JP2014201627A - 熱硬化性シリコーン樹脂組成物、シリコーン樹脂成形体の製造方法、およびシリコーン樹脂成形体 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、また、シリコーン樹脂成形体(molded silicone resin)の製造方法および
シリコーン樹脂成形体に関する。
高硬度の樹脂成形体を得るためのもうひとつのアプローチは、軟質樹脂に無機フィラーを多量に充填する方法である。しかし、熱硬化性シリコーンに無機フィラーを多量に添加すると粘度が高くなり過ぎて、モールドが困難となる。
本発明によれば、付加硬化型の液状シリコーン樹脂、無機フィラーおよび沸点を180℃以上かつ450℃未満の範囲内に有する溶剤を含有する、モールド用の熱硬化性シリコーン樹脂組成物が提供される。
無機フィラーの含有量は、液状シリコーン樹脂100重量部に対して600重量部以上とし得る。
好ましい無機フィラーとして、球状シリカ、球状シルセスキオキサンおよびフュームド
シリカが、その他の無機フィラーとして顔料等が挙げられる。球状シリカの含有量は、例えば、液状シリコーン樹脂100重量部に対して400重量部以上とし得る。
上記の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を金型内で硬化させることにより成形体を製造することができる。好ましい態様には、インジェクションモールド法およびトランスファーモールド法が含まれる。
上記の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を用いて、光学素子および/または電子素子のための基板またはパッケージを製造することができる。
本発明によれば、また、付加硬化型の液状シリコーン樹脂、無機フィラーおよび溶剤を含有し、23℃における剪断速度120s−1での粘度が50Pa・s以上かつ1000Pa・s以下である熱硬化性シリコーン樹脂組成物を、準備する第1ステップと;該溶剤の沸点よりも低い温度に加熱した金型内で、該熱硬化性シリコーン樹脂組成物を硬化させて、成形体を得る第2ステップと;該金型から取り出した該成形体を加熱して、該成形体から該溶剤の少なくとも一部を取り除く第3ステップと;を有するシリコーン樹脂成形体の製造方法が提供される。
この溶剤は、付加型シリコーンと相溶し、かつ、付加型シリコーンとの間で反応を生じる成分を実質的に含有しないものであればよい。
この溶剤が含有する成分の95重量%以上、更には98重量%以上が、沸点を180℃以上かつ450℃未満の範囲内に有していることが好ましい。溶剤の主要成分の沸点が180℃以上であれば、第2ステップにおいて、熱硬化性シリコーン樹脂組成物の硬化が充分な速さで起こる120℃以上の温度に金型を加熱することができる。溶剤の主要成分の沸点が450℃未満であれば、第3ステップにおいて、シリコーンが劣化しない300℃未満の温度で溶剤を成形体から十分に取り除くことができる。
[1]第1実施形態
1.熱硬化性シリコーン樹脂組成物
第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂は、(A)付加硬化型の液状シリコーン樹脂、(B)無機フィラーおよび(C)炭素数12〜16の直鎖アルカンを含有する。
典型的な付加硬化型の液状シリコーン樹脂は、ビニルシリル基を含有するシリコーンと、ヒドロシリル基を含有するシリコーンと、付加反応触媒とを必須成分として含有しており、加熱するとビニルシリル基とヒドロシリル基との間で生じる付加反応により架橋構造が形成されて硬化する。
付加反応触媒としては、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属触媒が主に使用される。
(B)無機フィラーおよび(C)炭素数12〜16の直鎖アルカンを混合する前の(A)付加硬化型の液状シリコーン樹脂の23℃における粘度は、好ましくは5000mPa・s以下である。
各末端ケイ素原子にビニル基が置換されたポリジメチルシロキサンには、Gelest
Inc.のDMS−V00、DMS−V03、DMS−V05、DMS−V21、DMS−V22、DMS−V25、DMS−V31、DMS−V33、DMS−V35、DMS−V41、DMS−V42、DMS−V46、DMS−V52などがある
各末端ケイ素原子にビニル基が置換されたジメチルシロキサン−ジフェニルシロキサンコポリマーには、Gelest Inc.のPDV−0325、PDV−0331、PDV−0341、PDV−0346、PDV−0525、PDV−0541、PDV−1625、PDV−1631、PDV−1635、PDV−1641、PDV−2331、PDV−2335などがある。
各末端にトリメチルシリル基を有するビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマーには、Gelest Inc.のVDT−123、VDT−127、VDT−131、VDT−153、VDT−431、VDT−731、VDT−954などがある。
各末端に水素原子が結合したポリジメチルシロキサンには、Gelest Inc.のDMS−H03、DMS−H11、DMS−H21、DMS−H25、DMS−H31、DMS−H41などがある。
第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂組成物が含有する(B)無機フィラーの量は特に限定されないが、一例では、(A)付加硬化型の液状シリコーン樹脂100重量部に対して600重量部以上もの多量とすることができる。この量は650重量部以上、更には700重量部以上とすることができ、本発明者等が確認しているところでは750重量部程度まで増やすことができる。
平均粒径3μm以上という比較的大きな球状フィラーをのみを用いた場合、粒子間の隙間も大きくなるために、組成物が流動可能となる添加量の上限が低くなる。そこで、このような平均粒径を有する球状フィラーに加えて、該平均粒径の1/3以下の粒径を有する球状フィラーを添加することによって、フィラーの充填率を高くしてもよい。例えば、球状フィラーの粒度分布に複数のピークが生じるように、平均粒径の異なる球状フィラーを混合して用いることができる。
球状フィラーの好適例は球状シリカである。様々な製造方法で製造される球状シリカの
中でも、粉砕された原料硅石を高温の火炎中で溶融し表面張力で球状化させる方法で製造される溶融シリカが特に好ましい。溶融シリカのように平滑な表面を有する球状シリカでは、粒子径が小さくなるにつれ比表面積が大きくなる。
球状シリカの一部または全部を、同等の粒径を有する球状シルセスキオキサンで代用することが可能である。球状シルセスキオキサンとは、メチルシルセスキオキサン、フェニルシルセスキオキサン、メチルフェニルシルセスキオキサンのような(RSi3/2)nで表される3次元架橋ポリシロキサンを素材とする真球状粒子である。
フュームドシリカの添加により熱硬化性シリコーン樹脂組成物のチキソトロピー性が増強されるので、保存中に他の無機フィラーが沈降することによる組成物の不均一化を防止することができる。特に、トリメチルシリル基、ジメチルシリコーン鎖などで表面修飾した疎水性フュームドシリカを用いると、過度の増粘を引き起こすことなく、液状シリコーン組成物にチキソトロピー性を付与できる。
市販のフュームドシリカとして、日本アエロジル(株)のアエロジル(登録商標)、旭化成ワッカーシリコーン(株)のWACKER HDK(登録商標)などが好ましく例示
される。
熱硬化性シリコーン樹脂組成物には、その他の(B)無機フィラーとして、繊維状アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ダイヤモンドのような高熱伝導性フィラーや、ガラス繊維、ガラスビーズ等を添加することができる。
第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂組成物には、適度な流動性を付与する目的で、(C)炭素数12〜16の直鎖アルカンを含有させる。含有量に特に制限はなく、(A)付加硬化型の液状シリコーン樹脂100重量部に対して、例えば1重量部以上40重量部以下とすることができ、好ましくは10重量部以上35重量部以下、より好ましくは20重量部以上30重量部以下である。
しかも、直鎖アルカンのような鎖状飽和炭化水素の添加は、熱硬化性シリコーン樹脂組成物の高せん断速度における粘度を低下させるが、低せん断速度における粘度に対する影響は小さいので、熱硬化性シリコーン樹脂組成物の保存中に無機フィラーが沈降して組成が不均一となる問題を発生させない。
第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂組成物には、発明の効果を著しく損わない限りで、上記(A)〜(C)以外の成分を含有させることができる。
例えば、硬化遅延剤、硬化促進剤、酸化防止剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、増粘剤、シランカップリング剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、滑剤などである。
第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂組成物の、23℃における剪断速度120s−1での粘度は、通常50Pa・s以上、好ましくは100Pa・s以上であり、また、通常1000Pa・s以下、好ましくは500Pa・s以下である。粘度が高過ぎる場合には、成形キャビティへの充填が不十分となる問題(ショートモールド)や、インジェクションモールドの場合には金型までの材料供給に長時間を要するといった問題が発生する。粘度が低過ぎる場合には成形体にバリが発生するために、バリ取り加工が必要となっ
て生産効率が低下する。
第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂組成物の、23℃における剪断速度6s−1での粘度は、通常1000Pa・s以上であり、また、インジェクションモールド用では通常4000Pa・s以下、好ましくは3000Pa・s以下であり、トランスファーモールド用では通常8000Pa・以下、好ましくは6000Pa・s以下である。インジェクションモールドの場合、低剪断速度における粘度の高過ぎる原料樹脂組成物は、原料容器から金型までの輸送が困難となる。
第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂組成物を原料に用いた成形体の製造は、トランスファーモールド、インジェクションモールド、コンプレッションモールドなどの方法で行うことができる。
トランスファーモールド法では、金型温度が好ましくは120℃以上、200℃未満であり、成形時間は好ましくは10秒以上、600秒未満である。
コンプレッションモールド法では、金型温度が好ましくは120℃以上、200℃未満であり、成形時間は好ましくは10秒以上、600秒未満である。
ポストキュア時間は通常3分以上24時間未満、好ましくは5分以上10時間未満、より好ましくは10分以上5時間未満である。
図1は、一般的なSMD型LED(チップLEDともいう)の構造を概略的に示す断面図である。SMD型LED100は、リードフレーム11とリフレクタ12とから構成されたパッケージ10を備える。リフレクタ12はインサート成形によってリードフレーム11と一体化された樹脂成形体である。パッケージ10のキャビティには発光ダイオード素子20が搭載され、ボンディングワイヤ30でリードフレーム11と接続されるとともに、透明樹脂40で封止されている。
第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂を用いて、SMD型LED100で使用されているパッケージ10を製造することができる。具体的には、リフレクタ12の材料として、第1実施形態に係る熱硬化性シリコーン樹脂を用いることができる。
本発明の実施形態には、下記に例示するものが含まれる。
(a1)付加硬化型の液状シリコーン樹脂、無機フィラーおよび沸点を180℃以上かつ450℃未満の範囲内に有する溶剤を含有する、モールド用の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(a2)上記溶剤として飽和炭化水素を含む、上記(a1)に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
600重量部以上である、上記(a1)または(a2)に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(a4)上記無機フィラーが球状フィラーを含む、上記(a3)に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(a6)上記球状フィラーが溶融球状シリカを含む、上記(a4)または(a5)に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(a7)23℃におけるせん断速度120sec−1での粘度が50Pa・s以上かつ1000Pa・s以下である、上記(a3)〜(a6)のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(a9)上記無機フィラーが更に顔料を含む、上記(a1)〜(a8)のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(b2)付加硬化型の液状シリコーン樹脂、球状無機フィラーおよび沸点を180℃以上かつ450℃未満の範囲内に有する溶剤を含有し、該球状無機フィラーの粒度分布に複数のピークが存在する、モールド用の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(b4)23℃におけるせん断速度120sec−1での粘度が50Pa・s以上かつ1000Pa・s以下である、上記(b1)〜(b3)のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(b6)更に顔料を含む、上記(b1)〜(b5)のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(c2)上記硬化させる工程で得た成形体を、上記金型から取り出したうえで、上記溶剤を除去するために加熱する工程を有する、上記(c1)に記載の製造方法。
(c4)上記(a1)〜(a9)および(b1)〜(b5)のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を用いる、光学素子および/または電子素子のための基板または
パッケージの製造方法。
(d2)更にフュームドシリカを含む、上記(d1)に記載のシリコーン樹脂成形体。
(d3)エラストマー型シリコーン樹脂および球状無機フィラーを含有し、室温における線膨張率が80ppm(K−1)以下であるシリコーン樹脂成形体。
(d5)上記(d1)〜(d4)のいずれかに記載のシリコーン樹脂成形体を備える、光学素子および/または電子素子のための基板またはパッケージ。
(e1)付加硬化型の液状シリコーン樹脂、無機フィラーおよび溶剤を含有し、23℃における剪断速度120s−1での粘度が50Pa・s以上かつ1000Pa・s以下である熱硬化性シリコーン樹脂組成物を、準備する第1ステップと;該溶剤の沸点よりも低い温度に加熱した金型内で、該熱硬化性シリコーン樹脂組成物を硬化させて、成形体を得る第2ステップと;該金型から取り出した該成形体を加熱して、該成形体から該溶剤の少なくとも一部を取り除く第3ステップと;を有するシリコーン樹脂成形体の製造方法
(e2)上記第1ステップで準備する熱硬化性シリコーン樹脂組成物の23℃におけるせん断速度6sec−1での粘度が1000Pa・s以上かつ4000Pa・s以下である、上記(e1)に記載の製造方法。
(e4)上記第2ステップでは、金型を120℃以上かつ200℃未満の温度に加熱する、上記(e1)〜(e3)のいずれかに記載の製造方法。
(e5)上記第3ステップでは、上記成形体を100℃以上かつ300℃未満の温度に加熱する、上記(e1)〜(e4)のいずれかに記載の製造方法。
1.材料
付加硬化型の液状シリコーン樹脂には、有効量の白金錯体触媒を含むビニル基含有ポリジメチルシロキサン(ビニル基:0.25mmol/g、粘度5000mPa・s)と、硬化遅延剤としてアルキニル基を有する化合物を含有するビニル基含有ポリジメチルシロキサン(ビニル基:0.18mmol/g、アルキニル基:0.35mmol/g、粘度1000mPa・s)と、ヒドロシリル基含有ポリジメチルシロキサン(ヒドロシリル基:4.24mmol/g含有、粘度40mPa)を、重量比で100:1.1:11.1の割合で混合したものを用いた。
無機フィラーには、平均粒子径(d50)が4.6μmの溶融球状シリカと、平均粒子径(d50)が0.5μmの溶融球状シリカと、比表面積:140m2/gのフュームドシリカ[日本アエロジル(株)製AEROSIL RX200]と、平均粒子径(d50)が0.25μmで表面にシリカとアルミナの薄膜コートが施された純度90%のルチル型チタニアを用いた。
:300℃以上]を用いた。
2.熱硬化性シリコーン樹脂組成物の調製
上記材料を用いて表1に組成を示す実施例1〜4、比較例1および比較例2の熱硬化性シリコーン樹脂組成物の調製を試みた。
比較例2では、比較例1と同じ手順にて熱硬化性シリコーン樹脂組成物の調製を試みたが、バインダーが不足した状態となり、ペースト状の混合物を得ることができなかった。
実施例1〜4および比較例1の熱硬化性シリコーン樹脂組成物の粘度を、キャピラリーレオメーター[(株)東洋精機製作所製Capilograph−E 3B]を用いて測定した結果を表2に示す。測定温度は23℃である。
次いで、熱プレス機を用いて、実施例1〜4および比較例1の熱硬化性シリコーン樹脂組成物のそれぞれから直径13mm厚さ3mmの円板状成形体を作製した。成形温度は150℃、成形圧力は30kg/cm2、成形時間は30秒間とした。更に、得られた成形体に対して200℃の恒温器中で1時間の加熱処理を施した。この加熱処理によって成形体に含まれる溶剤が除去されたことは、加熱中の成形体の重量変化をモニターすることに
より確認することができた。
結果を表3に示す。
銀メッキされた銅製リードフレームとリフレクタとをインサートモールディングにより一体化させてなるSMD型のLED用パッケージを、実施例2および比較例1の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を用いて作製した。リフレクタ寸法は縦3.2mm×横2.7mm×高さ1.4mmとし、キャビティ直径(開口部における直径)は2.4mmとした。
以下では、実施例2の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を用いた例を実施例5と呼び、比較例1の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を用いた例を比較例3と呼ぶものとする。
実施例5では、モールド条件を金型温度:150℃、硬化時間:180秒とし、更に、金型から取り出した成形体(リフレクタ)を200℃のオーブン中で1時間加熱してn−ヘキサデカンを除去した。比較例3では、モールド条件を金型温度:200℃、硬化時間:20秒とした。
完成した実施例5のパッケージには、バリもショートモールドも観察されなかった。
その結果、実施例5のパッケージでは半田付け後の直径が1718ミクロンで、半田付け前の直径1716ミクロンに対して約0.1%長くなっていた。それに対して、比較例3のパッケージでは半田付け後の直径が1763ミクロンで、半田付け前の直径1742ミクロンに対して約1%長くなっていた。
また、比較例3のパッケージでは、ハンダ付け後に、キャビティ底面においてリードフレームとリフレクタとの間に僅かな隙間が生じていることが観察されたが、実施例5のパッケージではそのような隙間は生じなかった。
11 リードフレーム
12 リフレクタ
20 発光ダイオード素子
30 ボンディングワイヤ
40 透明樹脂
100 SMD型LED(チップLED)
Claims (29)
- 付加硬化型の液状シリコーン樹脂、無機フィラーおよび沸点を180℃以上かつ450℃未満の範囲内に有する溶剤を含有する、モールド用の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 上記溶剤として飽和炭化水素を含有する、請求項1に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 上記無機フィラーの含有量が、上記液状シリコーン樹脂100重量部に対して600重量部以上である、請求項1または2に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 上記無機フィラーが球状フィラーを含む、請求項3に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 上記球状フィラーの粒度分布に複数のピークが存在する、請求項4に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 上記球状フィラーが溶融球状シリカを含む、請求項4または5に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 23℃におけるせん断速度120sec−1での粘度が50Pa・s以上かつ1000Pa・s以下である、請求項3〜6のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 上記無機フィラーが更にフュームドシリカを含み、23℃におけるせん断速度6sec−1での粘度が1000Pa・s以上かつ4000Pa・s以下である、請求項1〜7のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 上記無機フィラーが更に顔料を含む、請求項1〜8のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 付加硬化型の液状シリコーン樹脂、球状無機フィラーおよび沸点を180℃以上かつ450℃未満の範囲内に有する溶剤を含有し、該球状無機フィラーの含有量が該液状シリコーン樹脂100重量部に対して400重量部以上である、モールド用の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 付加硬化型の液状シリコーン樹脂、球状無機フィラーおよび沸点を180℃以上かつ450℃未満の範囲内に有する溶剤を含有し、該球状無機フィラーの粒度分布に複数のピークが存在する、モールド用の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 上記溶剤として飽和炭化水素を含有する、請求項10または11に記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 23℃におけるせん断速度120sec−1での粘度が50Pa・以上かつ1000Pa・s以下である、請求項10〜12のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 更にフュームドシリカを含み、23℃におけるせん断速度6sec−1での粘度が1000Pa・s以上かつ4000Pa・s以下である、請求項10〜13のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 更に顔料を含む、請求項10〜14のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
- 請求項1〜15のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を金型内で加熱して硬化させる工程を含む、シリコーン樹脂成形体の製造方法。
- 上記硬化させる工程で得た成形体を、上記金型から取り出したうえで、上記溶剤を除去するために加熱する工程を有する、請求項16に記載の製造方法。
- シリコーン樹脂成形体を備える光学素子および/または電子素子のための基板またはパッケージの製造方法であって、該シリコーン樹脂成形体を請求項16または17に記載の製造方法を用いて製造する、基板またはパッケージの製造方法。
- 請求項1〜15のいずれかに記載の熱硬化性シリコーン樹脂組成物を用いる、光学素子および/または電子素子のための基板またはパッケージの製造方法。
- シリコーン樹脂および球状無機フィラーを含有し、該球状無機フィラーの含有量が該シリコーン樹脂100重量部に対して400重量部以上であり、かつ、該球状無機フィラーの粒度分布に複数のピークが存在する、シリコーン樹脂成形体。
- 更にフュームドシリカを含む、請求項20に記載のシリコーン樹脂成形体。
- エラストマー型シリコーン樹脂および球状無機フィラーを含有し、室温における線膨張率が80ppm(K−1)以下であるシリコーン樹脂成形体。
- 上記エラストマー型シリコーン樹脂がジメチルシリコーン鎖を含む、請求項22に記載のシリコーン樹脂成形体。
- 請求項20〜23のいずれかに記載のシリコーン樹脂成形体を備える、光学素子および/または電子素子のための基板またはパッケージ。
- 付加硬化型の液状シリコーン樹脂、無機フィラーおよび溶剤を含有し、23℃における剪断速度120s−1での粘度が50Pa・s以上かつ1000Pa・s以下である熱硬化性シリコーン樹脂組成物を、準備する第1ステップと;
該溶剤の沸点よりも低い温度に加熱した金型内で、該熱硬化性シリコーン樹脂組成物を硬化させて、成形体を得る第2ステップと;
該金型から取り出した該成形体を加熱して、該成形体から該溶剤の少なくとも一部を取り除く第3ステップと;
を有するシリコーン樹脂成形体の製造方法。 - 上記第1ステップで準備する熱硬化性シリコーン樹脂組成物の23℃におけるせん断速度6sec−1での粘度が1000Pa・以上かつ4000Pa・s以下である、請求項25に記載の製造方法。
- 上記溶剤が含有する成分の95重量%以上が、沸点を180℃以上かつ450℃未満の範囲内に有する、請求項25または26に記載の製造方法。
- 上記第2ステップでは、金型を120℃以上かつ200℃未満の温度に加熱する、請求項25〜27のいずれか一項に記載の製造方法。
- 上記第3ステップでは、上記成形体を100℃以上かつ300℃未満の温度に加熱する、請求項25〜28のいずれか一項に記載の製造方法。
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