JP2007293159A - 感光性樹脂組成物及びシルセスキオキサン重合体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】かご状シルセスキオキサン構造が平均1箇所を超えて他のかご状シルセスキオキサン構造と結合してなるシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造が平均1個以上の感光性付与基を含むシルセスキオキサン重合体と、感光剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
【選択図】なし
Description
本発明の感光性樹脂組成物は、かご状シルセスキオキサン構造が平均1箇所を超えて他のかご状シルセスキオキサン構造と結合し、かご状シルセスキオキサン構造が平均1個以上の感光性付与基を含むシルセスキオキサン重合体を有することを特徴とする。
(RSiO3/2)n (1)
(RSiO3/2)l(RXSiO3/2)k (2)
ここで、nは6以上14以下の整数であり、lは2以上12以下の整数であり、kは2又は3である。例えば、n=6の場合は、下記一般式(3)で表される構造となり、n=8の場合は、下記一般式(4)で表される構造となり、n=10の場合は、下記一般式(5)で表される構造となり、n=12の場合は、下記一般式(6)で表される構造となり、n=14の場合は、下記一般式(7)で表される構造となる。
本発明の重合体は、かご状シルセスキオキサンと分子内に少なくとも1個の不飽和結合を有する感光性付与基を含む化合物及び分子内に少なくとも2個の不飽和結合を有する化合物との反応させることによって、得ることができる。
(試薬)
実施例及び比較例において、用いた試薬であるPSS−オクタキス(ジメチルシリロキシ)置換(Aldrich社製)、p−t−ブトキシスチレン(和光純薬工業社製)、Pt(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン3%キシレン溶液(Aldrich社製)、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン(チッソ社製)、ビニル終端ポリジメチルシロキサン(DMS−V05)(GELEST社製)、トルエン(和光純薬工業社製、有機合成用)、塩酸、4.0M 1,4−ジオキサン溶液(Aldrich社製)、メタノール(和光純薬工業社製、特級)、テトラヒドロフラン(和光純薬工業社製、安定剤不含、特級)は、特別な精製を実施せずに反応に用いた。
重合により得られた重合体含有反応溶液を、メタノールに注ぎ、室温で10分間撹拌し、透明固体が沈殿した後に、デカンテーションにより上澄み液を除去することにより精製を行った。透明固体が沈殿しない場合は、遠心分離器(久保田製作所社製)を用いて遠心分離を行い、透明固体を沈殿させた後に、同様の操作を行い、精製を行った。
数平均分子量の測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、下記の条件により行った。
カラム:Shodex KF−804L(昭和電工社製)
移動相:テトラヒドロフラン(和光純薬工業社製、安定剤不含)
流速:0.6mL/分
カラム温度:40℃
ポンプ:LC−10AT(島津製作所社製)
検出器:RID−6A(RI:示差屈折計、島津製作所社製)
SPD−10A(UV−VIS:紫外可視吸光計、島津製作所社製)
また、該分子量を算出するための検量線は、スタンダードポリスチレン(Aldrich社製)を用いて作成した。
NMR測定は、JEOL社製、JNM−GSX400を用いた。測定に用いた溶媒は、重クロロホルム(和光純薬工業社製、純度99.8重量%)であり、共重合体5.0×10−3gに対して重クロロホルム5.0×10−4リットルの濃度とした。また、測定温度は30℃とした。なお、内部標準は、重クロロホルムの重水素化されていないピークである7.26ppmを基準とした。
本発明における該かご状シルセスキオキサン構造に結合する感光性付与基の結合数は、前述のNMR測定により求めた。前述の測定条件において、フェノール基に由来するピークは、δ6.6〜7.1に観測された。また、ヒドロシリル化反応後に生成するSi−CH2CH2−Siのピークは、δ0.5に観測された。そしてこれらの積分比から、かご状シルセスキオキサン構造に結合する感光性付与基の結合数(M)を求めた。この結合数(M)が1.0を超えると、かご状シルセスキオキサン構造が平均1個以上の感光性付与基を含むことになる。
本発明における1個のかご状シルセスキオキサン構造が他のかご状シルセスキオキサン構造と結合する個数(N)は、前述のNMR測定により求めた。前述の測定条件において、ヒドロシリル化反応後に生成するSi−CH2CH2−Siのピークは、δ0.5に観測された。また、不飽和結合が1つ残存しているビニル基に由来するピークは、δ5.0〜6.3に観測された。そして、不飽和結合が残存していないものは、すべて他のかご状シルセスキオキサンと結合していると仮定して、算出した。この結合数(N)が1.0を超えると、かご状シルセスキオキサン構造が平均1箇所を超えて他のかご状シルセスキオキサン構造と結合してなることになる。
本発明における硬化体の膜厚測定は、反射分光膜厚計FE−3000(大塚電子社製)により行った。測定手法は絶対反射率を採用し、測定モードはマニュアルにて行った。また、リファレンスとしてアルミニウムを用い、標準反射板としてAl吸着ホルダを用いた。アルゴリズムは、ピークバレイ+最小二乗法を用い、スムージングポイントは7点とし、最小二乗法演算波長範囲は240〜800nmとし、ピーク&バレイ法演算波長範囲は500〜800nmとした。
本発明における感光性樹脂組成物の被覆方法は、MIKASA COATER(MIKASA製、1H−D7)を用いるスピンコート法を採用した。具体的には、無アルカリガラス(コーニング社製、1737 AMLCD)に該感光性樹脂組成物を滴下し、1000rpmで30秒間コーティングを行った。
本発明に係る硬化物の製造は、前述の方法により該感光性樹脂組成物をスピンコートした無アルカリガラスを、縦型焼成炉(光洋リンドバーグ社製、VF−1000)を用いて焼成することにより行った。焼成は、窒素雰囲気下で行い、150℃で60分間、続いて350℃で60分間行った。このようにして、該感光性樹脂組成物で構成された硬化物を得た。
上記硬化物の耐熱性試験は、TGA2950(TAインスツルメント社製)を用いて、350℃で30分間保持した後の重量減少率を求めることにより行った。
本発明における感光性樹脂組成物の感光性試験は、2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液(25%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液(和光純薬工業社製、精密分析用)を精製水(共栄製薬社製)で希釈したもの)を用いて行った。前述の方法により感光性樹脂組成物を無アルカリガラスに被覆して得られた膜を、2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液に浸漬し、膜が溶解し始めるまでの時間を計測した。ここで、5分間浸漬しても溶解しないものを、不溶とした。また、該膜を露光(低圧水銀ランプ、フィリップスTL/10、2000mJ/cm2)した後にも同様に計測した。
窒素雰囲気下、セプタム及び還流器を付けた三口フラスコに、PSS−オクタキス(ジメチルシリロキシ)置換(4.915mmol)、p−t−ブトキシスチレン(29.564mmol)、トルエン(40ml)、Pt(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン3%キシレン溶液(40μl)を入れ、60℃で2時間加熱撹拌した。次いで、ビニル終端ポリジメチルシロキサン(DMS−V05)(19.74mmol)を加え、90℃で5時間加熱撹拌した。室温まで冷却した後に、反応溶液をメタノール(400ml)に注ぎ、室温で10分間撹拌し、上澄み液をデカンテーションし、真空乾燥器中で乾燥することにより、t−ブチル保護体を得た。
窒素雰囲気下、セプタム及び還流器を付けた三口フラスコに、PSS−オクタキス(ジメチルシリロキシ)置換(4.914mmol)、p−t−ブトキシスチレン(24.628mmol)、トルエン(40ml)、Pt(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン3%キシレン溶液(40μl)を入れ、60℃で2時間加熱撹拌した。次いで、ビニル終端ポリジメチルシロキサン(DMS−V05)(15.237mmol)を加え、90℃で5時間加熱撹拌した。実施例1と同様の条件で回収、精製を行いt−ブチル保護体を得た。
窒素雰囲気下、セプタム及び還流器を付けた三口フラスコに、PSS−オクタキス(ジメチルシリロキシ)置換(4.927mmol)、p−t−ブトキシスチレン(29.672mmol)、トルエン(40ml)、Pt(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン3%キシレン溶液(40μl)を入れ、60℃で2時間加熱撹拌した。次いで、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン(15.021mmol)を加え、90℃で8時間加熱撹拌した。実施例1と同様の条件で回収、精製を行いt−ブチル保護体を得た。
窒素雰囲気下、セプタム及び還流器を付けた三口フラスコに、PSS−オクタキス(ジメチルシリロキシ)置換(4.922mmol)、p−t−ブトキシスチレン(2.456mmol)、トルエン(40ml)、Pt(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン3%キシレン溶液(40μl)を入れ、60℃で2時間加熱撹拌した。次いで、ビニル終端ポリジメチルシロキサン(DMS−V05)(166.447mmol)を加え、90℃で5時間加熱撹拌した。実施例1と同様の条件で回収、精製を行いt−ブチル保護体を得た。
Claims (8)
- かご状シルセスキオキサン構造が平均1箇所を超えて他のかご状シルセスキオキサン構造と結合してなるシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造が平均1個以上の感光性付与基を含むシルセスキオキサン重合体と、感光剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
- 前記感光性付与基がアルカリ溶解性官能基であることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光剤が溶解抑止剤であることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- かご状シルセスキオキサン構造が平均1箇所を超えて他のかご状シルセスキオキサン構造と結合してなるシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造が平均1個以上のアルカリ溶解性官能基を含むことを特徴とするシルセスキオキサン重合体。
- 前記アルカリ溶解性官能基がカルボキシル基又は芳香族性水酸基であることを特徴とする請求項4記載のシルセスキオキサン重合体。
- 前記アルカリ溶解性基が酸又は塩基により脱保護可能な保護基で保護されていることを特徴とする請求項4又は請求項5記載のシルセスキオキサン重合体。
- 請求項1から請求項3のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を硬化してなることを特徴とする硬化物。
- 請求項7記載の硬化物で構成されたことを特徴とする厚膜誘電体。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008066116A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-05 | Kaneka Corporation | Polysiloxane composition |
JP2008201832A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シロキサン重合体とその製造方法、該重合体を含有する多孔質膜形成用塗布液ならびに多孔質膜と、該多孔質膜を用いた半導体装置 |
JP2009215423A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Chisso Corp | かご型シルセスキオキサン構造を含む重合体とそれを含むネガ型レジスト材料 |
JP2011022173A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Chisso Corp | ポジ型感光性組成物 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004212983A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | パターナブル低誘電率材料およびulsi相互接続でのその使用 |
-
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004212983A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | パターナブル低誘電率材料およびulsi相互接続でのその使用 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008066116A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-05 | Kaneka Corporation | Polysiloxane composition |
JPWO2008066116A1 (ja) * | 2006-12-01 | 2010-03-11 | 株式会社カネカ | ポリシロキサン系組成物 |
JP5670616B2 (ja) * | 2006-12-01 | 2015-02-18 | 株式会社カネカ | ポリシロキサン系組成物 |
JP2008201832A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シロキサン重合体とその製造方法、該重合体を含有する多孔質膜形成用塗布液ならびに多孔質膜と、該多孔質膜を用いた半導体装置 |
JP2009215423A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Chisso Corp | かご型シルセスキオキサン構造を含む重合体とそれを含むネガ型レジスト材料 |
JP2011022173A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Chisso Corp | ポジ型感光性組成物 |
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