JP2014236161A - 半導体光素子およびその製造方法ならびに集積型半導体光素子 - Google Patents
半導体光素子およびその製造方法ならびに集積型半導体光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014236161A JP2014236161A JP2013118227A JP2013118227A JP2014236161A JP 2014236161 A JP2014236161 A JP 2014236161A JP 2013118227 A JP2013118227 A JP 2013118227A JP 2013118227 A JP2013118227 A JP 2013118227A JP 2014236161 A JP2014236161 A JP 2014236161A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor optical
- optical device
- semiconductor
- light
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体光素子の模式的な平面図である。図1に示すように、この半導体光素子100は、半導体光増幅素子として構成されており、光導波路である半導体光増幅器1と、半導体光増幅器1の周囲に形成された埋め込み部2と、光入力側の端面に形成された反射防止膜3と、光出力側の端面に形成された反射防止膜4と、半導体光増幅器1の光出力端面1a側に形成された窓構造部5と、半導体光増幅器1の光入力端面1b側に形成された窓構造部6とを備えている。反射防止膜3、4は、誘電体等からなり、その反射率はたとえば0.1%以下である。半導体光増幅器1の光伝搬方向(半導体光増幅器1の光入力から光出力への方向)の長さはたとえば1500μmである。
このような信頼性を実現するためには、例えば、テーパ部の出力端面1aでの幅が、当該出力端面での光強度密度が活性層24の光出力端面1aにおける瞬時光学損傷が発生する光強度密度よりも弱くなるような幅であるようにすればよい。
図4は、本発明の実施の形態2に係る集積型半導体光素子の模式的な平面図である。図4に示すように、本実施の形態2に係る集積型半導体光素子200は、集積型半導体レーザ素子として構成されており、光導波路である複数のDFBレーザストライプ11−1〜11−n(nは2以上の整数)と、複数の光導波路12−1〜12−nと、光導波路であるMMI(Multi Mode Interferometer)合流器13と、光導波路である半導体光増幅器14とを一つの半導体基板上に集積し、これらの周囲に埋め込み部15および窓構造部16を形成した構造を有する。また、DFBレーザストライプ11−1〜11−n間にはトレンチ溝17−1〜17−m(m=n―1)が設けられている。
図13は、本発明の実施の形態3に係る集積型半導体光素子の模式的な平面図である。図13に示すように、本実施の形態3に係る集積型半導体光素子200Aは、図4に示す実施の形態2に係る集積型半導体光素子200において、半導体光増幅器14、窓構造16を、それぞれ半導体光増幅器14A、窓構造16Aに置き換えた構成を有する。
1a、14c、14Ac 光出力端面
1b 光入力端面
2、15 埋め込み部
3、4 反射防止膜
5、6、16 窓構造部
11−1〜11−n DFBレーザストライプ
12−1〜12−n 光導波路
13 MMI光合流器
13a 出力ポート
14a、14Aa 定幅部
14b テーパ部
14Ab 曲がりテーパ部
17−1〜17−m トレンチ溝
21 n型InP基板
22 n型InPバッファ層
23 下部AlGaInAs−SCH層
24 活性層
25 上部AlGaInAs−SCH層
26 InPスペーサ層
27 InGaAsPグレーティング層
28 p型InPクラッド層
29 格子溝
30 InGaAsPコア層
31 i型InP層
32 p型InP電流ブロッキング層
33 n型電流ブロッキング層
34 p型InPクラッド層
35 InGaAsコンタクト層
38 SiN保護膜
39 p側電極
40 n側電極
100 半導体光素子
200、200A 集積型半導体光素子
200a、200Aa 端面
M1、M2、M3、M4 メサ構造
S1、S2、S3、S4、S5 領域
W1、W2、W3、W4 活性層幅
XA、XB 軸
Claims (12)
- Alを含む第1半導体材料からなる活性層を含み、光の出力方向に向かって幅が広くなるテーパ部を有するメサ構造の光導波路と、
前記光導波路の光出力端面側に形成され、前記光の波長よりもバンドギャップ波長が短い第2半導体材料からなる窓構造部と、
を備えることを特徴とする半導体光素子。 - 前記光導波路のメサ構造を埋め込む埋め込み部を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体光素子。
- 前記窓構造部は埋め込み構造を有し、前記埋め込み部と同一工程で形成されたものであることを特徴とする請求項2に記載の半導体光素子。
- 前記第1半導体材料はAlGaInAsであり、前記第2半導体材料はInPであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の半導体光素子。
- 前記テーパ部の出力端面での幅は、前記光の強度による、前記活性層の出力端面における瞬時光学損傷が防止される幅であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の半導体光素子。
- 前記テーパ部の出力端面での幅は、前記出力端面での光強度密度が前記活性層の出力端面における瞬時光学損傷が発生する光強度密度よりも弱くなるような幅であることを特徴とする請求項5に記載の半導体光素子。
- 前記テーパ部の幅は、前記光をシングルモードで伝搬する幅であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の半導体光素子。
- 前記光導波路の光出力端面からの光出力の強度が50mW以上であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の半導体光素子。
- 60℃以上の素子温度で動作することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の半導体光素子。
- 請求項1〜9のいずれか一つに記載の半導体光素子を備えることを特徴とする集積型半導体光素子。
- Alを含む第1半導体材料からなる活性層を含む半導体積層体を、光の出力方向に向かって幅が広くなるテーパ部を有するメサ構造の光導波路に形成するメサ構造形成工程と、
前記光導波路の光出力端面側に、前記光の波長よりもバンドギャップ波長が短い第2半導体材料からなる窓構造部を形成する窓構造部形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体光素子の製造方法。 - 前記窓構造部形成工程は、前記光導波路のメサ構造を半導体層によって埋め込む工程に含まれることを特徴とする請求項11に記載の半導体光素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013118227A JP2014236161A (ja) | 2013-06-04 | 2013-06-04 | 半導体光素子およびその製造方法ならびに集積型半導体光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013118227A JP2014236161A (ja) | 2013-06-04 | 2013-06-04 | 半導体光素子およびその製造方法ならびに集積型半導体光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014236161A true JP2014236161A (ja) | 2014-12-15 |
Family
ID=52138631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013118227A Pending JP2014236161A (ja) | 2013-06-04 | 2013-06-04 | 半導体光素子およびその製造方法ならびに集積型半導体光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014236161A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019102604A1 (ja) * | 2017-11-27 | 2019-05-31 | 三菱電機株式会社 | 半導体光送信器 |
CN113994555A (zh) * | 2019-06-17 | 2022-01-28 | 日本电信电话株式会社 | 半导体光源元件以及光半导体波导窗构造的制造方法 |
JP7453649B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-03-21 | 株式会社デンソー | 半導体発光素子 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4856017A (en) * | 1987-12-22 | 1989-08-08 | Ortel Corporation | Single frequency high power semiconductor laser |
JPH04137783A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-12 | Mitsubishi Electric Corp | スーパールミネッセントダイオード装置 |
JPH08195525A (ja) * | 1995-01-18 | 1996-07-30 | Nec Corp | 半導体レーザ |
JP2000049417A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-18 | Hitachi Ltd | 半導体発光素子およびその素子を組み込んだ半導体発光装置ならびにそれらの製造方法 |
JP2000332359A (ja) * | 1999-05-20 | 2000-11-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体発光装置 |
JP2000340891A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-12-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体光デバイス装置 |
JP2001196695A (ja) * | 2000-01-17 | 2001-07-19 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置の製造方法 |
JP2002124738A (ja) * | 2000-10-17 | 2002-04-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体光デバイス装置及びその製造方法 |
JP2003110195A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Opnext Japan Inc | 半導体光素子及びその製造方法 |
JP2005522885A (ja) * | 2002-04-10 | 2005-07-28 | インテンス フォトニクス リミテッド | 集積化された能動的光デバイス及び光検出器 |
JP2005353761A (ja) * | 2004-06-09 | 2005-12-22 | Mitsubishi Electric Corp | 分布帰還型半導体レーザ |
JP2007243072A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 半導体光増幅器複合半導体レーザー装置 |
JP2008177405A (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置およびその製造方法 |
JP2011035060A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 集積型半導体レーザ素子および半導体レーザモジュールならびに光伝送システム |
-
2013
- 2013-06-04 JP JP2013118227A patent/JP2014236161A/ja active Pending
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4856017A (en) * | 1987-12-22 | 1989-08-08 | Ortel Corporation | Single frequency high power semiconductor laser |
JPH04137783A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-12 | Mitsubishi Electric Corp | スーパールミネッセントダイオード装置 |
JPH08195525A (ja) * | 1995-01-18 | 1996-07-30 | Nec Corp | 半導体レーザ |
JP2000049417A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-18 | Hitachi Ltd | 半導体発光素子およびその素子を組み込んだ半導体発光装置ならびにそれらの製造方法 |
JP2000340891A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-12-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体光デバイス装置 |
JP2000332359A (ja) * | 1999-05-20 | 2000-11-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体発光装置 |
JP2001196695A (ja) * | 2000-01-17 | 2001-07-19 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置の製造方法 |
JP2002124738A (ja) * | 2000-10-17 | 2002-04-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体光デバイス装置及びその製造方法 |
JP2003110195A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Opnext Japan Inc | 半導体光素子及びその製造方法 |
JP2005522885A (ja) * | 2002-04-10 | 2005-07-28 | インテンス フォトニクス リミテッド | 集積化された能動的光デバイス及び光検出器 |
JP2005353761A (ja) * | 2004-06-09 | 2005-12-22 | Mitsubishi Electric Corp | 分布帰還型半導体レーザ |
JP2007243072A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 半導体光増幅器複合半導体レーザー装置 |
JP2008177405A (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置およびその製造方法 |
JP2011035060A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 集積型半導体レーザ素子および半導体レーザモジュールならびに光伝送システム |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019102604A1 (ja) * | 2017-11-27 | 2019-05-31 | 三菱電機株式会社 | 半導体光送信器 |
JPWO2019102604A1 (ja) * | 2017-11-27 | 2019-12-12 | 三菱電機株式会社 | 半導体光送信器 |
CN113994555A (zh) * | 2019-06-17 | 2022-01-28 | 日本电信电话株式会社 | 半导体光源元件以及光半导体波导窗构造的制造方法 |
JP7453649B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-03-21 | 株式会社デンソー | 半導体発光素子 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5888883B2 (ja) | スポットサイズ変換器、半導体光素子、及びそれらの製造方法 | |
US8787420B2 (en) | Integrated semiconductor laser element | |
JP3985159B2 (ja) | 利得クランプ型半導体光増幅器 | |
JP2004273993A (ja) | 波長可変分布反射型半導体レーザ装置 | |
JP4983790B2 (ja) | 光半導体装置とその製造方法 | |
US8472109B2 (en) | Semiconductor optical amplifier and optical module | |
JP2000216492A (ja) | 半導体光素子、その製造方法及び半導体光学装置 | |
US6650672B2 (en) | Semiconductor laser element having excellent light confinement effect and method for producing the semiconductor laser element | |
JP2005072338A (ja) | 光半導体装置及びその製造方法 | |
JP6588859B2 (ja) | 半導体レーザ | |
US20160336719A1 (en) | Integrated semiconductor laser device and semiconductor laser module | |
JP2011233829A (ja) | 集積型半導体光素子および集積型半導体光素子モジュール | |
JP2017107958A (ja) | 半導体レーザ | |
JP5323553B2 (ja) | 半導体光増幅素子 | |
JP2019008179A (ja) | 半導体光素子 | |
JP2014236161A (ja) | 半導体光素子およびその製造方法ならびに集積型半導体光素子 | |
JP6588858B2 (ja) | 半導体レーザ | |
JP2009054721A (ja) | 半導体素子及び半導体素子の製造方法 | |
JP4825150B2 (ja) | 光半導体集積素子及びその製造方法 | |
JP5323648B2 (ja) | 半導体光増幅素子 | |
JP2014165377A (ja) | 集積型半導体レーザ素子、および、半導体レーザ装置 | |
JP5163355B2 (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP5310271B2 (ja) | 半導体レーザ素子 | |
JPH11163456A (ja) | 半導体レーザ | |
JP2009260192A (ja) | 半導体光集積素子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170801 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170925 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20180213 |