JP2014237771A - シリコーン重合体 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、シリコーン重合体に関する。
電子部品の絶縁材料、並びに半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、及びα線遮蔽膜などの用途には、優れた耐熱性、電気特性、及び機械特性を併せ持つポリイミド樹脂が広く用いられている。かかるポリイミド樹脂は、通常、感光性ポリイミド前駆体組成物の形態で供され、これを基材に塗布し、ソフトベークを施し、所望のパターニングマスクを介して活性光線を照射(露光)し、現像し、熱硬化処理を施すことにより、耐熱性ポリイミド樹脂から成る硬化レリーフパターンを容易に形成させることができるという特徴を有している(例えば、以下の特許文献1参照。)。
他方、上記のような優れた特性を有するポリイミドは、500nm〜400nm付近にポリイミド環由来の吸収があるので、表示装置又は光学系材料のような高透明性を必要とする用途には向かない。
また、主に構成要素の材質又は構造設計上の理由から、熱硬化処理をより低い温度で行うことが可能な材料への要求が高まっている。しかしながら、従来のポリイミド樹脂前駆体組成物の場合には、硬化処理温度を下げると熱イミド化を完結させることができず、各種の硬化膜物性が低下するため、硬化処理温度の下限は300℃前後であった。
以下の特許文献2には、低温硬化が可能な感光性シロキサン系材料が開示されている。
また、主に構成要素の材質又は構造設計上の理由から、熱硬化処理をより低い温度で行うことが可能な材料への要求が高まっている。しかしながら、従来のポリイミド樹脂前駆体組成物の場合には、硬化処理温度を下げると熱イミド化を完結させることができず、各種の硬化膜物性が低下するため、硬化処理温度の下限は300℃前後であった。
以下の特許文献2には、低温硬化が可能な感光性シロキサン系材料が開示されている。
例えば表示装置又は光学材料を形成する際、配線周辺の電気的ノイズを緩和する目的や、より絶縁性を高めるために、5μm以上の絶縁膜が必要とされている。そこで、より厚い膜厚でも、残渣を残さず、短時間に現像するため、アルカリ可溶性基の検討が行われている。しかし、アルカリへの溶解性を高めると、現像時に、形成したパターンに現像液が浸透しやすくなり、膨潤してしまう現象が見られる。特許文献2で開示されている技術では、現像時の膨潤に改善の余地があることが分かった。また、このような高透明性が必要な表示装置又は光学材料を形成する分野では、高い現像性と、現像時の膨潤を低減する、相反する特性を両立することができる感光性を有するシリコーン重合体は、未だ見出されていない。
かかる従来技術の現状に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、現像液への膨潤が少ないシリコーン重合体を提供することである。
かかる従来技術の現状に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、現像液への膨潤が少ないシリコーン重合体を提供することである。
本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討し実験を重ねた結果、特定の構造を有するシリコーン重合体を用いることにより、前記課題を解決しうることを予想外に発見し、本発明を完成するに至ったものである。すなわち、本発明は以下の通りのものである。
[1]
下記一般式(I)で示される構造を含み、重量平均分子量が800以上である、シリコーン重合体。
下記一般式(I)で示される構造を含み、重量平均分子量が800以上である、シリコーン重合体。
{式中、Xは、N原子を含まない、直鎖、又は分岐構造を持ち、Si原子とCOOHを結ぶ最も短い有機鎖が、原子数6〜20となる2価の有機鎖であり、R1は、C1〜C6の有機基、アルコキシ基、ヒドロキシル基から選ばれる1価の有機基であり、n=0、1、2から選ばれる整数である。}
[2]
ラジカル架橋性基をさらに含む、[1]に記載のシリコーン重合体。
[3]
ポリシロキサン構造を含む、[1]又は[2]に記載のシリコーン重合体。
[4]
前記Xが、一般式(II)で示される[1]〜[3]いずれかに記載のシリコーン重合体。
[2]
ラジカル架橋性基をさらに含む、[1]に記載のシリコーン重合体。
[3]
ポリシロキサン構造を含む、[1]又は[2]に記載のシリコーン重合体。
[4]
前記Xが、一般式(II)で示される[1]〜[3]いずれかに記載のシリコーン重合体。
{式中、n2、n3、n4、n5、n6、n7は、6≦n2+(3×n3)+(4×n4)+(2×n5)+(2×n6)+(2×n7)≦20を満たす自然数であり、R2は、各々独立に水素原子、水酸基、C1〜C10のアルキル基である。}
[5]
前記Xが、下記一般式(III)〜(VII)のいずれかで示される[1]〜[4]のいずれかに記載のシリコーン重合体。
[5]
前記Xが、下記一般式(III)〜(VII)のいずれかで示される[1]〜[4]のいずれかに記載のシリコーン重合体。
[6]
下記一般式(VIII)で示される構造を含む、[1]〜[5]いずれかに記載のシリコーン重合体。
下記一般式(VIII)で示される構造を含む、[1]〜[5]いずれかに記載のシリコーン重合体。
{式中、Phはフェニル基を表す。}
本発明によれば、現像液への膨潤が少ないシリコーン重合体が提供される。
以下、本発明を実施するための形態(以下、「実施形態」と略記する。)について詳細に説明する。なお、本発明は、実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
本実施形態のシリコーン化合物は、前記一般式(I)で示される構造を含む。なお、本構造は、単独で連続した構造であっても良いし、他の構造との共重合構造であっても良い。
本実施形態のシリコーン化合物は、前記一般式(I)で示される構造を含む。なお、本構造は、単独で連続した構造であっても良いし、他の構造との共重合構造であっても良い。
式中、Xは、硬化物の耐熱透明性の観点からN原子を含まないことが好ましく、より好ましくは、炭素、水素、酸素、珪素からなる2価の有機鎖である。
Xの構造は、上記構造を含む重合体のアルカリ現像液への溶解性と、露光部(架橋部)が現像液と触れた際の膨潤のしやすさに大きく影響する。アルカリ現像液への高い溶解性を維持し、膨潤を抑制する観点から、式中、Xは、Si原子とCOOHを結ぶ最も短い有機鎖が、原子数6以上が好ましく、さらに好ましくは原子数7以上である。一方、アルカリ現像液への溶解性の観点から、原子数20以下が好ましく、さらに好ましくは、原子数15以下である。
Xの構造は、上記構造を含む重合体のアルカリ現像液への溶解性と、露光部(架橋部)が現像液と触れた際の膨潤のしやすさに大きく影響する。アルカリ現像液への高い溶解性を維持し、膨潤を抑制する観点から、式中、Xは、Si原子とCOOHを結ぶ最も短い有機鎖が、原子数6以上が好ましく、さらに好ましくは原子数7以上である。一方、アルカリ現像液への溶解性の観点から、原子数20以下が好ましく、さらに好ましくは、原子数15以下である。
上記一般式(I)において、R1は、C1〜C6の直鎖状若しくは分岐状の有機基、C1〜C6の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基、フェノキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、ヒドロキシル基から選ばれる少なくとも1種以上の1価の有機基が好ましく、保存安定性の観点から、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヒドロキシル基が好ましく、さらに好ましくは、メチル基、メトキシ基、ヒドロキシル基である。
上記一般式(I)において、耐熱透明性の観点から、Xは前記一般式(II)で示される構造で表されることが好ましい。
更に、上記一般式(I)において、Xは前記一般式(III)〜(VII)のいずれかで示される少なくとも1種の構造を有することが好ましい。
本実施形態に係るシリコーン重合体は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)で、ポリスチレン換算のMw(質量平均分子量)が800以上(好ましくは1000以上、より好ましくは2000以上であり、上限として好ましくは10000以下、より好ましくは8000以下、更に好ましくは5000以下)の重合体である。
また、(A)シリコーン重合体は、さらにラジカル架橋性基を持つことが、硬化膜の硬度を飛躍的に向上させる観点から好ましい。ラジカル架橋性基は、光重合性不飽和結合(例えば、二重結合)を含む基でよい。光重合性不飽和結合を含む基としては、特に制限されないが、例えば、ビニル基、スチリル基、(メタ)アクリロイル基などが、架橋性の観点から好ましい。(A)シリコーン重合体は、これらの基を二種類以上含有してもよい。また、(A)シリコーン重合体としては、硬化性の観点から、少なくとも(メタ)アクリロイル基及び/又はスチリル基を有することがより好ましい。
(A)シリコーン重合体中の光重合性不飽和結合基のモル濃度は、パターンの密着性、膜の硬度、及び耐クラック性の観点から、0.01mmol/g以上が好ましく、より好ましくは0.1mmol/g以上、さらに好ましくは0.5mmol/g以上である。一方で、現像時の残渣低減の観点から、このモル濃度は、10.0mmol/g以下が好ましく、より好ましくは7.5mmol/g以下、さらに好ましくは5.0mmol/g以下である。
(A)シリコーン重合体中の光重合性不飽和結合基の含有量は、得られた重合体のヨウ素価を測定することで算出することができる。
(A)シリコーン重合体中の光重合性不飽和結合基の含有量は、得られた重合体のヨウ素価を測定することで算出することができる。
(A)シリコーン重合体は、一般式(I)で表されるカルボン酸以外に、さらにアルカリ可溶性基を含むことができる。アルカリ可溶性基としては、特に制限はされないが、例えば、カルボキシル基、ジカルボン酸無水物基、又はジカルボン酸無水物基の残基などが、ポリシロキサンのアルカリ溶解性を向上させ、かつ現像後の残渣の発生を抑制するという観点から好ましい。
(A)シリコーン重合体中のカルボキシル基、ジカルボン酸無水物基、又はジカルボン酸無水物基の残基の含有量は、(A)シリコーン重合体がこれらの基を有すれば特に制限されるものではないが、現像後の残渣の低減及び硬化膜の耐クラック性の観点から、(A)シリコーン重合体の酸価が、10mgKOH/g以上が好ましく、より好ましくは15mgKOH/g以上、さらに好ましくは20mgKOH/g以上である。一方で、パターンの密着性の観点から、この酸価は、200mgKOH/g以下が好ましく、より好ましくは190mgKOH/gモル以下、さらに好ましくは180mgKOH/g以下である。
また、感光性樹脂組成物が、2種以上の(A)シリコーン重合体を含有する場合には、少なくとも1種が、上記で説明した範囲内の酸価を有するような含有量で、カルボキシル基、ジカルボン酸無水物基、又はジカルボン酸無水物基の残基を含むことが好ましい。
なお、本明細書では、酸価とは、試料1g中のカルボキシル基を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。
また、感光性樹脂組成物が、2種以上の(A)シリコーン重合体を含有する場合には、少なくとも1種が、上記で説明した範囲内の酸価を有するような含有量で、カルボキシル基、ジカルボン酸無水物基、又はジカルボン酸無水物基の残基を含むことが好ましい。
なお、本明細書では、酸価とは、試料1g中のカルボキシル基を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。
酸価を測定する方法の一例は下記の通りである:
3gの試料を精密に秤量し、エタノール20mlに溶解する。得られた溶液を室温で撹拌し、更に5gの精製水を加え更に1時間室温で撹拌する。その後、指示薬としてフェノールフタレインのメタノール溶液を数滴添加し、1/2規定の水酸化カリウム水溶液で中和滴定し、使用した水酸化カリウム水溶液量から酸価を算出する。
3gの試料を精密に秤量し、エタノール20mlに溶解する。得られた溶液を室温で撹拌し、更に5gの精製水を加え更に1時間室温で撹拌する。その後、指示薬としてフェノールフタレインのメタノール溶液を数滴添加し、1/2規定の水酸化カリウム水溶液で中和滴定し、使用した水酸化カリウム水溶液量から酸価を算出する。
また、本実施形態では、(A)シリコーン重合体は、上記一般式(VIII)で示される構造を有することも、耐熱性の観点から好ましい。(A)シリコーン重合体の珪素原子のうち、上記構造を有する割合が、10mol%〜80mol%が好ましく、より好ましくは30mol%〜70mol%であり、さらに好ましくは40mol%〜60mol%である。
上記一般式(I)の構造を含む重合体を製造する方法は、特に限定されないが、少なくとも下記一般式(IX)で示されるモノマーを含む化合物を用いる事で製造することができる。
{式中Xは上述で定義した2価の有機基であり、R3は、C1〜C6の有機基であり、R4各々独立に、水酸基、加水分解可能な脱離基又はハロゲン原子を表し、n8は0又は1の整数を表す。}
上記一般式(IX)において、R4としては、水酸基、炭素数1〜12の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、フェノキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、塩素(Cl)又は臭素(Br)から成る群より選ばれる少なくとも1種の1価の基が好ましく、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、又はイソプロポキシ基がより好ましく、反応性の観点から、水酸基、メトキシ基、又はエトキシ基がさらに好ましい。
上記一般式(IX)の化合物の製造方法としてはシラン化合物とアルケニル基を有するカルボン酸とのヒドロシリル化反応による方法、あるいはシラン化合物とアルケニル基を有するアルコールとのヒドロシリル化反応と引き続いて酸無水物またはジカルボン酸との縮合反応を行う方法が挙げられる。
アルケニル基を有するカルボン酸とのヒドロシリル化反応に用いるシラン化合物はトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、エチルジメトキシシラン、エチルジエトキシシラン、n−プロピルジメトキシシラン、n−プロピルジエトキシシラン、i−プロピルジメトキシシラン、i−プロピルジエトキシシラン、ブチルジメトキシシラン、ブチルメチルジエトキシシラン、ペンチルジメトキシシラン、ペンチルジエトキシシラン、ヘキシルジメトキシシラン、ヘキシルジエトキシシラン、シクロペンチルジメトキシシラン、シクロペンチルジエトキシシラン、シクロヘキシルジメトキシシラン、シクロヘキシルジエトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエトキシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジエチルメトキシシラン、ジエチルエトキシシラン、ジフェニルメトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン、メチルエチルメトキシシラン、メチルエチルエトキシシラン、メチルフェニルメトキシシラン、メチルフェニルエトキシシラン、エチルフェニルメトキシシラン、エチルフェニルエトキシシラン等が挙げられる。
アルケニル基を有するカルボン酸は、10−ウンデセン酸、9−デセン酸、8−ノネン酸、7−オクテン酸、6−ヘプテン酸、オレイン酸等が挙げられる。さらにアリルアルコール、エチレングリコールモノビニルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、3−ビニルオキシ−1,2−プロパンジオール、3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオール、3−ビニルオキシ−1−プロパノール、3−アリルオキシ−1−プロパノール、4−ビニルオキシ−1−ブタノール、4−アリルオキシ−1−ブタノール、5−ビニルオキシ−1−ペンタノール、5−アリルオキシ−1−ペンタノール、6−ビニルオキシ−1−ヘキサノール、6−アリルオキシ−1−ヘキサノール等のアルコールとコハク酸、マレイン酸、グルタル酸、cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の縮合物をアルケニル基を有するカルボン酸として用いることができる。
この反応では溶媒を用いても用いなくても良いが溶媒を用いる場合は、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されない。例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶媒、及びこれらの溶媒を二つ以上混合してなる混合溶媒が挙げられる。
この反応では、公知のヒドロシリル化触媒を用いることができる。例えば、白金化合物を触媒として用いることができ、白金化合物としてはヘキサクロロ白金酸六水和物、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金錯体、シクロペンタジエニル白金錯体等が挙げられる。反応温度は、通常、−20℃から反応液の沸点までの温度範囲であるが、密閉容器を用いて沸点を超える温度で実施してもよい。反応時間は、反応収率の観点から、通常数分から50時間が好ましい。
シラン化合物とアルケニル基を有するアルコールとのヒドロシリル化反応は前述と同様に行うことができる。
アルケニル基を有するアルコールとしてはアリルアルコール、エチレングリコールモノビニルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、3−ビニルオキシ−1,2−プロパンジオール、3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオール、3−ビニルオキシ−1−プロパノール、3−アリルオキシ−1−プロパノール、4−ビニルオキシ−1−ブタノール、4−アリルオキシ−1−ブタノール、5−ビニルオキシ−1−ペンタノール、5−アリルオキシ−1−ペンタノール、6−ビニルオキシ−1−ヘキサノール、6−アリルオキシ−1−ヘキサノール等が挙げられる。
アルケニル基を有するアルコールとしてはアリルアルコール、エチレングリコールモノビニルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、3−ビニルオキシ−1,2−プロパンジオール、3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオール、3−ビニルオキシ−1−プロパノール、3−アリルオキシ−1−プロパノール、4−ビニルオキシ−1−ブタノール、4−アリルオキシ−1−ブタノール、5−ビニルオキシ−1−ペンタノール、5−アリルオキシ−1−ペンタノール、6−ビニルオキシ−1−ヘキサノール、6−アリルオキシ−1−ヘキサノール等が挙げられる。
酸無水物またはジカルボン酸との縮合反応に用いる酸無水物は、無水コハク酸、無水マレイン酸、グルタル酸無水物、cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、無水フタル酸等が挙げられる。
ジカルボン酸は、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。
この反応では溶媒を用いても用いなくても良いが溶媒を用いる場合は、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されない。例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等の有機塩基、及びこれらの溶媒を二つ以上混合してなる混合溶媒が挙げられる。
ジカルボン酸は、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。
この反応では溶媒を用いても用いなくても良いが溶媒を用いる場合は、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されない。例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)ジメチルスルホキシド(DMSO)等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等の有機塩基、及びこれらの溶媒を二つ以上混合してなる混合溶媒が挙げられる。
この反応は有機塩基の存在下で行うことができ、有機塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール等が挙げられる。
この反応は縮合剤の存在下で行うことができ、縮合剤としては、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)−カルボジイミド(EDC)、N,N’−カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。反応温度は、通常、−20℃から反応液の沸点までの温度範囲が好ましく、密閉容器を用いて沸点を超える温度で実施してもよい。反応時間は、反応収率の観点から、通常数分から50時間が好ましい。
この反応は縮合剤の存在下で行うことができ、縮合剤としては、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)−カルボジイミド(EDC)、N,N’−カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。反応温度は、通常、−20℃から反応液の沸点までの温度範囲が好ましく、密閉容器を用いて沸点を超える温度で実施してもよい。反応時間は、反応収率の観点から、通常数分から50時間が好ましい。
シリコーン重合体の製造方法としては、公知の方法を用いることができるが、例えば下記方法でシリコーン重合体を製造することができる。
(1)加水分解縮合
(2)水を積極的に加えない縮合
(1)加水分解縮合
(2)水を積極的に加えない縮合
(1)加水分解縮合による製造方法
少なくとも一般式(IX)のモノマーを含み、一般式(X)及び一般式(XI)から選ばれる少なくとも1種類のモノマーに、水、触媒を加え、加水分解した後、縮合させることで得ることが、樹脂設計及び製造法の容易性の観点から好ましい。
少なくとも一般式(IX)のモノマーを含み、一般式(X)及び一般式(XI)から選ばれる少なくとも1種類のモノマーに、水、触媒を加え、加水分解した後、縮合させることで得ることが、樹脂設計及び製造法の容易性の観点から好ましい。
{式中、R5は、光重合性不飽和結合基(例えば、二重結合基)を含む炭素数2〜20の1価の有機基を表し、R3、R4は、上記一般式(IX)において定義された通りであり、n9は、0又は1の整数を表す。}
{式中、R4は、上記一般式(IX)において定義された通りであり、R6は、各々独立に、置換基を有してもよい炭素数1〜20の直鎖状若しくは分岐鎖状の有機基、アリール基、アルキルアリール基を表し、n10は、0〜3の整数である。}
上記一般式(IX)において、R4としては、水酸基、炭素数1〜12の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、フェノキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、塩素(Cl)又は臭素(Br)から成る群より選ばれる少なくとも1種の1価の基が好ましく、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、又はイソプロポキシ基がより好ましく、反応性の観点から、水酸基、メトキシ基、又はエトキシ基がさらに好ましい。
上記一般式(IX)において、R5としては、不飽和結合(例えば、二重結合)を有する炭素数2〜17の1価の有機基が好ましく、具体的には、例えば、ビニル基、スチリル基、(メタ)アクリル基、3−(メタ)アクリロキシプロピル基、2−(メタ)アクリロキシエチル基、(メタ)アクリロキシメチル基などが挙げられる。このうち、スチリル基、又は3−(メタ)アクリロキシプロピル基が好ましい。また、本明細書では、(メタ)アクリルとは、アクリル基及びメタクリル基を示す。
上記一般式(X)で表されるシラン化合物としては、具体的には、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシラン、p−(1−プロペニルフェニル)トリメトキシシラン、p−(1−プロペニルフェニル)トリエトキシシラン、p−(2−プロペニルフェニル)トリメトキシシラン、p−(2−プロペニルフェニル)トリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
加水分解反応は、溶媒中のシラン化合物に酸性触媒及び水を1分〜180分に亘って添加することにより行われる。加水分解物を得る過程の温度は、加水分解の反応性の観点から、10℃以上が好ましく、より好ましくは20℃以上であり、一方で、官能基の保護の観点から、150℃以下が好ましく、より好ましくは120℃以下である。加水分怪物を得る過程の反応時間は、加水分解の反応性の観点から0.1時間以上が好ましく、より好ましくは0.5時間以上であり、一方で、官能基の保護の観点から10時間以下が好ましく、より好ましくは5時間以下である。
加水分解反応は、酸性触媒の存在下で行うことが好ましい。酸性触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、蟻酸、酢酸又はリン酸を含む酸性水溶液が好ましい。これらの酸性触媒の好ましい含有量は、加水分解反応時に使用される全シラン化合物に対して、加水分解の反応性の観点から0.01mol%以上が好ましく、官能基の保護の観点から10mol%以下が好ましい。
シラン化合物の加水分解反応によりシラノール化合物を得た後、反応液をそのまま50℃以上、使用される溶媒の沸点以下で、1時間〜100時間に亘って加熱し、縮合反応を行うことが好ましい。また、(A)シリコーン重合体の重合度を上げるために、再加熱及び/又は減圧及び/又は塩基性触媒の添加を行なってもよい。
シラン化合物の加水分解反応及び該加水分解物の縮合反応に用いられる溶媒は、特に限定されず、樹脂組成物の安定性、濡れ性、揮発性などを考慮して適宜選択できる。また、溶媒を2種以上組み合わせるか、又は無溶媒で、これらの反応を行ってもよい。
溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、t−ブチルアルコール、ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノンなどのケトン類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのアセテート類、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどを挙げることができる。
溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、t−ブチルアルコール、ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノンなどのケトン類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのアセテート類、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどを挙げることができる。
加水分解反応によって溶媒が生成する場合には、無溶媒で加水分解させることも可能である。加水分解反応終了後、さらに溶媒を添加することにより、樹脂組成物として適切な濃度に調整することも好ましい。また、樹脂組成物の用途に応じて、加水分解後に、加熱及び/又は減圧下にて、生成アルコールなどの適量を留去し、その後、好適な溶媒を添加してもよい。
加水分解反応に使用する溶媒の量は、全シラン化合物100質量部に対して、80質量部以上、500質量部以下が好ましい。
また、加水分解反応に用いる水は、イオン交換水が好ましい。水の量は、任意に選択されることができるが、加水分解反応に用いられるシラン化合物1モルに対して、1.0モル〜4.0モルの範囲であることが好ましい。
加水分解反応に使用する溶媒の量は、全シラン化合物100質量部に対して、80質量部以上、500質量部以下が好ましい。
また、加水分解反応に用いる水は、イオン交換水が好ましい。水の量は、任意に選択されることができるが、加水分解反応に用いられるシラン化合物1モルに対して、1.0モル〜4.0モルの範囲であることが好ましい。
(2)水を積極的に加えない縮合
水を積極的に加えずに縮合反応を行う場合は、少なくとも一般式(II)で表される化合物及び、下記一般式(V)を含む化合物を用いて、シリコーン重合体を得ることが、得られた重合体の保存安定性の観点から好ましい。
水を積極的に加えずに縮合反応を行う場合は、少なくとも一般式(II)で表される化合物及び、下記一般式(V)を含む化合物を用いて、シリコーン重合体を得ることが、得られた重合体の保存安定性の観点から好ましい。
{式中、R7は、炭素原子数が6〜20のアリール基、炭素原子数が2〜20のアルキルアリール基、炭素原子数が1〜20のアルキル基、又は炭素原子数が5〜20のシクロアルキル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよく、そして共有結合を介して互いに結ばれていてもよい。}
上記一般式(XII)において、R7としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、トリメチルフェニル基、ナフチル基、メチル基、エチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基を挙げることができる。
上記一般式(XII)で表されるシランジオール化合物の具体例としては、ジフェニルシランジオール、ジ−p−トルイルシランジオール、ジキシリルシランジオール、ジトリメチルフェニルシランジオール、ジ−p−スチリルシランジオール、ジナフチルシランジオール、ジシクロペンチルシランジオール、シクロヘキシルメチルシランジオールなどが挙げられ、共重合及び耐熱性の観点から、ジフェニルシランジオール、ジシクロペンチルシランジオール、及びシクロヘキシルメチルシランジオールが特に好ましい。
積極的に水を添加することなく縮合を行う反応の温度は、縮合の反応性の観点から、40℃以上が好ましく、より好ましくは50℃以上であり、一方で、官能基の保護の観点から、150℃以下が好ましく、より好ましくは130℃以下である。
積極的に水を添加することなく縮合を行う反応の時間は、縮合の反応性の観点から、0.5時間以上が好ましく、1時間以上がより好ましく、一方で、官能基の保護の観点から48時間以下が好ましく、30時間以下がより好ましい。
積極的に水を添加することなく縮合を行う反応では、水を積極的に添加することは無い。触媒を用いる場合は、塩基性触媒又は酸性触媒を用いることができる。
積極的に水を添加することなく縮合を行う反応の時間は、縮合の反応性の観点から、0.5時間以上が好ましく、1時間以上がより好ましく、一方で、官能基の保護の観点から48時間以下が好ましく、30時間以下がより好ましい。
積極的に水を添加することなく縮合を行う反応では、水を積極的に添加することは無い。触媒を用いる場合は、塩基性触媒又は酸性触媒を用いることができる。
塩基性触媒としては、3価若しくは4価の金属アルコキシドを用いることができる。具体的には、塩基性触媒としては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−n−プロポキシアルミニウム、トリ−iso−プロポキシアルミニウム、トリ−n−ブトキシアルミニウム、トリ−iso−ブトキシアルミニウム、トリ−sec−ブトキシアルミニウム、トリ−tert−ブトキシアルミニウム、トリメトキシボロン、トリエトキシボロン、トリ−n−プロポキシボロン、トリ−iso−プロポキシボロン、トリ−n−ブトキシボロン、トリ−iso−ブトキシボロン、トリ−sec−ブトキシボロン、トリ−tertブトキシボロン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−iso−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラメトキシゲルマニウム、テトラエトキシゲルマニウム、テトラ−n−プロポキシゲルマニウム、テトラ−iso−プロポキシゲルマニウム、テトラ−n−ブトキシゲルマニウム、テトラ−iso−ブトキシゲルマニウム、テトラ−sec−ブトキシゲルマニウム、テトラ−tert−ブトキシゲルマニウム、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−iso−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−iso−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウムなどが挙げられる。
また、アルカリ金属の水酸化物又はアルカリ土類金属の水酸化物、例えば、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化カルシウム、及び水酸化マグネシウムを塩基性触媒として用いてもよい。また、NH4F(フッ化アンモニウム)を塩基性触媒として用いてもよい。中でも、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化ストロンチウム、テトラ−tert−ブトキシチタン、及びテトラ−iso−プロポキシチタンが好ましい。迅速かつ均一な重合反応を達成するために、塩基性触媒は、反応温度領域で液状であることが好ましい。
これらの塩基性触媒の好ましい含有量は、全シラン化合物に対して、縮合反応性の観点から0.01mol%以上が好ましく、一方で、官能基の保護の観点から10mol%以下が好ましい。
これらの塩基性触媒の好ましい含有量は、全シラン化合物に対して、縮合反応性の観点から0.01mol%以上が好ましく、一方で、官能基の保護の観点から10mol%以下が好ましい。
酸性触媒としては、水を含有しない有機酸性触媒を用いることができる。具体的には、酸性触媒としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、アクリル酸、メタクリル酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、フタル酸、(3−トリメトキシシリルプロピル)コハク酸、又はそのハーフエステル、及び(3−トリエトキシシリルプロピル)コハク酸、又はそのハーフエステルなどが挙げられる。
これら酸性触媒の好ましい含有量は、全シラン化合物に対して、縮合反応性の観点から0.01mol%以上が好ましく、一方で、官能基の保護の観点から10mol%以下が好ましい。
これら酸性触媒の好ましい含有量は、全シラン化合物に対して、縮合反応性の観点から0.01mol%以上が好ましく、一方で、官能基の保護の観点から10mol%以下が好ましい。
重合の際、反応速度の観点から、必要に応じて溶媒を用いることができる。溶媒は、(1)加水分解縮合による製造方法と同様の溶媒を用いることができる。
シリコーン重合体の重合度を上げる観点から、縮合反応により発生するアルコールを減圧下で除去することが好ましい。
(A)シリコーン重合体を重合するときに、架橋基の保護の観点から、合成時に重合禁止剤を加えてもよい。
シリコーン重合体の重合度を上げる観点から、縮合反応により発生するアルコールを減圧下で除去することが好ましい。
(A)シリコーン重合体を重合するときに、架橋基の保護の観点から、合成時に重合禁止剤を加えてもよい。
上述したシリコーン重合体を用いることで、アルカリ現像液に対して膨潤することなくパターンを形成することができる。
これにより、例えばシリコンウェハー、ガラス、フィルム、それらに1種類以上の金属をスパッタした基材等の基材上に形成された半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜、及びマイクロレンズアレイなどのミクロ構造体とそのパッケージ材との間の支持体(隔壁)から成る群から選択されるいずれかとして使用し、他の工程は周知の半導体装置の製造方法を適用することで、タッチパネル、CMOSイメージセンサーなどの光学素子を含む、各種の表示装置、半導体装置を製造することができる。また、上記シリコーン重合体を硬化させた樹脂から成る塗膜を有する電子部品又は半導体装置を得ることができる。
また、表示装置に好適に使用される絶縁材料として、半導体装置における表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜などの形成に、及びイメージセンサー若しくはマイクロマシン、又はマイクロアクチュエーターを搭載した半導体装置等に好適に使用することができる。
これにより、例えばシリコンウェハー、ガラス、フィルム、それらに1種類以上の金属をスパッタした基材等の基材上に形成された半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜、及びマイクロレンズアレイなどのミクロ構造体とそのパッケージ材との間の支持体(隔壁)から成る群から選択されるいずれかとして使用し、他の工程は周知の半導体装置の製造方法を適用することで、タッチパネル、CMOSイメージセンサーなどの光学素子を含む、各種の表示装置、半導体装置を製造することができる。また、上記シリコーン重合体を硬化させた樹脂から成る塗膜を有する電子部品又は半導体装置を得ることができる。
また、表示装置に好適に使用される絶縁材料として、半導体装置における表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜などの形成に、及びイメージセンサー若しくはマイクロマシン、又はマイクロアクチュエーターを搭載した半導体装置等に好適に使用することができる。
以下、実施例に従って実施形態の方法を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により限定されるものではない。
<測定方法>
1.モノマーの酸価測定方法
サンプルを1.0g精秤し、エタノール15g、水15gおよび指示薬として1%フェノールフタレインのエタノール溶液を2〜3滴加えて、0.1mol/l水酸化ナトリウム水溶液を用いて滴定した。
酸価(mgKOH/g)=(a×5.611×f)/b
a:サンプルの滴定量(ml)
b:サンプル重量(g)
f:滴定液のファクター
1.モノマーの酸価測定方法
サンプルを1.0g精秤し、エタノール15g、水15gおよび指示薬として1%フェノールフタレインのエタノール溶液を2〜3滴加えて、0.1mol/l水酸化ナトリウム水溶液を用いて滴定した。
酸価(mgKOH/g)=(a×5.611×f)/b
a:サンプルの滴定量(ml)
b:サンプル重量(g)
f:滴定液のファクター
2.重合体の酸価測定方法
サンプルを1.0g精秤し、エタノール30gおよび指示薬として1%フェノールフタレインのエタノール溶液を2〜3滴加えて、0.1mol/l水酸化カリウムのエタノール溶液を用いて滴定した。
酸価(mgKOH/g)=(a×5.611×f)/b
a:サンプルの滴定量(ml)
b:サンプル重量(g)
f:滴定液のファクター
サンプルを1.0g精秤し、エタノール30gおよび指示薬として1%フェノールフタレインのエタノール溶液を2〜3滴加えて、0.1mol/l水酸化カリウムのエタノール溶液を用いて滴定した。
酸価(mgKOH/g)=(a×5.611×f)/b
a:サンプルの滴定量(ml)
b:サンプル重量(g)
f:滴定液のファクター
3.重合体の分子量測定方法
実施例、比較例中のポリマーの分子量はGPCにより分析を行った。GPC装置はHLC-8320GPC(東ソー株式会社)を用い、カラムとしてTSKgel Super HZ3000×2本とTSKgel Super HZ2000×2本とを接続したものを用い、展開溶媒をTHF、流量を0.6ml/min、
カラム温度を40℃、検出器をRIとして分析を行った。
分子量はポリスチレンの標品を基準として算出した。
実施例、比較例中のポリマーの分子量はGPCにより分析を行った。GPC装置はHLC-8320GPC(東ソー株式会社)を用い、カラムとしてTSKgel Super HZ3000×2本とTSKgel Super HZ2000×2本とを接続したものを用い、展開溶媒をTHF、流量を0.6ml/min、
カラム温度を40℃、検出器をRIとして分析を行った。
分子量はポリスチレンの標品を基準として算出した。
<評価方法>
1.現像性の評価
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が20μmになるように、シリコン基板に塗布し、95℃4分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、i線ステッパー(ニコン製 NSR2005 i8A)を用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、400mJ/cm2照射した。
露光に続いてアルカリ現像液(AZエレクトロニックマテリアルズ社製デベロッパー、2.38%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液)を用い、23℃、30秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。
この条件で、塗膜の未露光部を除去できたものを○、除去しきれなかったものを×と評価した。
1.現像性の評価
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が20μmになるように、シリコン基板に塗布し、95℃4分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、i線ステッパー(ニコン製 NSR2005 i8A)を用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、400mJ/cm2照射した。
露光に続いてアルカリ現像液(AZエレクトロニックマテリアルズ社製デベロッパー、2.38%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液)を用い、23℃、30秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。
この条件で、塗膜の未露光部を除去できたものを○、除去しきれなかったものを×と評価した。
2.膨潤の評価
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が20μmになるように、シリコン基板に塗布し、95℃4分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、i線ステッパーを用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、60mJ/cm2から1110mJ/cm2まで30mJ/cm2刻みで照射した。
露光に続いてアルカリ現像液を用い、23℃、30秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。この条件で、塗膜の未露光部を除去しきれなかったものについては、未露光部を除去しきれるまで現像時間を調節し、現像を行った。
得られたパターンの内、15μm幅の縞状に露光したパターンを光学顕微鏡で観察した。この時、パターンの変形がなく解像ができている最小の露光量を、下記基準で評価した。
◎:120mJ未満
○:150mJ未満
△:180mJ未満
×:180mJ以上
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が20μmになるように、シリコン基板に塗布し、95℃4分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、i線ステッパーを用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、60mJ/cm2から1110mJ/cm2まで30mJ/cm2刻みで照射した。
露光に続いてアルカリ現像液を用い、23℃、30秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。この条件で、塗膜の未露光部を除去しきれなかったものについては、未露光部を除去しきれるまで現像時間を調節し、現像を行った。
得られたパターンの内、15μm幅の縞状に露光したパターンを光学顕微鏡で観察した。この時、パターンの変形がなく解像ができている最小の露光量を、下記基準で評価した。
◎:120mJ未満
○:150mJ未満
△:180mJ未満
×:180mJ以上
3.接着性の評価
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が20μmになるように、シリコン基板に塗布し、95℃4分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、i線ステッパーを用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、60mJ/cm2から1110mJ/cm2まで30mJ/cm2刻みで照射した。
露光に続いてアルカリ現像液を用い、23℃、30秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。この条件で、塗膜の未露光部を除去しきれなかったものについては、未露光部を除去しきれるまで現像時間を調節し、現像を行った。
得られたパターンの内、15μm×15μmの正方形に露光したパターンを光学顕微鏡で観察した。この時、25個あるパターン全てが接着した状態で解像ができている最小の露光量を、下記基準で評価した。
◎:100mJ未満
○:150mJ未満
△:180mJ未満
×:180mJ以上
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が20μmになるように、シリコン基板に塗布し、95℃4分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、i線ステッパーを用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、60mJ/cm2から1110mJ/cm2まで30mJ/cm2刻みで照射した。
露光に続いてアルカリ現像液を用い、23℃、30秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。この条件で、塗膜の未露光部を除去しきれなかったものについては、未露光部を除去しきれるまで現像時間を調節し、現像を行った。
得られたパターンの内、15μm×15μmの正方形に露光したパターンを光学顕微鏡で観察した。この時、25個あるパターン全てが接着した状態で解像ができている最小の露光量を、下記基準で評価した。
◎:100mJ未満
○:150mJ未満
△:180mJ未満
×:180mJ以上
[実施例1]
(M−1の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.21g、10−ウンデセン酸12.92g(70.14mmol)、トリメトキシシラン9.13g(74.71mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.43g加え80℃で5時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.27gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物20.60gを得た。
得られた反応生成物の酸価は186.8mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ10−ウンデセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(M−1の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.21g、10−ウンデセン酸12.92g(70.14mmol)、トリメトキシシラン9.13g(74.71mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.43g加え80℃で5時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.27gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物20.60gを得た。
得られた反応生成物の酸価は186.8mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ10−ウンデセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(重合体1の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物15.64gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン29.63g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.82gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で6時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが69.61g得られた。得られたポリマーの酸価は41.4mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2963であった。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物15.64gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン29.63g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.82gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で6時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが69.61g得られた。得られたポリマーの酸価は41.4mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2963であった。
(組成物の調整)
重合体1を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体1を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例2]
(M−2の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.00g、9−デセン酸13.62g(80.00mmol)、トリメトキシシラン10.27g(84.04mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.80g加え80℃で5時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.31gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物22.71gを得た。
得られた反応生成物の酸価は193.1mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ9−デセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(M−2の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.00g、9−デセン酸13.62g(80.00mmol)、トリメトキシシラン10.27g(84.04mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.80g加え80℃で5時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.31gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物22.71gを得た。
得られた反応生成物の酸価は193.1mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ9−デセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(重合体2の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物14.63gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.97g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.05gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で6時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが67.50g得られた。得られたポリマーの酸価は35.8mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3550であった。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物14.63gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.97g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.05gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で6時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが67.50g得られた。得られたポリマーの酸価は35.8mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3550であった。
(組成物の調整)
重合体2を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体2を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例3]
(M−3の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.01g、10−ウンデセン酸16.59g(90.00mmol)、メチルジメトキシシラン10.05g(94.63mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を3.17g加え80℃で7時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.32gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物25.30gを得た。
得られた反応生成物の酸価は194.1mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ10−ウンデセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(M−3の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.01g、10−ウンデセン酸16.59g(90.00mmol)、メチルジメトキシシラン10.05g(94.63mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を3.17g加え80℃で7時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.32gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物25.30gを得た。
得られた反応生成物の酸価は194.1mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ10−ウンデセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(重合体3の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物14.52gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.98g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.10gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが67.72g得られた。得られたポリマーの酸価は36.1mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3255であった。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物14.52gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.98g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.10gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが67.72g得られた。得られたポリマーの酸価は36.1mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3255であった。
(組成物の調整)
重合体3を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体3を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例4]
(M−4の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.18g、無水コハク酸9.01g(90.04mmol)、エチレングリコールモノアリルエーテル9.44g(92.43mmol)を仕込み系内を窒素置換した後100℃で13時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン60.42g、トリメトキシシラン11.78g(96.40mmol)を加え系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を4.00g加え80℃で7時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.28gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物25.44gを得た。
得られた反応生成物の酸価は181.8mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ無水コハク酸とエチレングリコールモノアリルエーテルとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(M−4の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.18g、無水コハク酸9.01g(90.04mmol)、エチレングリコールモノアリルエーテル9.44g(92.43mmol)を仕込み系内を窒素置換した後100℃で13時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン60.42g、トリメトキシシラン11.78g(96.40mmol)を加え系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を4.00g加え80℃で7時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.28gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物25.44gを得た。
得られた反応生成物の酸価は181.8mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ無水コハク酸とエチレングリコールモノアリルエーテルとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(重合体4の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物17.53gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン31.33g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール38.95gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で6時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが74.74g得られた。得られたポリマーの酸価は43.2mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2540であった。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物17.53gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン31.33g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール38.95gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で6時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが74.74g得られた。得られたポリマーの酸価は43.2mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2540であった。
(組成物の調整)
重合体4を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体4を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例5]
(M−5の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.00g、cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水物12.33g(80.00mmol)、エチレングリコールモノアリルエーテル8.34g(81.66mmol)を仕込み系内を窒素置換した後100℃で12時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン60.20g、トリメトキシシラン10.25g(83.88mmol)を加え系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.80g加え80℃で8時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.30gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物29.39gを得た。
得られた反応生成物の酸価は149.4mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところcis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水物とエチレングリコールモノアリルエーテルとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(M−5の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.00g、cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水物12.33g(80.00mmol)、エチレングリコールモノアリルエーテル8.34g(81.66mmol)を仕込み系内を窒素置換した後100℃で12時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン60.20g、トリメトキシシラン10.25g(83.88mmol)を加え系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.80g加え80℃で8時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.30gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物29.39gを得た。
得られた反応生成物の酸価は149.4mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところcis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水物とエチレングリコールモノアリルエーテルとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(重合体5の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物18.93gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.97g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.08gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが71.36g得られた。得られたポリマーの酸価は34.3mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2990であった。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物18.93gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.97g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.08gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが71.36g得られた。得られたポリマーの酸価は34.3mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2990であった。
(組成物の調整)
重合体5を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体5を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例6]
(M−6の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.05g、無水コハク酸8.01g(80.00mmol)、3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオール10.78g(81.60mmol)を仕込み系内を窒素置換した後100℃で12時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン60.10g、トリメトキシシラン10.26g(84.00mmol)を加え系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.81g加え80℃で8時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.29gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物27.60gを得た。
得られた反応生成物の酸価は159.2mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ無水コハク酸と3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオールとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(M−6の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.05g、無水コハク酸8.01g(80.00mmol)、3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオール10.78g(81.60mmol)を仕込み系内を窒素置換した後100℃で12時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン60.10g、トリメトキシシラン10.26g(84.00mmol)を加え系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.81g加え80℃で8時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.29gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物27.60gを得た。
得られた反応生成物の酸価は159.2mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ無水コハク酸と3−アリルオキシ−1,2−プロパンジオールとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(重合体6の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物17.73gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.97g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.05gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが70.34g得られた。得られたポリマーの酸価は34.0mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3132であった。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物17.73gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.97g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.05gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが70.34g得られた。得られたポリマーの酸価は34.0mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3132であった。
(組成物の調整)
重合体6を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体6を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例7]
(重合体7の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物18.39gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン14.90g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール25.96gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが50.33g得られた。得られたポリマーの酸価は57.1mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3121であった。
(重合体7の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物18.39gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン14.90g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール25.96gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが50.33g得られた。得られたポリマーの酸価は57.1mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3121であった。
(組成物の調整)
重合体7を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体7を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例8]
(重合体8の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物15.32gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン16.56g、p−スチリルトリメトキシシラン11.21g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.05gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが67.25g得られた。得られたポリマーの酸価は36.0mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3266であった。
(重合体8の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物15.32gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン16.56g、p−スチリルトリメトキシシラン11.21g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.05gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが67.25g得られた。得られたポリマーの酸価は36.0mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3266であった。
(組成物の調整)
重合体8を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体8を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例9]
(重合体9の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた500mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物15.31gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.96g、フェニルトリメトキシシラン33.04g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート80.10gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後系内を窒素置換した。水18.01gおよび5mol/L塩酸0.5uLを加えて95℃で3時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え減圧下でプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタートおよび反応により生成したメタノールを40.50g留去した。この反応により、ポリマーを含む溶液が132.20g得られた。得られたポリマーの酸価は36.9mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3985であった。
(重合体9の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた500mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物15.31gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.96g、フェニルトリメトキシシラン33.04g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート80.10gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後系内を窒素置換した。水18.01gおよび5mol/L塩酸0.5uLを加えて95℃で3時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え減圧下でプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタートおよび反応により生成したメタノールを40.50g留去した。この反応により、ポリマーを含む溶液が132.20g得られた。得られたポリマーの酸価は36.9mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは3985であった。
(組成物の調整)
重合体9を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体9を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例10]
(重合体10の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.00g、ビニルトリメトキシシラン11.86g(80.00mmol)、1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン(LS−7310、信越化学工業株式会社)8.18g(42.07mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.80g加え80℃で5時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.28gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物19.60gを得た。1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物15.32gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.15g、上記のビニルトリメトキシシランと1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼンとの反応生成物1.64g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.05gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが68.90g得られた。得られたポリマーの酸価は34.9mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2988であった。
(重合体10の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.00g、ビニルトリメトキシシラン11.86g(80.00mmol)、1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン(LS−7310、信越化学工業株式会社)8.18g(42.07mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を2.80g加え80℃で5時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.28gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物19.60gを得た。1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物15.32gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.15g、上記のビニルトリメトキシシランと1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼンとの反応生成物1.64g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.05gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で7時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが68.90g得られた。得られたポリマーの酸価は34.9mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2988であった。
(組成物の調整)
重合体10を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体10を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[実施例11]
(重合体11の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた500mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物15.32gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.98g、フェニルトリメトキシシラン33.03g、合成例10と同様にして得たビニルトリメトキシシランと1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼンとの反応生成物1.63g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート80.00gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後系内を窒素置換した。水18.38gおよび5mol/L塩酸0.5uLを加えて95℃で3時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え減圧下でプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタートおよび反応により生成したメタノールを40.10g留去した。この反応により、ポリマーを含む溶液が131.65g得られた。得られたポリマーの酸価は36.3mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは4238であった。
(重合体11の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた500mlのフラスコに実施例1のM−1の合成と同様にして得た10−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物15.32gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン28.98g、フェニルトリメトキシシラン33.03g、合成例10と同様にして得たビニルトリメトキシシランと1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼンとの反応生成物1.63g、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート80.00gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後系内を窒素置換した。水18.38gおよび5mol/L塩酸0.5uLを加えて95℃で3時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え減圧下でプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタートおよび反応により生成したメタノールを40.10g留去した。この反応により、ポリマーを含む溶液が131.65g得られた。得られたポリマーの酸価は36.3mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは4238であった。
(組成物の調整)
重合体11を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体11を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[比較例1]
(重合体12の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにX−12−967C(信越化学工業株式会社製)13.36gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン29.63g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.82gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で6時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが67.31g得られた。得られたポリマーの酸価は44.7mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2420であった。
(重合体12の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにX−12−967C(信越化学工業株式会社製)13.36gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン29.63g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.82gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で6時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが67.31g得られた。得られたポリマーの酸価は44.7mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2420であった。
(組成物の調整)
重合体12を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体12を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[比較例2]
(M−8の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.32g、3−ブテン酸8.05g(93.51mmol)、トリメトキシシラン12.28g(100.49mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を5.00g加え80℃で7時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.29gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物14.81gを得た。
得られた反応生成物の酸価は249.1mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ3−ブテン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(M−8の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコにトルエン60.32g、3−ブテン酸8.05g(93.51mmol)、トリメトキシシラン12.28g(100.49mmol)を仕込み系内を窒素置換した。触媒として1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン白金(0)錯体のトルエン溶液(白金を0.03重量%含む)を5.00g加え80℃で7時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭(白鷺A、日本エンバイロケミカルズ株式会社)0.29gを加えて30分間撹拌した。セライト(No.503、和光純薬工業株式会社)を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物14.81gを得た。
得られた反応生成物の酸価は249.1mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ3−ブテン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また1H−NMRを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
(重合体13の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物10.65gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン29.56g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.82gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で5時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが65.30g得られた。得られたポリマーの酸価は33.3mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは5082であった。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた200mlのフラスコに上記の反応生成物10.65gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン29.56g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.01gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール36.82gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で5時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが65.30g得られた。得られたポリマーの酸価は33.3mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは5082であった。
(組成物の調整)
重合体13を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体13を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
[比較例3]
(M−9の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた500mlのフラスコにトルエン112.16g、3-アミノプロピルトリメトキシシラン143.46g(80.02mmol)、無水コハク酸80.05(79.99mmol)を仕込み系内を窒素置換した。25℃の水浴中で10時間撹拌した。その後溶媒を留去し、反応生成物217.82gを得た。
得られた反応生成物の酸価は190.8mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ3-アミノプロピルトリメトキシシランおよび無水コハク酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。
(M−9の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた500mlのフラスコにトルエン112.16g、3-アミノプロピルトリメトキシシラン143.46g(80.02mmol)、無水コハク酸80.05(79.99mmol)を仕込み系内を窒素置換した。25℃の水浴中で10時間撹拌した。その後溶媒を留去し、反応生成物217.82gを得た。
得られた反応生成物の酸価は190.8mgKOH/gであった。この反応生成物をGPC分析したところ3-アミノプロピルトリメトキシシランおよび無水コハク酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。
(重合体14の合成)
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた2Lのフラスコに上記の反応生成物169.46gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン347.70g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.11gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール432.87gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で5時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが810.80g得られた。得られたポリマーの酸価は38.7mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2541であった。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた2Lのフラスコに上記の反応生成物169.46gと3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン347.70g、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル0.11gを仕込み、室温で30分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール432.87gを加え、系内を窒素置換した後90℃で1時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を1kPaとして反応により生成するメタノールを留去しながら、90℃で5時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが810.80g得られた。得られたポリマーの酸価は38.7mgKOH/gであった。GPC分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Mwは2541であった。
(組成物の調整)
重合体14を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
重合体14を3.00g、SPC1001を固形分の重量で3.00g、EA−1020を2.00g、TMPTを2.00g、光重合開始剤としてIrgacure819を0.09g、Tinuvin152を0.03g、KBM5103(3−(アクリルオキシ)プロピルトリメトキシシラン 信越化学工業社製)を0.50g、PGMEA(プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセタート)を5.00gになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径2.5ミクロンのPP製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
上記で得られた、M−1〜M−6、M−8、M−9の1H−NMRを測定した(測定装置:JNM−GSX400(日本電子株式会社))。結果を表1に示す。
M−7については、X−12−967C(信越化学工業株式会社製)の値を示す。
M−7については、X−12−967C(信越化学工業株式会社製)の値を示す。
実施例1〜11、比較例1〜3について、上記の評価を行った結果を以下の表2に示す。
<カルボン酸基含有化合物>
M−7: X−12−967C 信越化学工業株式会社製
<開始剤>
Irgacure819:BASF社製
<バインダー>
SPC1001:昭和電工社製 酸価:86mgKOH/g
<モノマー>
EA−1020:新中村化学工業社製
TMPT:新中村化学工業社製
<添加剤>
TINUVIN152:BASF社製
KBM5103:信越化学工業株式会社製
PGMEA:東京化成工業社製
M−7: X−12−967C 信越化学工業株式会社製
<開始剤>
Irgacure819:BASF社製
<バインダー>
SPC1001:昭和電工社製 酸価:86mgKOH/g
<モノマー>
EA−1020:新中村化学工業社製
TMPT:新中村化学工業社製
<添加剤>
TINUVIN152:BASF社製
KBM5103:信越化学工業株式会社製
PGMEA:東京化成工業社製
上述したシリコーン重合体は、表示装置の絶縁材料として、半導体装置における表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜などの形成に、及びイメージセンサー若しくはマイクロマシン、又はマイクロアクチュエーターを搭載した半導体装置等及びその形成に好適に利用可能である。
Claims (6)
- ラジカル架橋性基をさらに含む、請求項1に記載のシリコーン重合体。
- ポリシロキサン構造を含む、請求項1又は2に記載のシリコーン重合体。
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Cited By (3)
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WO2017188047A1 (ja) * | 2016-04-25 | 2017-11-02 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物、その硬化膜およびその製造方法ならびに固体撮像素子 |
WO2019189387A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 東レ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、その硬化膜およびそれを具備する固体撮像素子 |
WO2023074804A1 (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-04 | ダウ・東レ株式会社 | アルカリ可溶性の紫外線硬化性オルガノポリシロキサン、それを含む紫外線硬化性組成物およびその用途 |
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2013
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017188047A1 (ja) * | 2016-04-25 | 2017-11-02 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物、その硬化膜およびその製造方法ならびに固体撮像素子 |
JPWO2017188047A1 (ja) * | 2016-04-25 | 2019-02-28 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物、その硬化膜およびその製造方法ならびに固体撮像素子 |
JP7027886B2 (ja) | 2016-04-25 | 2022-03-02 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物、その硬化膜およびその製造方法ならびに固体撮像素子 |
WO2019189387A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 東レ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、その硬化膜およびそれを具備する固体撮像素子 |
JP6648857B1 (ja) * | 2018-03-30 | 2020-02-14 | 東レ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、その硬化膜およびそれを具備する固体撮像素子 |
KR20200138208A (ko) * | 2018-03-30 | 2020-12-09 | 도레이 카부시키가이샤 | 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그의 경화막 및 그것을 구비하는 고체 촬상 소자 |
TWI784152B (zh) * | 2018-03-30 | 2022-11-21 | 日商東麗股份有限公司 | 正型感光性樹脂組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜以及固體攝像元件 |
US11789363B2 (en) | 2018-03-30 | 2023-10-17 | Toray Industries, Inc. | Positive photosensitive resin composition, cured film therefrom, and solid state image sensor comprising the same |
KR102649087B1 (ko) * | 2018-03-30 | 2024-03-20 | 도레이 카부시키가이샤 | 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그의 경화막 및 그것을 구비하는 고체 촬상 소자 |
WO2023074804A1 (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-04 | ダウ・東レ株式会社 | アルカリ可溶性の紫外線硬化性オルガノポリシロキサン、それを含む紫外線硬化性組成物およびその用途 |
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