JP2014226749A - 研削方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】研削装置を用いた研削方法であって、第1の板状ワーク51の下面53を保持テーブル10で保持するワーク保持工程と、厚み測定手段17が制御部40の制御に基づいて第1の板状ワーク51の外周部分と中央部分と第1の板状ワーク51の半径の中点となる部分との少なくとも3箇所を測定し、記憶部41に第1の板状ワーク51の径方向の厚みを記憶させる第1の厚み測定工程と、平行度調整手段15を用いて第1の板状ワーク51の上面52と、研削砥石26bの研削面との平行度を調整する平行度調整工程とを備えているため、第1の板状ワーク51の厚みの厚み差に影響されることなく、第1の板状ワーク51の上側に貼られた第2の板状ワーク54を均一な厚みに研削できる。
【選択図】図2
Description
その後、平行度調整工程を実施することにより、記憶部に記憶された厚み分布に基づいて平行度調整手段が保持テーブルを傾けて研削手段の研削面と保持テーブルに保持された第1の板状ワークの上面との平行度を調整することができるため、第1の板状ワークの径方向における厚みの厚み差に影響されることなく第1の板状ワークの上側にある第2の板状ワークを均一な厚みに研削することができる。
図1に示した搬送手段5は、カセット4aから研削前の貼り合わせワーク50を取り出して仮置き手段6に搬送する。第1の搬送手段7aは、仮置き手段6において位置決めされた貼り合わせワーク50を着脱領域P1で待機する保持テーブル10に搬送する。
ワーク保持工程を実施した後、図4に示すように、厚み測定手段17によって第1の板状ワーク51の厚みを複数箇所において測定する。第1の板状ワーク51の厚みを測定する複数箇所とは、例えば、第1の板状ワーク51の中心に近い中央部分の第1の測定点Aと、第1の板状ワーク51の外周縁に近い外周部分である第2の測定点Bと、第1の板状ワーク51の半径の中点部分となる第3の測定点Cとの少なくとも3つの測定点となっている。なお、本実施形態の第1の厚み測定工程は、図1に示した第2の研削手段20bによる仕上げ研削前に行うものとするが、第1の研削手段20aによる粗研削前に行ってもよい。
第1の厚み測定工程を実施した後、記憶部41に記憶された第1の板状ワーク51の3つの測定点における厚み値に基づいて保持テーブル10の傾きを調整する。例えば、図5(a)に示す貼り合わせワーク50aでは、下側にある第1の板状ワーク51の最も中央部分に近い側が薄く、外周部分が最も厚くなっていることから、平行関係にすべき研削手段の研削面H1と第1の板状ワーク51の上面52における基準面H2とが平行となっていない。ここで、研削面H1とは、第2の板状ワーク54の上面55と接触する研削砥石26bの下面を指す。基準面H2とは、第1の板状ワーク51の上面52を指し、研削面H1と対比できるように図示したものである。
上記平行度調整工程を実施した後、図7に示すように、第2の板状ワーク54に対して仕上げ研削をしながら、第2の板状ワーク54のみの厚みを測定する第2の厚み測定工程を実施してもよい。
その後、平行度調整工程を実施することにより、記憶部41に記憶された厚み分布に基づいて平行度調整手段15が保持テーブル10を傾けて研削手段の研削面と保持テーブル10に保持された第1の板状ワーク51の上面52との平行度を調整することができるため、第1の板状ワーク51の径方向における厚みに厚み差が生じていたとしても第1の板状ワーク51の上側にある第2の板状ワーク54を均一な厚みに研削することが可能となる。
このように、第1の板状ワーク51の上側にある第2の板状ワーク54の厚み分布を把握できるため、第1の板状ワーク51の径方向における厚みに厚み差が生じていたとしても第2の板状ワーク54を均一な厚みで、かつ所定の厚みに研削することが可能となる。
5:搬送手段 6:仮置き手段 7a:第1の搬送手段 7b:第2の搬送手段
8a,8b:コラム 9:洗浄手段
10:保持テーブル 11:多孔質部材 12:保持面 13:吸引口 14:吸引源
15:平行度調整手段 16:厚み測定ゲージ 160:テーブルハイトゲージ
161:ワークハイトゲージ 17:厚み測定手段 170:第1のセンサ
171:第2のセンサ 172:第3のセンサ 18:測定光
20a:第1の研削手段 21:ハウジング 22:スピンドル 23:モータ
24:マウント 25:ホイール 26a,26b:砥石 20b:第2の研削手段
30a:第1の研削送り手段 30b:第2の研削送り手段 31:ボールネジ
32:モータ 33:ガイドレール 34:昇降板
40:制御部 41:記憶部
50,50a,50b,50c,50d,50e,50f,50g,
50h:貼り合わせワーク
51:第1の板状ワーク 52:上面 53:下面
54:第2の板状ワーク 55:上面 56:下面
H1:研削面 H2:基準面
Claims (2)
- 板状ワークを保持面で保持する保持テーブルと、研削砥石が環状に配置された研削ホイールが装着され該保持テーブルが保持した該板状ワークを研削する研削手段と、該板状ワークに接触する該研削砥石の研削面と該保持テーブルの該保持面との平行度を相対的に調整する平行度調整手段と、該保持テーブルに保持される該板状ワークの厚みを測定する厚み測定手段と、該厚み測定手段による板状ワークの厚み測定を制御する制御部と、該厚み測定手段によって測定した該板状ワークの厚みを記憶する記憶部とを少なくとも備える研削装置を用いた研削方法であって、
該板状ワークは、基台となる第1の板状ワークと、第2の板状ワークとにより構成され、該第1の板状ワークの一方の面と該第2の板状ワークの一方の面との間に貼り合わせ部材を介在させて貼り合わせて形成されており、
該第1の板状ワークの他方の面を該保持テーブルで保持するワーク保持工程と、
該厚み測定手段を用いて該保持テーブルが保持した該第1の板状ワークの外周部分と中央部分と該第1の板状ワークの半径の中点となる部分との少なくとも3箇所の測定位置で該第1の板状ワークの厚みを測定し、該記憶部に該第1の板状ワークの径方向の厚みを記憶させる第1の厚み測定工程と、
該記憶部が記憶する該第1の板状ワークの径方向の厚みによって該平行度調整手段を用いて該保持テーブルが保持する該第1の板状ワークの一方の面と該研削面との平行度を調整する平行度調整工程と、を備え、
該平行度調整工程の後に該第2の板状ワークを研削する研削方法。 - 前記厚み測定手段は、前記制御部で第2の板状ワークのみの厚みを測定可能に制御し、
前記平行度調整工程の後、該厚み測定手段で該第2の板状ワークのみの厚みを測定しつつ前記研削手段によって研削し、該第2の板状ワークを所定の厚みにする請求項1記載の研削方法。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016171212A (ja) * | 2015-03-12 | 2016-09-23 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
JP2016193458A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | 株式会社東京精密 | ワーク加工装置 |
JP2017013144A (ja) * | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
WO2018235619A1 (ja) * | 2017-06-21 | 2018-12-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体 |
JP2019186265A (ja) * | 2018-04-03 | 2019-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
WO2021095588A1 (ja) * | 2019-11-15 | 2021-05-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JPWO2021095586A1 (ja) * | 2019-11-15 | 2021-05-20 | ||
JP2021118300A (ja) * | 2020-01-28 | 2021-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 研削装置、及び研削方法 |
WO2022113795A1 (ja) * | 2020-11-27 | 2022-06-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム及び基板処理方法 |
KR20220132614A (ko) | 2020-01-28 | 2022-09-30 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 접합 장치 및 접합 방법 |
CN115476255A (zh) * | 2022-08-15 | 2022-12-16 | 河南博鸿新材料有限公司 | 一种金刚石复合材料抛光装置 |
KR20240140827A (ko) | 2023-03-16 | 2024-09-24 | 가부시기가이샤 디스코 | 웨이퍼의 연삭 장치 및 연삭 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008264913A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削加工装置 |
JP2011245610A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2012111008A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Disco Corp | 研削装置 |
-
2013
- 2013-05-22 JP JP2013107897A patent/JP6082654B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008264913A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削加工装置 |
JP2011245610A (ja) * | 2010-05-31 | 2011-12-08 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2012111008A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Disco Corp | 研削装置 |
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016171212A (ja) * | 2015-03-12 | 2016-09-23 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
US9935232B2 (en) | 2015-03-12 | 2018-04-03 | Toshiba Memory Corporation | Method of manufacturing semiconductor device |
JP2016193458A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | 株式会社東京精密 | ワーク加工装置 |
JP2017013144A (ja) * | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
CN110785834A (zh) * | 2017-06-21 | 2020-02-11 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理系统、基板处理方法以及计算机存储介质 |
WO2018235619A1 (ja) * | 2017-06-21 | 2018-12-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体 |
KR20200020799A (ko) * | 2017-06-21 | 2020-02-26 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 시스템, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 |
JPWO2018235619A1 (ja) * | 2017-06-21 | 2020-04-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体 |
TWI726218B (zh) * | 2017-06-21 | 2021-05-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板處理系統、基板處理方法及電腦記錄媒體 |
KR102450002B1 (ko) | 2017-06-21 | 2022-10-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 시스템, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 |
CN110785834B (zh) * | 2017-06-21 | 2024-04-19 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理系统、基板处理方法以及计算机存储介质 |
US11858092B2 (en) | 2017-06-21 | 2024-01-02 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing system, substrate processing method and computer-readable recording medium |
JP2019186265A (ja) * | 2018-04-03 | 2019-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JPWO2021095588A1 (ja) * | 2019-11-15 | 2021-05-20 | ||
WO2021095586A1 (ja) * | 2019-11-15 | 2021-05-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JPWO2021095586A1 (ja) * | 2019-11-15 | 2021-05-20 | ||
CN114641369A (zh) * | 2019-11-15 | 2022-06-17 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
KR20220090581A (ko) | 2019-11-15 | 2022-06-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
KR20220097497A (ko) | 2019-11-15 | 2022-07-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
JP7434352B2 (ja) | 2019-11-15 | 2024-02-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
WO2021095588A1 (ja) * | 2019-11-15 | 2021-05-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
JP7434351B2 (ja) | 2019-11-15 | 2024-02-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
US20220402087A1 (en) * | 2019-11-15 | 2022-12-22 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
CN114641369B (zh) * | 2019-11-15 | 2023-06-30 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
JP2021118300A (ja) * | 2020-01-28 | 2021-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 研削装置、及び研削方法 |
JP7394638B2 (ja) | 2020-01-28 | 2023-12-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 研削装置、及び研削方法 |
KR20220132614A (ko) | 2020-01-28 | 2022-09-30 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 접합 장치 및 접합 방법 |
WO2022113795A1 (ja) * | 2020-11-27 | 2022-06-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム及び基板処理方法 |
CN115476255B (zh) * | 2022-08-15 | 2023-09-22 | 河南博鸿新材料有限公司 | 一种金刚石复合材料抛光装置 |
CN115476255A (zh) * | 2022-08-15 | 2022-12-16 | 河南博鸿新材料有限公司 | 一种金刚石复合材料抛光装置 |
KR20240140827A (ko) | 2023-03-16 | 2024-09-24 | 가부시기가이샤 디스코 | 웨이퍼의 연삭 장치 및 연삭 방법 |
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Publication number | Publication date |
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