JP2014236034A - ウェーハの加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】交差する複数の分割予定ライン(13)で区画された表面(11a)の各領域にそれぞれデバイス(15)が形成されたデバイス領域(17)とデバイス領域を囲繞する外周余剰領域(19)とを備えたウェーハ(11)の加工方法であって、ウェーハのデバイス領域に対面する凹部(26)と、凹部を囲繞して立設されウェーハの外周余剰領域を接触保持する保持面(24a)を有した外周部(24)と、を備えた保持手段(20)で、ウェーハの表面側を保持する保持ステップと、保持手段で保持されたウェーハの内部にレーザービーム(30)の集光点(32)を位置付けた状態で、レーザービームをウェーハの裏面(11b)側から分割予定ラインに沿って照射して改質層(34)を形成する改質層形成ステップと、を備え、改質層形成ステップでは、ウェーハの外周余剰領域を除くデバイス領域に改質層を形成する構成とした。
【選択図】図3
Description
11a 表面
11b 裏面
11e 外周
13 分割予定ライン(ストリート)
15 デバイス
17 デバイス領域
19 外周余剰領域
20 保持手段(保持テーブル)
22 中央部
22a 表面
24 外周部
24a 保持面
26 凹部
28 レーザー加工ヘッド
30 レーザービーム
32 集光点
34 改質層
36 境界改質層
38 フレーム
40 エキスパンドテープ
42 環状テーブル
44 クランプ
46 拡張ドラム
48 昇降機構
50 チャックテーブル
Claims (1)
- 交差する複数の分割予定ラインで区画された表面の各領域にそれぞれデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを備えたウェーハの加工方法であって、
ウェーハのデバイス領域に対面する凹部と、該凹部を囲繞して立設されウェーハの外周余剰領域を接触保持する保持面を有した外周部と、を備えた保持手段で、ウェーハの表面側を保持する保持ステップと、
該保持手段で保持されたウェーハの内部にレーザービームの集光点を位置付けた状態で、該レーザービームをウェーハの裏面側から該分割予定ラインに沿って照射して改質層を形成する改質層形成ステップと、を備え、
該改質層形成ステップでは、ウェーハの該外周余剰領域を除く該デバイス領域に該改質層を形成することを特徴とする、ウェーハの加工方法。
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