JP2014212298A - 積層型セラミック電子部品 - Google Patents
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Abstract
Description
(第1のめっき伸び量)/{(第1のめっき伸び量)+(第2のめっき伸び量)}
が20%以下であることを特徴としている。
図1ないし図5は、この発明の第1の実施形態による2端子型の積層セラミックコンデンサ1を説明するためのものである。積層セラミックコンデンサ1は、図3にその外観を示すような部品本体2を備えている。部品本体2は、積層された複数のセラミック層3と、セラミック層3に沿って形成された複数の電極層としての第1および第2の内部電極4および5とを備えている。これら内部電極4および5は、セラミック層3間の界面上に位置している。セラミック層3は、たとえばチタン酸バリウム系誘電体セラミックから構成される。内部電極4および5は、たとえばNiを導電成分として含む。
なお、図4および図5では、第1のめっき層20が、露出部分布領域18だけでなく、その周辺部をも覆うように形成された状態が図示されているが、露出部分布領域18上にのみ形成される場合、言い換えると、上記第1の伸び量E1が0の場合もあり得る。
平面寸法が1.0mm×0.5mmの積層セラミックコンデンサ用部品本体であって、セラミック層がチタン酸バリウム系誘電体セラミックからなり、内部電極がNiを主成分とするものを用意した。この部品本体において、内部電極間のセラミック層の各厚みは1μmであり、各内部電極の厚みは1μmであり、内部電極が配置されない各外層部の厚みは50μmであった。また、後述するめっき処理の前処理として、部品本体にはバレル研磨を施し、内部電極の露出部を確実に露出させた状態としておき、次いで、純水による洗浄工程を実施しておいた。
平面寸法が0.6mm×0.3mmの積層セラミックコンデンサ用部品本体であって、セラミック層がチタン酸バリウム系誘電体セラミックからなり、内部電極がNiを主成分とするものを用意した。この部品本体において、内部電極間のセラミック層の各厚みは1μmであり、各内部電極の厚みは0.7μmであり、内部電極が配置されない各外層部の厚みは50μmであった。
次に、図6ないし図9を参照して、この発明の第2の実施形態による3端子型の積層セラミックコンデンサ31について説明する。積層セラミックコンデンサ31は、図8にその外観を示すような部品本体32を備えている。部品本体32は、積層された複数のセラミック層33と、セラミック層33に沿って形成された複数の電極層としての第1および第2の内部電極34および35ならびに第1ないし第4の補助電極36〜39とを備えている。内部電極34および35は、セラミック層33間の界面上に位置している。他方、補助電極36〜39は、セラミック層33間の界面上に位置するものと、部品本体32の外表面上に位置して表面電極となるものとがある。
E1/(E1+E2)≦20%
の関係に選ばれなければならない。
平面寸法が1.0mm×0.5mmの積層セラミックコンデンサ用部品本体であって、セラミック層がチタン酸バリウム系誘電体セラミックからなり、内部電極がNiを主成分とするものを用意した。この部品本体において、内部電極間のセラミック層の各厚みは1μmであり、各内部電極の厚みは1μmであり、内部電極が配置されない各外層部の厚みは50μmであった。
次に、図10ないし図12を参照して、この発明の第3の実施形態による8端子型の積層セラミックコンデンサ71について説明する。積層セラミックコンデンサ71は、図12にその外観を示すような部品本体72を備えている。部品本体72は、積層された複数のセラミック層73と、セラミック層73に沿って形成された複数の電極層としての第1および第2の内部電極74および75ならびに第1ないし第8の補助電極76〜83とを備えている。内部電極74および75は、セラミック層73間の界面上に位置している。他方、補助電極76〜83は、セラミック層73間の界面上に位置するものと、部品本体72の外表面上に位置して表面電極となるものとがある。
E1/(E1+E2)≦20%
の関係が成り立つようにされる。
平面寸法が2.0mm×1.2mmの積層セラミックコンデンサ用部品本体であって、セラミック層がチタン酸バリウム系誘電体セラミックからなり、内部電極がNiを主成分とするものを用意した。この部品本体において、内部電極間のセラミック層の各厚みは1μmであり、各内部電極の厚みは1μmであり、内部電極が配置されない各外層部の厚みは50μmであった。
次に、非晶質で割れやすくなる第1のめっき層20を構成するNi−Pめっき膜のP含有率が9重量%以上の場合に本発明が好適であることを確認するために、第1の実施形態に基づく実験例1の試料2(表1)において、P含有率を変化させた場合の外部電極の剥がれの有無を調査した。P含有率は、無電解Ni−Pめっき浴の条件を変えることによって調整し、外部電極の剥がれの有無の確認方法およびE1、E2の測定方法は、実験例1の場合と同様である。
以上説明した積層セラミックコンデンサでは、セラミック層が誘電体セラミックから構成される。しかし、この発明が向けられる積層型セラミック電子部品は、積層セラミックコンデンサに限らず、たとえば、インダクタ、サーミスタ、圧電部品などを構成するものであってもよい。したがって、積層型セラミック電子部品の機能に応じて、セラミック層は、誘電体セラミックの他、磁性体セラミック、半導体セラミック、圧電体セラミックなどから構成されてもよい。
2,32,72 部品本体
3,33,73 セラミック層
4,5,34,35,74,75 内部電極(電極層)
16,17,52〜55,100〜107 外部電極
18,19,56〜59,108〜115 露出部分布領域
20,60 第1のめっき層
21,61 第2のめっき層
36〜39,76〜83 補助電極(電極層)
Claims (4)
- 積層された複数のセラミック層と前記セラミック層に沿って形成された複数の電極層とを備え、各前記電極層が所定の面に露出する露出部を有している、部品本体と、
各前記電極層の前記露出部に電気的に接続されるように、前記部品本体の前記所定の面上に形成された、外部電極と
を備え、
複数の前記電極層の前記露出部は、これらが集合することによって、前記所定の面上において、露出部分布領域を形成し、
前記外部電極は、
前記露出部分布領域を覆うように、無電解めっきにより前記所定の面上に直接形成された第1のめっき層と、
電解めっきにより前記第1のめっき層を覆うように形成された第2のめっき層と、
を含み、
前記露出部分布領域の端縁から前記第1のめっき層の端縁までの距離を第1のめっき伸び量とし、前記第1のめっき層の端縁から前記第2のめっき層の端縁までの距離を第2のめっき伸び量としたとき、
(第1のめっき伸び量)/{(第1のめっき伸び量)+(第2のめっき伸び量)}
が20%以下である、
積層型セラミック電子部品。 - 前記電極層は、前記セラミック層間の界面に沿って形成された内部電極と、前記部品本体の外表面上において前記セラミック層に沿って形成された表面電極とを含む、請求項1に記載の積層型セラミック電子部品。
- 前記第1のめっき層がNi−Pめっき膜を含み、第1のめっき層のPの含有率が9重量%〜13重量%である、請求項1または2に記載の積層型セラミック電子部品。
- 前記第2のめっき層は、複数層のめっき膜を含む、請求項1ないし3のいずれかに記載の積層型セラミック電子部品。
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