケーキをＥｔＯＡｃ（２５ｍＬ）で１回洗った。ろ液を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（２５ｍＬ）で１回抽出した。合わせた有機層を食塩水（２５ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜５５℃にて濃縮し、ＨＰＬＣ純度２９．５％及び化合物（１）に基づいたＨＰＬＣ収率５１．８％で８．２ｇの粗化合物（７）を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 7.39 - 7.27 (m, 5H), 6.24 - 6.10 (m, 1H), 5.81 - 5.69 (m, 1H), 5.68 - 5.50 (m, 2H), 5.49 - 5.27 (m, 2H), 4.99 (dt, J = 12.5, 6.3 Hz, 1H), 4.68 (dd, J = 12.0, 3.0 Hz, 1H), 4.52 (dd, J = 12.0, 5.9 Hz, 1H), 4.14 - 4.04 (m, 1H), 4.04 -3.92 (m, 1H), 2.74 - 2.66 (m, 1H), 2.65 - 2.51 (m, 2H), 2.49 - 2.28 (m, 2H, H8), 2.28 - 1.96 (m, 5H), 1.75 - 1.58 (m, 2H), 1.30 - 1.23 (m, 2H), 1.21 (d, J = 6.3 Hz, 6H), 1.03 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 0.88 (s, 9H), 0.05 (dd, J = 5.9, 3.4 Hz, 6H)
m/z (API-ES, Pos): 655 ([M+Na⁺], 100)

例１３
工程１ｂ：化合物（７ｉ）の合成
（(Ｚ)-７-((１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)-３-(ｔｅｒｔ-ブチルジメチルシリルオキシ)-２-((１Ｅ,５Ｅ)-４,４-ジフルオロ-３-(４-メトキシベンジルオキシ)オクタ-１,５-ジエニル)-５-オキソシクロペンチル)ヘプタ-５-エン酸イソプロピル）
−１０〜０℃のＴＨＦ（１０ｍＬ）中におけるＣｕＣＮ（０．７７ｇ、８．５ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｎ_２下で滴下しながら、ＭｅＬｉのジエトキシメタン溶液（２．６ｍＬ、３Ｍ、７．８ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物をこの温度で０．５時間攪拌した。−６０〜−７０℃のＴＨＦ（２０ｍＬ）中におけるＩＭ７ｉ（４．１ｇ、ＨＰＬＣ純度９２％、７．８ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ_２下で滴下しながら、ＭｅＬｉのジエトキシメタン溶液（２．６ｍＬ、３Ｍ、７．８ｍｍｏｌ）を加えた。ＩＭ７ｉが消費されるまで、反応混合物をこの温度で攪拌した。その反応の中に、調製したＭｅＣｕ(ＣＮ)Ｌｉ溶液を更に０．５時間かけて−４０〜−５０℃で滴下しながら加えた。次いで、先の反応溶液中に、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中における化合物（１）（２．３７ｇ、６．２ｍｍｏｌ）の溶液を−５０〜−６０℃で滴下しながら加えた。反応が完了するまで、その反応混合物をこの温度で攪拌した。ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（２０ｍＬ）をこの温度で加え、次いで、その結果生じた混合物を室温まで温め、ろ過し、そのろ過ケーキをＭＴＢＥ（２０ｍＬ）で１回洗った。ろ液を分離し、水層をＭＴＢＥ（１０ｍＬ）で１回抽出した。合わせた有機層を食塩水（２０ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜５５℃にて濃縮し、６．８ｇの粗化合物（７ｉ）を与え、カラムクロマトグラフィーによってそれを精製し、ＨＰＬＣ純度８８．６％及び化合物（１）に基づいたＨＰＬＣ収率５１％で２．３ｇの化合物（７ｉ）を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 7.26 - 7.20 (m, 2H), 6.91 - 6.83 (m, 2H), 6.25 - 6.08 (m, 1H), 5.72 (ddd, J = 17.3, 12.8, 4.8 Hz, 1H), 5.65 - 5.50 (m, 2H), 5.49 - 5.28 (m, 2H, H5), 4.99 (dt, J = 12.5, 6.3 Hz, 1H), 4.62 (dd, J = 11.6, 2.3 Hz, 1H), 4.45 (dt, J = 11.6, 5.6 Hz, 1H), 4.17 - 4.02 (m, 1H), 4.02 - 3.89 (m, 1H), 3.81 (s, 3H), 2.74 - 2.50 (m, 2H), 2.49 - 1.96 (m, 9H), 1.73 - 1.59 (m, 2H), 1.28 (dd, J = 9.6, 4.4 Hz, 2H), 1.21 (d, J = 6.3 Hz, 6H), 1.02 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 0.88 (s, 9H), 0.05 (dd, J = 6.0, 3.3 Hz, 6H).
m/z (API-ES, Pos): 680 ([M+NH₄]⁺, 100), 664 (M⁺, 10)

工程２：化合物（８）の合成
（７-((１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)-３-(ｔｅｒｔ-ブチルジメチルシリルオキシ)-２-(４,４-ジフルオロ-３-ヒドロキシオクチル)-５-オキソシクロペンチル)ヘプタン酸イソプロピル）
例１４
調製された先の化合物（７）（５７ｇ、ＨＰＬＣ純度９１％、０．９０ｍｏｌ）、１０％Ｐｄ／Ｃ（５．７ｇ、５３％Ｈ_２Ｏ）及びＥｔＯＡｃ（５７０ｍＬ）を、Ｈ_２下、０．４ＭＰａにて、６０℃まで加熱し、化合物（７）が消費されるまで、その反応を攪拌した。次いで、セライト栓を通して反応混合物をろ過し、ろ過ケーキをＥｔＯＡｃ（２８５ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、ろ液を減圧下＜５５℃にて濃縮し、５４ｇの化合物（８）を与えた。カラムクロマトグラフィー（ＥｔＯＡｃ：ｎ−ヘプタン＝１：１０）によってその残留物を精製し、粗収率９６％で４７ｇの化合物（８）を単離した。

例１５
調製された先の化合物（７ｉ）（２．３ｇ、ＨＰＬＣ純度８９％、３．５ｍｍｏｌ）、１０％Ｐｄ／Ｃ（０．２３ｇ、４０％Ｈ_２Ｏ）及びＥｔＯＡｃ（２３ｍＬ）を、Ｈ_２下、０．４ＭＰａにて、６０℃まで加熱し、化合物（７ｉ）が消費されるまで、その反応を攪拌した。次いで、セライト栓を通して反応混合物をろ過し、ろ過ケーキをＥｔＯＡｃ（１２ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、ろ液を減圧下＜５５℃にて濃縮し、２．０ｇの化合物（８）を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 5.07 - 4.91 (m, 1H), 4.14 - 4.00 (m, 1H), 3.78 - 3.58 (m, 1H), 2.65 - 2.54 (m, 1H), 2.33 (dd, J=6.3, 30.2 Hz, 1H), 2.25 (t, J= 7.5 Hz, 3H), 2.17 (dd, J=6.7, 5.3 Hz, 1H), 2.02 - 1.71 (m, 7H), 1.67 - 1.25 (m, 14H), 1.22 (d, J=6.3, 6H), 0.93 (t, J=7.2 Hz, 3H), 0.89 (d, J=1.5 Hz, 9H), 0.07 (dd, J=9.3, 2.6 Hz, 6H)
m/z (API-ES, Pos): 549 (M+H⁺, 100)

例１６
工程３：化合物（９）の合成
（７-((１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)-３-(ｔｅｒｔ-ブチルジメチルシリルオキシ)-２-(４,４-ジフルオロ-３-オキソオクチル)-５-オキソシクロペンチル)ヘプタン酸イソプロピル）
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中における塩化オキサリル（１．２７ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）の溶液を−６０〜−７０℃に冷却し、ＤＣＭ（５ｍＬ）中におけるＤＭＳＯ（１．５６ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）を滴下しながら加え、その溶液を３０分間攪拌した。ＤＣＭ（１０ｍＬ）中における化合物（８）（５．０ｇ、９．１ｍｍｏｌ）の溶液を滴下しながら加え、その混合物を−６０〜−７０℃で１時間攪拌した。その混合物中にＥｔ_３Ｎ（３．０４ｇ、３０．０ｍｏｌ）を滴下しながら加え、反応が完了するまでその反応をこの温度で攪拌した。その混合物を０℃に温め、その溶液に水（５０ｍＬ）を加え、その混合物を５分間攪拌し、次いで分離した。水層をＤＣＭ（５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を、飽和ＮＨ_４Ｃｌ（５０ｍＬ）で１回、水（５０ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜５０℃にて濃縮し、ＨＰＬＣ純度８７％及びＨＰＬＣ収率９１％で４．５７ｇの化合物（９）を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 5.09 - 4.91 (m, 1H), 4.03 (q, J=6.7, 1H), 3.00 - 2.73 (m, 2H), 2.60 (ddd, J=18.1, 6.6, 1.1 Hz, 1H), 2.25 (t, J=7.5, 2H), 2.20 (d, J=7.2 Hz, 1H), 2.14 (d, J=7.2 Hz, 1H), 2.10 - 1.25 (m, 21H), 1.22 (d, J=6.3 Hz, 6H), 0.92 (t, J=6.9 Hz, 3H), 0.89 (s, 9H), 0.07 (d, J=8.6, 6H)
m/z (EI): 547 (M+H⁺, 100), 569 (M+Na⁺, 45)

例１７
工程４ａ：化合物（１０）の合成
（７-((１Ｒ,２Ｒ,３Ｒ)-３-(ｔｅｒｔ-ブチルジメチルシリルオキシ)-２-(４,４-ジフルオロ-３-オキソオクチル)-５-オキソシクロペンチル)ヘプタン酸）
アセトン（１５ｍＬ）及びｐＨ７．０緩衝液（０．５％ＮａＨ_２ＰＯ_４、１ＮのＮａＯＨによりｐＨを７．０に調整；３５ｍＬ）中における化合物（９）（５．０ｇ、９．１４ｍｍｏｌ）の溶液に、リパーゼＰＳＳＤ（０．５ｇ）を加え、化合物（９）がほとんど消費されるまで５０℃にて攪拌し、シリカゲル栓を通してその反応をろ過し、ＭＴＢＥ（１００ｍＬ）で洗浄し、ろ液を水で２回洗浄し（５０ｍＬ×２）、次いで、減圧下＜４０℃にて濃縮し、４．７８ｇの粗化合物（１０）を与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ: 4.03 (q, J=6.7 Hz, 1H), 3.00 - 2.72 (m, 2H), 2.66 - 2.55 (dd, J=12.3 Hz, 7.5 Hz, 1H), 2.34 (t, J=7.5, 2H), 2.17 (dd, J=18.1Hz, 7.3Hz, 1H), 2.08 - 1.17 (m, 22H), 0.92 (t, J=6.9 Hz, 3H), 0.89 (s, 9H), 0.07 (d, J=8.6, 6H)
m/z (ES-API, Neg): 503 ([M-H]^-, 35), 371(100)

例１８
工程４ｂ：ｉＰｒ−ルビプロストンの合成
７-((２Ｒ,４ａＲ,５Ｒ,７ａＲ)-２-(１,１-ジフルオロペンチル)-２-ヒドロキシ-６-オキソ-オクタヒドロシクロペンタ[ｂ]ピラン-５-イル)ヘプタン酸イソプロピル
ＭｅＣＮ（１０ｍＬ）中における化合物（９）（１．０ｇ、１．８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＦＡ（１．０ｇ、８．８ｍｍｏｌ）を加え、その混合物を１５〜３０℃で１６時間攪拌し、ＴＬＣ分析は、化合物（９）が２０％未満であることを示した。次いで、水（１０ｍＬ）及びＭＴＢＥ（１０ｍＬ）を加え、５分間攪拌し、その後、分離した。水層をＭＴＢＥ（１０ｍＬ）で１回抽出した。合わせた有機層を、水で２回（１０ｍＬ×２）、ＮａＨＣＯ_３飽和水溶液（１０ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜５０℃にて濃縮し、０．８５ｇの粗ｉＰｒ−ルビプロストンを与えた。

例１９
工程５ａ：化合物（１０）を経たルビプロストンの合成
（７-((２Ｒ,４ａＲ,５Ｒ,７ａＲ)-２-(１,１-ジフルオロペンチル)-２-ヒドロキシ-６-オキソ-オクタヒドロシクロペンタ-[ｂ]ピラン-５-イル)ヘプタン酸）
ＭｅＣＮ（５４ｍＬ）中における化合物（１０）（３．６ｇ、７．１４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｈ_２ＳＯ_４（２ｍｏｌ／Ｌ、３．５７ｍＬ、７．１４ｍｍｏｌ）を加え、化合物（１０）が消費されるまで、その混合物を１５℃±５℃で攪拌した。水（５４ｍＬ）を加え、ＭＴＢＥで２回抽出した（３６ｍＬ×２）。合わせた有機層を、ＮａＨＣＯ_３飽和水溶液（３６ｍＬ）で１回、水（３６ｍＬ）で１回洗浄し、無水ＭｇＳＯ_４で乾燥させ、次いで、減圧下＜４０℃にて濃縮し、ＨＰＬＣ純度６５％で２．５８ｇの粗生成物を与え、カラムクロマトグラフィーによってそれを精製し、ＨＰＬＣ純度８０％で１．３ｇのルビプロストンを与えた。ルビプロストン（０．５ｇ、ＨＰＬＣ純度８０％）を２０〜３０℃のＭＴＢＥ（０．５ｍＬ）中に溶解し、次いで、ｎ−ヘプタン（２ｍＬ）を２時間激しく攪拌しながら０〜１０℃に冷却した。固体ルビプロストンをろ過し、ｎ−ヘプタン（２ｍＬ）で洗浄し、真空下４０℃にて乾燥させ、０．３２ｇの固体ルビプロストンを与えた。
¹H NMR (300MHz, CDCl₃): δ 4.19 (ddd, J = 11.4, 10.0, 7.2 Hz, 1H), 2.58 (dd, J = 17.6, 7.2 Hz, 1H), 2.35 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 2.26 (dd, J = 17.7, 11.6 Hz, 1H), 2.10 - 1.75 (m, 7H), 1.72 - 1.45 (m, 7H), 1.45 - 1.22 (m, 8H,), 0.94 (t, J = 7.3 Hz, 3H)
m/z (ES-API, Neg): 389 ([M-H]^-, 100)

例２０
工程５ｂ：ルビプロストンのイソプロピルエステルを経たルビプロストンの合成
ルビプロストンのイソプロピルエステル（０．３ｇ）の溶液に対し、アセトン（１．５ｍＬ）及びｐＨ８．０緩衝液（２ｍＬ）中におけるリパーゼＰＳＳＤ（０．３ｇ）を５０〜６０℃で２２時間攪拌した。その反応溶液を減圧下＜５０℃にて濃縮し、０．４ｇの粗生成物を与え、その残留物中に水（６ｍＬ）及びＭＴＢＥ（６ｍＬ）を加え、５分間攪拌し、分離し、水層をＭＴＢＥ（６ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を、水（６ｍＬ）で１回、食塩水（６ｍＬ）で１回洗浄し、次いで、減圧下＜５０℃にて濃縮し、０．３ｇの粗生成物を与えた。

例２１
工程６：ルビプロストン塩の合成

ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中におけるグアニジン塩酸塩（１０ｇ、０．１０５ｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＨ（５０ｍＬ）中におけるＭｅＯＮａ（４．０ｇ、０．１０５ｍｏｌ）の溶液を約２５℃にて加えた。その溶液をこの温度で１時間攪拌し、白色固体が沈殿した。得られたスラリーをろ過し、沈殿したＮａＣｌを取り除き、グアニジンのＭｅＯＨ溶液を与えた。ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中におけるルビプロストン（０．２ｇ、０．５１３ｍｍｏｌ）の溶液に、グアニジンのＭｅＯＨ溶液（０．７３ｍＬ、０．５１１ｍｍｏｌ）を約２５℃にて加えた。その混合物をこの温度で１時間攪拌し、次いで、溶媒を蒸発させた。残留物にＭＴＢＥ（２ｍＬ）を＜３０℃にて加え、真空下で蒸発させた。これを更に２回以上繰り返し、次いで、ＴＨＦ（２ｍＬ）を加えて、白色固体を生じさせた。約２５℃にて攪拌した後、その固体をろ過により単離し、ルビプロストンのグアニジン塩を白色固体として与えた。白色固体の^１ＨＮＭＲ解析は、カルボキシラート基のメチレンシグナルαが遊離ルビプロストンと比べてシフトしたことを示した。
¹H NMR (300MHz, CD₃OD): δ = 4.22 - 4.10 (m, 1H), 2.48 (dd, J=17.4, 7.2 Hz, 1H), 2.19 (dd, J=17.4, 11.7 Hz, 1H), 2.16 (t, J=7.5 Hz, 2H), 2.10 - 1.26 (m, 22H), 0.93 (t, J = 7.2 Hz, 3H).

Claims

ルビプロストンの合成方法であって、
ａ）シクロペンテノンＩを有機銅化合物ＩＩＩとカップリングさせ、式ＩＶの化合物を提供すること、
ｂ）触媒の存在下、式ＩＶの化合物を水素と反応させ、式Ｖの化合物を提供すること、
ｃ）式Ｖの化合物を酸化させ、式ＶＩの化合物を提供すること、及び
ｄ）式ＶＩの化合物をルビプロストンに転化させること
を含む、方法。
工程ｄ）が、酵素を用いたイソプロピルエステルの加水分解を含む、請求項１に記載の方法。
工程ｄ）が、式ＶＩの化合物を式ＶＩＩの化合物に転化させる工程を含む、請求項１に記載の方法。
式ＩＩＩの化合物の合成方法であって、
ａ）式ＶＩＩＩの化合物を、式ＸＩのシリル保護した金属アセチレン化合物（ここで、Ｍは金属イオンである）と反応させ、式ＩＸの化合物を提供すること、
ｂ）式ＩＸの化合物を還元剤及び脱シリル化剤で処理し、式Ｘの化合物を提供すること、
ｃ）式Ｘの化合物を式ＩＩの化合物に転化させること、及び
ｄ）式ＩＩの化合物を式ＩＩＩに転化させること
を含む、方法。
式ＸＩの化合物のＭがＬｉである、請求項４に記載の方法。
式ＶＩＩＩの化合物の式ＸＩのシリル保護した金属アセチレン化合物との反応が、ルイス酸化合物の存在下で行われる、請求項４に記載の方法。
前記ルイス酸化合物がＢＦ_３である、請求項６に記載の方法。
工程ｂ）中の還元剤がヒドリド還元剤である、請求項４に記載の方法。
前記ヒドリド還元剤が金属水素化物であり、該金属がアルミニウム、ホウ素及びルテニウムよりなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
工程ｂ）中の脱シリル化剤がアルコキシド又はフッ化物試薬である、請求項４に記載の方法。
前記アルコキシド試薬がＮａＯＭｅである、請求項１０に記載の方法。
工程ｂ）が、中間体を単離せずに、１つの反応容器中で行われる、請求項４に記載の方法。
式Ｘの化合物を式ＩＩの化合物に転化させる工程ｃ）が、まず、開始剤の存在下におけるＸの三置換水素化スズとの反応によってＳｎＲ^８Ｒ^９Ｒ^１０を付け、式ＩＩ’の化合物を生成することと、式ＩＩ’の化合物の塩基及びベンジル化剤との反応によってＲ^７をＨからＲ^１４Ｂｎに転化し、式ＩＩの化合物を生成することとを含む、請求項４に記載の方法。
式Ｘの化合物を式ＩＩの化合物に転化させる工程ｃ）が、まず、式Ｘの化合物（ここで、Ｒ^７はＨである）の塩基及びベンジル化剤との反応によってＲ^７をＨからＲ^１４Ｂｎに転化し、式Ｘ’の化合物を生成することと、次いで、開始剤の存在下における式Ｘ’の化合物の三置換水素化スズとの反応によってＳｎＲ^８Ｒ^９Ｒ^１０を付け、式ＩＩの化合物を生成することとを含む、請求項４に記載の方法。
式Ｘの化合物を式ＩＩの化合物に転化させる工程ｃ）が、まず、式Ｘの化合物（ここで、Ｒ^７はＨである）の塩基及びベンジル化剤との反応によってＲ^７をＨからＲ^１４Ｂｎに転化し、式Ｘ’の化合物を生成することと、次いで、式Ｘ’の化合物の、Ｃｐ_２Ｚｒ(Ｈ)Ｃｌと、続いてＭｅＬｉとの反応によってＺｒＣｐ_２Ｍｅを付け、式ＩＩの化合物を生成することとを含む、請求項４に記載の方法。
式Ｘの化合物を式ＩＩの化合物に転化させる工程ｃ）が、まず、式Ｘの化合物（ここで、Ｒ^７はＨである）の塩基及びベンジル化剤との反応によってＲ^７をＨからＲ^１４Ｂｎに転化し、式Ｘ’の化合物を生成することと、次いで、Ｘ’の化合物の、Ｃｐ_２ＺｒＣｌ_２と、ｔ−ＢｕＭｇＣｌと、続いてＩ_２との反応によってＩを付け、式ＩＩの化合物を生成することとを含む、請求項４に記載の方法。
式ＩＩの化合物を式ＩＩＩに転化させる工程ｄ）が、式ＩＩの化合物（ここで、Ｒ^１５はＳｎＲ^８Ｒ^９Ｒ^１０又はＩであり、Ｒ^７はＢｎＲ^１４である）を、有機金属化合物と、続いてＭｅＣｕ(ＣＮ)Ｌｉ又は２−チエニルＣｕ(ＣＮ)Ｌｉと反応させることを含む、請求項４に記載の方法。
前記有機金属化合物がｔ−ＢｕＬｉ、ｓ−ＢｕＬｉ又はｎ−ＢｕＬｉである、請求項１７に記載の方法。
式（９）の化合物（７−((１Ｒ，２Ｒ，３Ｒ)−３−(ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−(４，４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−５−オキソシクロペンチル)ヘプタン酸イソプロピル）。
式（１０）の化合物（７−((１Ｒ，２Ｒ，３Ｒ)−３−(ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−２−(４，４−ジフルオロ−３−オキソオクチル)−５−オキソシクロペンチル)ヘプタン酸）。
式（７）の化合物（(Ｚ)−７−((１Ｒ，２Ｒ，３Ｒ)−２−((１Ｅ，５Ｅ)−３−(ベンジルオキシ)−４，４−ジフルオロオクタ−１，５−ジエニル)−３−(ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ)−５−オキソシクロペンチル)ヘプタ−５−エン酸イソプロピル）。
式Ｘの化合物（ここで、Ｒ^７はＨであり、二重結合が、Ｃ５とＣ６間若しくはＣ６とＣ７間に位置するか又は存在せず、ＩＭ５（(Ｅ)−４，４−ジフルオロオクタ−５−エン−１−イン−３−オール）、式ＩＭ５ｂの化合物（即ち、Ｘ；Ｒ^７＝Ｈ；４，４−ジフルオロオクタ−１−イン−３−オール）、式ＩＭ５ｃの化合物（即ち、Ｘ；Ｒ^７＝Ｈ、Ｃ６−Ｃ７二重結合；(Ｅ)−４，４−ジフルオロオクタ−６−エン−１−イン−３−オール）よりなる群から選択される）。
ルビプロストンの塩を形成する工程を含む、ルビプロストンの精製方法。
前記塩がグアニジン塩である、請求項２３に記載の方法。