JP2014192230A - 基板収納容器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】開口が設けられる容器本体内に支持部材に支持させて複数の半導体ウェハを収納させ、容器本体の後部の内側面に形成された前記支持部材の前記開口の奥行側に設けられた奥行側支持部と、前記開口を塞ぐ蓋体のフロントリテーナとで、各半導体ウェハを係止させる基板収納容器であって、前記支持部材は、前記開口側の前記基板に対する静止摩擦係数が前記開口の奥行側支持部の前記基板に対する静止摩擦係数よりも小さく形成されている。
【選択図】図6
Description
(1)本発明の基板収納容器は、側面の一部に開口を有する容器本体と、前記開口を閉塞させる蓋体と、を備え、前記容器本体の前記開口の両側の内側壁に前記開口側から奥行側に延在されて設けられ、垂直方向に並設される複数の各基板を水平状態で載置する支持部材と、前記各基板を係止可能な前記支持部材の前記開口の奥行側に設けられた奥行側支持部と、前記蓋体の裏面に設けられ、前記蓋体が前記開口を閉塞させた際に、前記奥行側支持部とともに前記支持部材から持ち上げるように前記各基板を係止させるフロントリテーナと、を有し、前記支持部材は、前記開口側の前記基板に対する静止摩擦係数が前記開口の奥行側支持部の前記基板に対する静止摩擦係数よりも小さく形成されていることを特徴とする。
(2)本発明の基板収納容器は、(1)の構成において、前記支持部材の前記開口側の前記基板に対する静止摩擦係数および前記開口の奥行側支持部の前記基板に対する静止摩擦係数は、それぞれ、前記支持部材の表面に形成されたシボ加工の粗さによって設定されていることを特徴とする。
(3)本発明の基板収納容器は、(2)の構成において、 前記支持部材の前記開口側のシボ加工の粗さは、0.5〜3μmの範囲に設定され、前記開口の奥行側支持部のシボ加工の粗さは、2〜10μmの範囲に設定されていることを特徴とする。
(4)本発明の基板収納容器は、(1)の構成において、前記支持部材の前記開口側の端面は面取りがなされた曲面となっていることを特徴とする。
(5)本発明の基板収納容器は、(2)の構成において、前記支持部材の前記開口の奥行側支持部は奥行方向に高さが大きくなる傾斜部を有し、前記傾斜部にシボ加工がなされていることを特徴とする。
(6)本発明の基板収納容器は、(5)の構成において、シボ加工の粗さは前記傾斜部の高さによって異なっていることを特徴とする。
(7)本発明の基板収納容器は、(1)の構成において、前記容器本体の前記開口から奥行方向の内側壁に設けられ、前記各基板を係止可能なリアリテーナを有したことを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。
(実施形態1)
図1は、本発明の基板収納容器の全体の構成を示す斜視図である。なお、図1に示す基板収納容器100は横置きの状態で示したものとなっている。図1において、基板収納容器100は、容器本体10と、容器本体10に対して着脱される蓋体30と、から構成されている。
なお、図3は、容器本体10をその開口11が上方になるように傾けた場合を示した図である。容器本体10に半導体ウェハWが収納され蓋体30が装着された基板収納容器100は、その搬送の段階で、図3に示すように傾けられた状態で搬送される場合がある。
の容器本体10側の面には、半導体ウェハWに接触する上述したフロントリテーナ32が設置され、このフロントリテーナ32により半導体ウェハWの容器本体10の開口11の方向への移動と、半導体ウェハWにおける周方向への移動とを規制し、半導体ウェハWを保持するようになっている。
上述した実施形態において、奥行側支持部の替わりにリアリテーナを設けてもよい。その際の形態は、以下の通りである。
上述した2つの実施形態では、半導体ウェハWを収納する基板収納容器100について説明したものである。しかし、これに限定されることはなく、たとえばマスクガラス等の他の基板を収納する基板収納装置等にも適用できることはいうまでもない。
Claims (7)
- 側面の一部に開口を有する容器本体と、
前記開口を閉塞させる蓋体と、を備え、
前記容器本体の前記開口の両側の内側壁に前記開口側から奥行側に延在されて設けられ、垂直方向に並設される複数の各基板を水平状態で載置する支持部材と、
前記容器本体の前記開口から奥行方向の内側壁に設けられ、前記各基板を係止可能な前記支持部材の前記開口の奥行側に設けられた奥行側支持部と、
前記蓋体の裏面に設けられ、前記蓋体が前記開口を閉塞させた際に、前記奥行側支持部とともに前記支持部材から持ち上げるように前記各基板を係止させるフロントリテーナと、を有し、
前記支持部材は、前記開口側の前記基板に対する静止摩擦係数が前記開口の奥行側支持部の前記基板に対する静止摩擦係数よりも小さく形成されていることを特徴とする基板収納容器。 - 前記支持部材の前記開口側の前記基板に対する静止摩擦係数および前記開口の奥行側支持部の前記基板に対する静止摩擦係数は、それぞれ、前記支持部材の表面に形成されたシボ加工の粗さによって設定されていることを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。
- 前記支持部材の前記開口側のシボ加工の粗さは、0.5〜3μmの範囲に設定され、前記開口の奥行側支持部のシボ加工の粗さは、2〜10μmの範囲に設定されていることを特徴とする請求項2に記載の基板収納容器。
- 前記支持部材の前記開口側の端面は面取りがなされた曲面となっていることを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。
- 前記支持部材の前記開口の奥行側支持部は奥行方向に高さが大きくなる傾斜部を有し、前記傾斜部にシボ加工がなされていることを特徴とする請求項2に記載の基板収納容器。
- シボ加工の粗さは前記傾斜部の高さによって異なっていることを特徴とする請求項5に記載の基板収納容器。
- 前記容器本体の前記開口から奥行方向の内側壁に設けられ、前記各基板を係止可能なリアリテーナを有したことを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。
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