JP2014177121A - ガスバリアフィルム積層体、その製造方法、および電子デバイス - Google Patents

Abstract

【課題】高い水蒸気バリア性を有し、高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、気泡などの外観不良が発生しにくいガスバリアフィルム積層体、このガスバリアフィルム積層体の製造方法、及びこのガスバリア積層体を備える電子部材を提供する。
【解決手段】少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、接着剤層を介して積層されてなり、前記接着剤層が、エネルギー線硬化型接着剤組成物を用いて形成された接着剤組成物層に、エネルギー線を照射することにより硬化させて作製されたものであることを特徴とするガスバリアフィルム積層体、その製造方法、及び、このガスバリア積層体を備える電子部材。
【選択図】なし

Description

本発明は、少なくとも２枚のガスバリアフィルムが、接着剤層を介して積層された積層構造を有する、ガスバリア性に優れたガスバリアフィルム積層体、その製造方法、及び前記ガスバリアフィルム積層体を備える電子デバイスに関する。

近年、太陽電池や液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等の電子デバイス用の基板として、薄型化や軽量化、フレキシブル化、耐衝撃性等を実現するために、ガラス板に代えて透明プラスチックフィルムを用いることが検討されている。
例えば、特許文献１には、第１の透明プラスチックフィルム基材の上に透明ガスバリア層が形成され、前記透明ガスバリア層の上に透明接着剤層を介して、第２の透明プラスチックフィルム基材が配置されている透明フィルムが開示されている。また、特許文献２には、アクリル系接着剤を用いて、ガスバリアフィルム同士を貼り合わせた透明ガスバリア積層フィルムが開示されている。

しかしながら、このように接着剤層を介してガスバリアフィルム同士を貼り合せた積層体は、高温及び高湿度下に長時間置いた場合に、積層体内で気泡が生成することがあった。

特開２００６−３２７０９８号公報 ＷＯ０４／１０１２７６号公報

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、高いガスバリア性を有し、かつ、高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、積層体内に気泡等が生成しにくく、外観不良が発生しにくいガスバリアフィルム積層体、このガスバリアフィルム積層体の製造方法、及び、前記ガスバリアフィルム積層体を備える電子デバイスを提供することを目的とする。

上述した積層体内で気泡が生成する現象は、積層体を高温及び高湿度下に長時間置いた場合に、ガスバリアフィルムに用いられる基材の側面や、基材と接着剤層の界面、あるいはガスバリア層と基材の界面などから浸透した水分に起因すると考えられる。積層体内に気泡等が生成すると、外観不良の原因となる。
本発明者らは、上記課題を解決すべく、接着剤層を介してガスバリアフィルム同士を貼り合せた積層体について鋭意検討した。その結果、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルム同士を、エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成された接着剤組成物層を介して貼合した後、該接着剤組成物層にエネルギー線を照射して、前記接着剤組成物層を硬化させて得られるガスバリアフィルム積層体は、高いガスバリア性を有し、かつ、高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、ガスバリアフィルム同士を確実に接着・固定し、積層体内に気泡などが生成しにくく、外観不良が発生しにくいことを見出し、本発明を完成させるに至った。

かくして本発明によれば、（１）〜（９）のガスバリアフィルム積層体、（１０）のガスバリアフィルム積層体の製造方法、及び、（１１）の電子デバイスが提供される。
（１）少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、接着剤層を介して積層されてなり、
前記接着剤層が、エネルギー線硬化型接着剤組成物を用いて形成された接着剤組成物層に、エネルギー線を照射することにより硬化させて作製されたものであることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。
（２）少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムを、エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成された接着剤組成物層を介して貼合した後、該接着剤組成物層にエネルギー線を照射して、前記接着剤組成物層を硬化させて得られたものであることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。

（３）前記接着剤層が、６０℃における貯蔵弾性率が１×１０^７〜１×１０^９Ｐａのものであることを特徴とする、（１）又は（２）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（４）前記エネルギー線硬化型接着剤組成物が、エネルギー線硬化性を有しない重合体とエネルギー線硬化型化合物との混合物、又は、エネルギー線硬化性の不飽和基を有する重合体を主成分とするものであることを特徴とする、（１）又は（２）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（５）前記エネルギー線硬化性を有しない重合体が、（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であり、前記エネルギー線硬化性の不飽和基を有する重合体が、側鎖にエネルギー線硬化性の不飽和基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体であることを特徴とする、（４）に記載のガスバリアフィルム積層体。

（６）前記（メタ）アクリル酸エステル系共重合体が、カルボキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であることを特徴とする、（５）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（７）前記ガスバリアフィルムの水蒸気透過率が、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、０．５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることを特徴とする、（１）又は（２）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（８）前記ガスバリアフィルムが、合成樹脂からなる基材フィルム上に、少なくとも１層のガスバリア層を有するものであることを特徴とする、（１）又は（２）に記載のガスバリアフィルム積層体。
（９）隣接する２枚のガスバリアフィルムの少なくとも一方が、前記接着剤層と、基材側で接するように積層されていることを特徴とする、（８）に記載のガスバリアフィルム積層体。

（１０）（１）〜（９）のいずれかに記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムを、エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成された接着剤組成物層を介して貼合した後、該接着剤組成物層にエネルギー線を照射して、前記接着剤組成物層を硬化させる工程を有することを特徴とする、ガスバリアフィルム積層体の製造方法。
（１１）（１）〜（９）に記載のガスバリアフィルム積層体を備える電子デバイス

本発明のガスバリアフィルム積層体は、高いガスバリア性を有し、かつ、高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、積層体内に気泡等が生成しにくく、外観不良が発生しにくいものである。
本発明のガスバリアフィルム積層体の製造方法によれば、本発明のガスバリアフィルム積層体を簡便に、かつ効率よく製造することができる。
本発明のガスバリアフィルム積層体は、太陽電池や、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等の電子デバイスに好適に用いることができる。

本発明のガスバリアフィルム積層体の層構成図である。 本発明のガスバリアフィルム積層体を用いる有機ＥＬデバイスの模式図である。

以下、本発明を、１）ガスバリアフィルム積層体、２）ガスバリアフィルム積層体の製造方法、及び、３）電子デバイス、に項分けして詳細に説明する。

１）ガスバリアフィルム積層体
本発明のガスバリアフィルム積層体は、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、接着剤層を介して積層されてなり、前記接着剤層が、エネルギー線硬化型接着剤組成物を用いて形成された接着剤組成物層に、エネルギー線を照射することにより硬化させて作製されたものである（積層体Ａ）か、少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムを、エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成された接着剤組成物層を介して貼合した後、該接着剤組成物層にエネルギー線を照射して、前記接着剤組成物層を硬化させて得られたもの(積層体Ｂ)である。本発明においては、積層体Ａは積層体Ｂであることが好ましい。

（ガスバリアフィルム）
本発明に用いるガスバリアフィルムは、酸素や水蒸気の透過を抑制する特性（以下、「ガスバリア性」という）を有するフィルムである。
用いるガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、通常１．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、好ましくは０．５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、さらに好ましくは０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である。
水蒸気透過率の下限値については特に制限はなく、小さいほど好ましいが、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、通常、０．００００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上である。
このようなガスバリアフィルムを用いることで、ガスバリア性に優れるガスバリアフィルム積層体を得ることができる。
なお、水蒸気透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。

本発明に用いるガスバリアフィルムは、その材質等や層構成に特に限定されないが、ガスバリア性に優れることから、合成樹脂からなる基材フィルム（以下、「基材フィルム」又は「基材」と略記することがある。）と、該基材フィルム上に設けられた少なくとも１層のガスバリア層を有するものが好ましい。

ガスバリアフィルムの厚みは、特に制限されないが、通常２０ｎｍから１００μｍ、好ましくは３０ｎｍ〜１０００ｎｍである。

（基材フィルム）
基材フィルムを構成する合成樹脂は、特に限定されない。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ポリスチレン等のスチレン系樹脂；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂；ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６等）、ポリｍ−フェニレンイソフタルアミド、ポリｐ−フェニレンテレフタルアミド等のアミド系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等のポリエステル系樹脂；ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等のシクロオレフィン系ポリマー；塩化ビニル；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリフェニレンエーテル；ポリエーテルケトン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリカーボネート；ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン等のポリサルフォン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド；及びこれらの高分子の二種以上の組合せ；等が挙げられる。また、基材は、上述の合成樹脂に重合性不飽和結合を１つ以上有する紫外線硬化型物モノマーを含有する紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させてなる硬化フィルムであってもよい。

これらの中でも、透明性に優れ、汎用性があることから、ポリエステル系樹脂、ポリサルフォン系樹脂、アミド系樹脂が好ましく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアミドがより好ましい。
また用いる基材フィルムは、未延伸フィルムであっても、縦又は横等の一軸方向あるいは二軸方向に延伸された延伸フィルムであってもよい。
用いる基材フィルムは、本発明の目的を阻害しない範囲で、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、難燃剤、紫外線吸収剤、着色剤、充てん剤、顔料、帯電防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。また、エネルギー線硬化型化合物を含んでいてもよい。

基材フィルムの厚みは、特に限定されないが、通常０．１〜１０００μｍ、好ましくは５〜２００μｍの範囲である。

（ガスバリア層）
ガスバリア層は、ガスバリア性を有する層である。ガスバリア層は単層であっても、複数の層が積層されたものであってもよい。

ガスバリア層を形成する材料としては、例えば、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、スズ等の金属；酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物；窒化珪素等の無機窒化物；無機炭化物；無機硫化物；これらの複合体である無機酸化窒化物；無機酸化炭化物；無機窒化炭化物；無機酸化窒化炭化物；高分子化合物；等が挙げられる。また、ガスバリア層は、ケイ素含有高分子化合物から形成される層（以下、「ケイ素含有高分子層」ということがある。）にプラズマ処理を施すことにより形成される層、ケイ素含有高分子層にイオンを注入して得られる層であってもよい。
これらは１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、透明で水蒸気透過率が低いガスバリアフィルムが得られるという点から、無機酸化物、無機窒化物又は金属を原料とする無機蒸着膜；ケイ素含有高分子層にイオンを注入して得られる層；であることが好ましく、ケイ素含有高分子層にイオンを注入して得られる層がより好ましい。

ガスバリア層を形成する方法としては、特に限定されず、例えば、（ｉ）上述の材料を、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等により基材上に蒸着等させて形成する方法、（ｉｉ）上記材料を有機溶剤に溶解又は分散した溶液を、公知の塗布方法によって基材上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法、（ｉｉｉ）ケイ素含有高分子化合物から形成される層（以下、「ケイ素含有高分子層」ということがある。）に、プラズマ処理を施すことにより形成する方法、及び、（ｉｖ）ケイ素含有高分子層にイオンを注入して形成する方法、等が挙げられる。これらの中でも，透明で水蒸気透過率の低いガスバリアフィルムが容易に得られるという観点から、（ｉｖ）の方法が特に好ましい。

ケイ素含有高分子化合物としては、有機化合物であっても無機化合物であってもよい。例えば、ポリオルガノシロキサン系化合物、ポリカルボシラン系化合物、ポリジメチルシラン等のポリシラン系化合物；ペルヒドロポリシラザン等のポリシラザン系化合物；等が挙げられる。
また、ケイ素含有高分子化合物は、コーティング剤として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。

ケイ素含有高分子層は、上述したケイ素含有高分子化合物の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含有してもよい。他の成分としては、硬化剤、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等が挙げられる。
ケイ素含有高分子層中のケイ素含有高分子化合物の含有量は、より優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。
ケイ素含有高分子層の厚みは、特に制限されないが、通常２０ｎｍから１０μｍ、好ましくは３０〜５００ｎｍ、より好ましくは４０〜２００ｎｍである。

ケイ素含有高分子層を形成する方法としては、特に限定されず、例えば、ケイ素含有高分子化合物の少なくとも一種、及び溶剤等を含有するケイ素含有高分子層形成用溶液を、スピンコーター、ナイフコーター、グラビアコーター等の公知の塗布方法によって基材上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。

ケイ素含有高分子層形成用溶液は、本発明の目的を阻害しない範囲で、硬化剤、他の高分子、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等の他の成分を含んでいてもよい。
得られた塗膜は、フィルムのガスバリア性向上のため、加熱・乾燥することが好ましい。加熱・乾燥方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法を採用することができる。
加熱温度は、通常、８０〜１５０℃であり、加熱時間は、通常、数十秒から数十分である。

得られたケイ素含有高分子層に注入されるイオンとしては、特に限定されず、目的とするガスバリア性や透明性の程度に応じて適宜決定すればよい。具体的には、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオン；フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン；メタン、エタン等のアルカン系ガス類のイオン；エチレン、プロピレン等のアルケン系ガス類のイオン；ペンタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン；アセチレン等のアルキン系ガス類のイオン；ベンゼン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン；シクロプロパン等のシクロアルカン系ガス類のイオン；シクロペンテン等のシクロアルケン系ガス類のイオン；金等の導電性の金属のイオン；テトラメトキシシラン等の有機ケイ素化合物のイオン；等が挙げられる。
これらのイオンは、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらの中でも、より簡便に注入することができ、特に優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、及びクリプトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のイオンが好ましい。

イオンを注入する方法としては、特に限定されない。例えば、イオンビームを照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法（プラズマイオン注入法）等が挙げられる。なかでも、本発明においては、簡便にガスバリアフィルムが得られることから、後者のプラズマイオン注入法が好ましい。

プラズマイオン注入法としては、特に限定されない。例えば、（Ａ）外部電界を用いて発生させたプラズマ中に存在するイオンを、ケイ素含有高分子層の表面部に注入する方法や、（Ｂ）外部電界を用いることなく、前記ケイ素含有高分子層に印加する負の高電圧パルスによる電界のみで発生させたプラズマ中に存在するイオンを、ケイ素含有高分子層の表面部に注入する等が挙げられる。

前記（Ａ）の方法においては、イオン注入する際の圧力を０．０１〜１Ｐａとすることが好ましい。イオン注入時の圧力がこのような範囲であれば、簡便にかつ効率よく均一にイオンを注入することができ、目的とするガスバリア層を効率よく形成することができる。

前記（Ｂ）の方法は、減圧度を高くする必要がなく、処理操作が簡便であり、処理時間が大幅に短縮されるものである。また、ケイ素含有高分子層全体にわたって均一に処理することができ、負の高電圧パルス印加時に、プラズマ中のイオンを高エネルギーでケイ素含有高分子層の表面部に連続的に注入することができる。
また、（Ｂ）の方法は、ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ（高周波、以下、「ＲＦ」と略す。）や、マイクロ波等の高周波電力源等の特別の他の手段を要することなく、高分子層に負の高電圧パルスを印加するだけで、ケイ素含有高分子層の表面部に良質のイオン注入層を均一に形成することができ、生産性に優れるため、（Ａ）の方法より好ましい。

前記（Ａ）及び（Ｂ）のいずれの方法においても、負の高電圧パルスを印加するときのパルス幅は、１〜１５μｓｅｃであるのが好ましい。パルス幅がこのような範囲にあるときに、より簡便にかつ効率よく、均一にイオンを注入することができる。

また、プラズマを発生させるときの印加電圧は、好ましくは−１〜−５０ｋＶ、より好ましくは−１〜−３０ｋＶ、特に好ましくは−５〜−２０ｋＶである。印加電圧が−１ｋＶより大きい値でイオン注入を行うと、イオン注入量（ドーズ量）が不十分となり、所望の性能が得られない。一方、−５０ｋＶより小さい値でイオン注入を行うと、イオン注入時にフィルムが帯電し、またフィルムへの着色等の不具合が生じ、好ましくない。

ケイ素含有高分子層にプラズマ中のイオンを注入する際に用いるイオン注入装置としては、特に限定されず、公知のプラズマイオン注入装置を用いることができる。

イオン注入により、イオンが注入される領域の厚みは、イオンの種類や印加電圧、処理時間等の注入条件により制御することができ、ケイ素含有高分子層の厚み、積層体の使用目的等に応じて決定すればよいが、通常、５〜４００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍである。

（接着剤層）
本発明の積層体を構成する接着剤層は、後述するエネルギー線硬化型接着剤組成物から形成された接着剤組成物層に、エネルギー線を照射することにより硬化させて作製(形成)されたものである。エネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線等が挙げられる。
本発明の積層体を構成する接着剤層は、高温及び高湿度条件下でも、ガスバリアフィルム同士を確実に接着・固定し、ガスバリアフィルム積層体内に気泡等が生成することを効果的に抑制する。従って、本発明の積層体は、外観不良が発生しにくいガスバリアフィルム積層体である。

エネルギー線硬化型接着剤組成物としては、エネルギー線の照射により硬化されてガスバリアフィルム同士を接着することができる接着剤層を形成可能なものであれば特に制約はない。なかでも、本発明の目的がより達成されやすい観点から、（Ａ）エネルギー線硬化性を有しない重合体（ｘ）と、エネルギー線硬化型化合物（ｙ）との混合物を主成分とするもの、又は、（Ｂ）エネルギー線硬化性の不飽和基を有する重合体（ｚ）を主成分とするもの、のいずれかであるのが好ましい。

エネルギー線硬化型接着剤組成物として、エネルギー線硬化性を有しない重合体（ｘ）や、エネルギー線硬化性の不飽和基を有する重合体（ｚ）等のポリマー成分を含有するものを用いることで、十分な造膜性が得られ、また、得られるガスバリア積層体のフレキシブル性を向上させることができる。

（Ａ）エネルギー線硬化型接着剤組成物
前記（Ａ）のエネルギー線硬化型接着剤組成物に用いるエネルギー線硬化性を有しない重合体（ｘ）としては、（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体、天然ゴム、変性天然ゴム、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、本発明の目的をより達成しやすいことから、（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体が好ましい。ここで、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸又はメタクリル酸を表し、「（共）重合体」は、単独重合体又は共重合体を表す。

（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体は、（メタ）アクリル酸エステルモノマーを重合して得られる重合体である。
（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、パルミチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等の、アルキル基の炭素数が１〜２０の（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。

（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体中の、（メタ）アクリル酸エステルモノマー由来の繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位に対して、５０〜９７質量％、好ましくは６０〜９８質量％、特に好ましくは７０〜９５質量％である。

また、（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体は、上記（メタ）アクリル酸エステルと、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の官能基を有するモノマー（以下、「官能基含有モノマー」ということがある。）との共重合体（以下、「官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系共重合体」ということがある。）であってもよい。

官能基含有モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；モノメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のモノアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸；等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。

官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系共重合体中の、官能基含有モノマー由来の繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位に対して、通常０．１〜１００質量％であるが、貼付適性及び耐久性により優れる接着剤層が得られることから、好ましくは１〜４０質量％、特に好ましくは３〜３０質量％である。

これらの中でも、（メタ）アクリル酸エステル系共重合体としては、ガスバリアフィルムに対する接着力が高く、気泡の発生をより効果的に抑制することができることから、官能基として、カルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（カルボキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル系共重合体）が特に好ましい。

また、官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系共重合体を用いる場合は、架橋剤を併用することが好ましい。
架橋剤としては、官能基含有モノマーの官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等、あるいは、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート等のそれらのアダクト体等のイソシアネート系架橋剤；エチレングリコールグリシジルエーテル等のエポキシ系架橋剤；ヘキサ〔１−（２−メチル）−アジリジニル〕トリフォスファトリアジン等のアジリジン系架橋剤；アルミニウムキレート等のキレート系架橋剤；等が挙げられる。
これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
架橋剤の使用量は、官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系共重合体１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部、好ましくは０．０５〜５質量部である。

（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体は、上記のモノマーの他にも、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン等のその他のモノマーが共重合されたものであってもよい。
（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体中の、その他のモノマー由来の繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．０５〜７．０質量％の範囲である。

（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体は、溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法等の公知の重合方法により得ることができる。

（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体の質量平均分子量（Ｍｗ）は、１００，０００〜３，０００，０００の範囲が好ましく、３００，０００〜２，５００，０００がより好ましく、５００，０００〜２，０００，０００がさらに好ましい。（メタ）アクリル酸エステル系（共）重合体の質量平均分子量が、上記範囲であれば、十分な造膜性が得られ、また、得られるガスバリア積層体のフレキシブル性を向上させることができる。
質量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定した標準ポリスチレン換算の値である（以下にて同じ。）。

（Ａ）のエネルギー線硬化型接着剤組成物は、前記エネルギー線硬化性を有しない重合体（ｘ）と共に、エネルギー線硬化型化合物（ｙ）を含有する。
エネルギー線硬化型化合物（ｙ）は、エネルギー線が照射されることにより、反応して三次元網目構造を形成する化合物である。そして、この三次元網目構造内に、ある程度の自由度を確保しながら、前記（メタ）アクリル酸エステル系共重合体等のエネルギー線硬化性を有しない重合体（ｘ）が固定されることで、凝集力が上昇し、高温領域でも貯蔵弾性率が高く、所望の貯蔵弾性率を有する。従って、気泡の発生を効果的に抑制する接着剤層を容易に得ることができる。

エネルギー線硬化型化合物（ｙ）としては、特に制約はないが、本発明の目的をより達成しやすいことから、エネルギー線硬化性の多官能モノマー及び／又はオリゴマーを用いるのが好ましい。

エネルギー線硬化性の多官能モノマーとしては、分子量１０００未満の多官能(メタ)アクリレート系モノマーを好ましく挙げることができる。
多官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート等の２官能型モノマー；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート等の３官能型モノマー；ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の４官能型モノマー；プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の５官能型モノマー；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の６官能型モノマー；等が挙げられる。
これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。

エネルギー線硬化性の多官能オリゴマーとしては、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリブタジエンアクリレート系、シリコーンアクリレート系等のプレポリマーが挙げられる。

エネルギー線硬化性の多官能オリゴマーの質量平均分子量（Mｗ）は、好ましくは５０，０００以下、より好ましくは５００〜５０，０００、さらに好ましくは３，０００〜４０，０００の範囲である。

（Ａ）のエネルギー線硬化型接着剤組成物中のエネルギー線硬化型化合物（ｙ）の含有割合は、エネルギー線硬化性を有しない重合体（ｘ）とエネルギー線硬化型化合物（ｙ）の合計に対して、１〜７０質量％が好ましく、３〜６０質量％がより好ましく、５〜４０質量％がさらに好ましく、２０〜３５質量％が特に好ましい。
エネルギー線硬化型化合物（ｙ）の含有割合が７０質量％を超えると、硬化時の体積収縮率が大きくなり、ガスバリアフィルムとの界面が剥離するおそれがある。一方、１質量％未満であると、所望の貯蔵弾性率が得られず、発泡を抑制することが困難となる。

（Ｂ）エネルギー線硬化型接着剤組成物
前記（Ｂ）のエネルギー線硬化型接着剤組成物に用いるエネルギー線硬化性の不飽和基を有する重合体（ｚ）としては、エネルギー線が照射されることにより、重合体（ｚ）が有する不飽和基が反応して硬化する重合体であれば、特に制約はない。なかでも、本発明の目的をより達成しやすいことから、側鎖にエネルギー線硬化性の不飽和基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体が好ましい。重合体（ｚ）は、エネルギー線が照射されることにより、反応して硬化するため、凝集力が上昇し、高温領域でも貯蔵弾性率が高く、所望の貯蔵弾性率を有するため、気泡の発生を効果的に抑制する接着剤層を容易に得ることができる。

側鎖にエネルギー線硬化性の不飽和基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体は、上述の官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系共重合体に、前記官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の官能基と反応する置換基を有する、エネルギー線硬化性の不飽和基含有化合物を反応させることにより得ることができる。

前記エネルギー線硬化性の不飽和基含有化合物が有する置換基は、前記官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。
置換基としては、例えば、イソシアナート基、アジリジニル基、エポキシ基、オキサゾリン、アミノ基、アジリジニル基が挙げられる。このような置換基は、（メタ）アクリロイル基含有化合物１分子毎に少なくとも一つ含まれている。

前記エネルギー線硬化性の不飽和基含有化合物は、エネルギー線の照射により重合する性質を有する炭素−炭素二重結合を、１分子毎に１〜５個、好ましくは１〜２個含有するものである。
このようなエネルギー線硬化性の不飽和基含有化合物としては、例えば、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアナート、メタ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアナート、メタクリロイルイソシアナート、アリルイソシアナート；ジイソシアナート化合物又はポリイソシアナート化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとを反応させることにより得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物；ジイソシアナート化合物又はポリイソシアナート化合物、ポリオール化合物、及びヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを反応させることにより得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸、２−（１−アジリジニル）エチル（メタ）アクリレート、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン等が挙げられる。

また、側鎖にエネルギー線硬化性の不飽和基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体中の、エネルギー線硬化性の不飽和基の平均側鎖導入率は、０．１〜５０ｍｏｌ％であるのが好ましく、特に５〜３０ｍｏｌ％であるのが好ましい。
エネルギー線硬化性の不飽和基の平均側鎖導入率が０．１ｍｏｌ％未満であると、所望の貯蔵弾性率が得られず、発泡を抑制することが困難となる。一方、５０ｍｏｌ％を超えると、硬化時の体積収縮率が大きくなり、ガスバリアフィルムとの界面が剥離するおそれがある。
なお、エネルギー線硬化性の不飽和基の平均側鎖導入率は、次の式によって算出されるものである。

側鎖にエネルギー線硬化性の不飽和基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体の質量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが、１００，０００〜３，０００，０００の範囲が好ましく、３００，０００〜２，５００，０００がより好ましく、５００，０００〜２，０００，０００がさらに好ましい。質量平均分子量が、上記範囲であれば、十分な造膜性が得られ、また、得られるガスバリア積層体のフレキシブル性を向上させることができる。

エネルギー線硬化性の不飽和基を有する重合体（ｚ）は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。

（Ｂ）のエネルギー線硬化型接着剤組成物中のエネルギー線硬化性を有する重合体（ｚ）の含有割合は、組成物全体に対して５０〜１００質量％が好ましく、５５〜９８質量％がより好ましく、６５〜９５質量％がさらに好ましい。
エネルギー線硬化性を有する重合体（ｚ）の含有割合が上記範囲であると、気泡の発生を抑制し、所望の貯蔵弾性率が得られやすい。

（Ｂ）のエネルギー線硬化型接着剤組成物は、適宜、前記エネルギー線硬化性を有しない重合体（ｘ）や、エネルギー線硬化型化合物（ｙ）を含有していてもよい。

本発明に用いるエネルギー線硬化型接着剤組成物は、（Ａ）、（Ｂ）のいずれにおいても、所望により光重合開始剤を含有していてもよい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２−（ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステル、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン］、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。

光重合開始剤の配合量は、前記エネルギー線硬化型化合物（ｙ）、又は、エネルギー線硬化性を有する重合体（ｚ）１００質量部に対して、通常０．２〜２０質量部の範囲である。

また、本発明に用いるエネルギー線硬化型接着剤組成物は、ガスバリアフィルムとの密着性を向上させるため、シランカップリング剤等のアルコキシ金属化合物を含有していてもよい。
シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。
アルコキシ金属化合物の配合割合は、組成物全体に対して、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．００５〜５質量％がより好ましい。

また、本発明に用いるエネルギー線硬化型接着剤組成物は、その他の添加剤が含有されていてもよい。
その他の添加剤としては、例えば、光安定剤、酸化防止剤、接着付与剤、可塑剤、紫外線吸収剤、着色剤、樹脂安定剤、充てん剤、顔料、増量剤、帯電防止剤、カップリング剤等が挙げられる。エネルギー線硬化型接着剤組成物における添加剤の合計の配合割合は、本発明の目的を阻害しない範囲であればよく、通常、組成物全体の０．００１〜５０質量％である。

さらに、前記エネルギー線硬化型接着剤組成物には、エネルギー線硬化型接着剤組成物が所望の接度・固形分濃度となるように、あるいは所望の塗工性が得られるように、適宜、溶剤を配合してもよい。
溶剤としては、例えば、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。
また、前記エネルギー線硬化型接着剤組成物の固形分濃度としては、５〜４０％が好ましく、１０〜３０％がより好ましい。

前記エネルギー線硬化型接着剤組成物は、前記各成分の必要量を、従来公知の方法で適宜混合・撹拌することによって調製することができる。

以上のようにして得られるエネルギー線硬化型接着剤組成物を用いて接着剤組成物層を形成する方法としては、制約はないが、例えば、前記エネルギー線硬化型接着剤組成物を、剥離処理された樹脂フィルム（剥離シート）上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。

剥離シートとしては、従来公知のものを使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレン等の樹脂フィルムをシリコーン系剥離剤等で剥離処理したものが挙げられる。

エネルギー線硬化型接着剤組成物を剥離シート上に塗布する方法としては、特に限定されず、例えば、コンマダイレクトコート法、スピンコート法、ナイフコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
得られた塗膜を乾燥することで、接着剤組成物層を形成することができる。
乾燥は、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法で行えばよい。加熱温度は、通常、６０〜１００℃程度で、加熱時間は、通常、数十秒から数十分間である。

硬化前の接着剤組成物層の２３℃における貯蔵弾性率は、通常、１×１０^３〜５×１０^６Ｐａ、好ましくは、１×１０^４〜５×１０^５Ｐａである。接着剤組成物層の貯蔵弾性率がこのような範囲であれば、接着剤組成物層とガスバリアフィルムとを貼り合わせた際に、十分に密着することができる。

接着剤組成物層を、後述するように、ガスバリアフィルムと貼り合わせた後、エネルギー線を照射することにより硬化させることで、接着剤層を形成することができる。得られる接着剤層は、高温領域で貯蔵弾性率が高いため、ガスバリアフィルム同士を確実に接着・固定し、得られるガスバリアフィルム積層が高温、高湿度条件下で長時間置かれた場合であっても、ガスバリアフィルム積層体内に気泡等が生成することを効果的に抑制し、外観不良が発生しにくいガスバリアフィルム積層体を得ることができる。

得られる接着剤層の６０℃における貯蔵弾性率は、特に限定されないが、１×１０^７〜１×１０^９Ｐａであるのが好ましく、１×１０^７〜９×１０^８Ｐａであるのがより好ましく、２×１０^７〜５×１０^８であるのが特に好ましい。接着剤層の６０℃における貯蔵弾性率が、１×１０^７Ｐａ未満のときは、高温、高湿度条件下で長時間置かれた場合、ガスバリアフィルム積層体内に気泡が生成し易く、一方、１×１０^９Ｐａを超えると、ガスバリアフィルム積層体の折り曲げ性が低下するおそれがある。
また、得られる接着剤層の２３℃における貯蔵弾性率は、特に限定されないが、１×１０^７〜５×１０^９Ｐａであるのが好ましく、２×１０^７〜１×１０^９Ｐａであるのがより好ましく、５×１０^７〜５×１０^８であるのが特に好ましい。接着剤層の２３℃における貯蔵弾性率が、１×１０^７Ｐａ未満のときは、高温、高湿度条件下で長時間置かれた場合、所望の弾性率が得られにくく、一方、５×１０^９Ｐａを超えると、ガスバリアフィルム積層体の折り曲げ性が低下するおそれがある。

接着剤層の厚みは、通常、０．１〜１０００μｍ、好ましくは０．５〜５００μｍ、より好ましくは１〜１００μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。

また、得られる接着剤層は、非エネルギー線硬化接着剤組成物からなる接着剤層に比べて、接着剤層自体のガスバリア性も高いため、ガスバリアフィルム積層体が高温、高湿度条件下で長時間置かれた場合に、接着剤層の側面から水分が浸透することを抑制するという効果も得やすい。得られる接着剤層の水蒸気透過率は、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、通常１０〜１０００ｇ／ｍ^２／ｄａｙである、好ましくは５０〜８００ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である。なお、水蒸気透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。

本発明のガスバリアフィルム積層体は、少なくとも、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、接着剤層を介して積層されてなる構成を有する。
本発明のガスバリアフィルム積層体の一例を図１に示す。図１中、Ａ１、Ａ２はガスバリアフィルムを、Ｃは接着剤層を、ａ１、ａ２は基材を、ｂ１、ｂ２はガスバリア層をそれぞれ示す。

図１（ａ）〜（ｃ）は、下記の順よりなる構成のガスバリアフィルム積層体である。
（ａ）（基材／ガスバリア層）／接着剤層／（ガスバリア層／基材）
（ｂ）（ガスバリア層／基材）／接着剤層／（ガスバリア層／基材）
（ｃ）（ガスバリア層／基材）／接着剤層／（基材／ガスバリア層）

これらの中でも、ガスバリアフィルムの少なくとも一方が、接着剤層と基材側で接するように積層されている（ｂ）、（ｃ）の構成の場合に、気泡の発生を抑制する効果が顕著となり、特に、ガスバリアフィルム同士が、接着剤層と基材側で接するように積層されている（ｃ）の構成の場合に、気泡の発生を抑制する効果が最も顕著になる。
この理由は、基材中に含まれる水分がガスバリア層の反対側から出て行きやすく、また高温及び高湿度下に長時間置かれた場合に、基材の側面から水分が浸透しやすいためである。従って、（ｂ）または（ｃ）の構成のガスバリアフィルム積層体は、（ａ）の構成に比べて、積層体内に気泡の発生が起こりやすく、（ｂ）または（ｃ）の構成の場合に、上述の接着剤層を用いることで、気泡の発生を抑制する効果が顕著となる。

本発明のガスバリアフィルム積層体は、使用目的に応じて、前記の層構成が複数組み合わさった構成を有していてもよい。

また、本発明のガスバリアフィルム積層体は、前記層構成の他に、保護層、導電体層等のその他の層を有していてもよい。
保護層は、透明性がよく、耐擦傷性が良好なものが好ましい。また、防汚性、耐指紋付着防止性、帯電防止性、撥水性、親水性等の機能を有していてもよい。
保護層の厚みは、ガスバリアフィルム積層体の使用目的等を考慮して適宜選択することができ、通常、０．０５〜１０μｍ、好ましくは０．１〜８．０μｍ、より好ましくは０．２〜５．０μｍ、さらに好ましくは０．２〜１．０μｍである。

保護層の形成材料は特に制限されず、公知のものが使用できる。例えば、ケイ素含有化合物；光重合性モノマー及び／又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む重合性組成物；ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂（特にポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等とイソシアネート化合物との２液硬化型樹脂）、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等の樹脂類；アルキルチタネート；エチレンイミン；等が挙げられる。これらは、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。

なかでも、保護層の材料としては、透明性や耐擦傷性に優れる観点から、光重合性モノマー及び／又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む重合性組成物が好ましい。

導電体層は、ガスバリアフィルム積層体を電極として利用する場合や、帯電防止性や放熱性を付与するために設けられる。

導電体層の材料は特に制限されず、公知のものが使用できる。例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体的には、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）；フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）；酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の金属酸化物；金、銀、クロム、ニッケル等の金属；これら金属と金属酸化物との混合物；ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質；ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール等の有機導電性材料；等が挙げられる。

導電体層には、必要に応じてパターニングを行ってもよい。パターニングする方法としては、フォトリソグラフィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた物理的エッチング等、マスクを用いた真空蒸着法や、スパッタリング法、リフトオフ法、印刷法等が挙げられる。
導電体層の表面抵抗率は、１０００Ω／□以下が好ましく、より好ましくは２００Ω／□以下である。
導電体層の厚みは、通常、１０ｎｍから９μｍ、好ましくは２０ｎｍから１．０μｍである。

本発明のガスバリアフィルム積層体の水蒸気透過率は、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、通常０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、好ましくは０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、さらに好ましくは０．００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である。
水蒸気透過率の下限値については特に制限はなく、小さいほど好ましいが、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、通常、０．００００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上である。
なお、水蒸気透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。

本発明のガスバリアフィルム積層体は、高いガスバリア性を有し、かつ、高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、積層体内に気泡等が生成しにくく、外観不良が発生しにくいものである。このような特性を有する本発明のガスバリアフィルム積層体は、光学フィルター、タッチパネル、液晶ディスプレイ、電子ペーパー等のディスプレイに用いられるフレキシブル樹脂基板、有機ＥＬ素子、太陽電池素子等の光電変換素子に用いられる封止フィルム等の各種電子デバイス用の部材として好適に用いられる。

２）ガスバリアフィルム積層体の製造方法
本発明のガスバリアフィルム積層体の製造方法は、隣接する２枚のガスバリアフィルムを、エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成された接着剤組成物層を介して貼合した後、該接着剤組成物層にエネルギー線を照射して、前記接着剤組成物層を硬化させる工程を有することを特徴とする。

用いるガスバリアフィルムや接着剤組成物、接着剤組成物層の形成方法としては、前記１）で例示したのと同様の方法が挙げられる。
隣接する２枚のガスバリアフィルムを、接着剤組成物層を介して貼合する方法としては、剥離シート上に接着剤組成物層を形成し、この接着剤組成物層面と、ガスバリアフィルムの一方の面とを貼り合わせ、次いで剥離シートを剥離し、露出した接着剤組成物層面と、もう一枚のガスバリアフィルムを貼り合わせて貼着する方法が挙げられる。

次いで、接着剤組成物層にエネルギー線を照射することにより、前記接着剤組成物層を硬化させる。具体的には、隣接する２枚のガスバリアフィルムを、接着剤組成物層を介して貼合して得られる積層物の、一方のガスバリアフィルム面側から、エネルギー線を照射することにより、接着剤組成物層を硬化させる。

エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。
紫外線を照射する場合は、高圧水銀ランプ、無電極ランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射量は、通常、照度５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ^２で、光量１００〜５００ｍＪ/ｃｍ^２、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲である。
照射時間は、通常、０．１〜１０００秒、好ましくは１〜５００秒、更に好ましくは１０〜１００秒である。紫外線照射工程の熱負荷を考慮しつつ光量を満たすために、複数回照射しても構わない。
電子線を照射する場合は、電子線加速器等を用いることができる。照射量は、通常１０〜１０００ｋｒａｄ、光量は、１０〜１０００ｋｒａｄ程度が好ましい。
の範囲である。

本発明のガスバリアフィルム積層体の製造方法によれば、隣接する２枚のガスバリアフィルムを、エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成される接着剤組成物層を介して貼合した時には、接着剤層が硬化されておらず、高い密着性が得られ、その状態で、その後にエネルギー線を照射し、接着剤組成物層を硬化させるため、ガスバリアフィルム同士を、確実かつ強固に接着・固定することができ、高いガスバリア性を有し、かつ、高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、積層体内に気泡等が生成しにくく、外観不良が発生にくいガスバリアフィルム積層体を、効率よく簡便に製造することができる。

３）電子デバイス
本発明の電子デバイスは、本発明のガスバリアフィルム積層体を備えるものである。
電子デバイスとしては、特に制約はなく、例えば、タッチパネル、液晶ディスプレイ、電子ペーパー、有機ＥＬディスプレイ、太陽電池等が挙げられる。
本発明のガスバリアフィルム積層体は、高いガスバリア性を有し、かつ、高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、積層体内に気泡等が生成しにくく、外観不良が発生しにくいため、有機ＥＬ素子等の電子デバイスの封止用フィルムとして好適である。

本発明の電子デバイスの一例として、有機ＥＬデバイスの例を図２に示す。本発明の電子デバイスは、これに限定されない。
図２中、有機ＥＬデバイスは、基板４上に形成された透明電極３と、該透明電極上に積層された有機ＥＬ素子（正孔輸送層、発光層及び背面電極等）５と、前記有機ＥＬ素子５を封止する封止材２と、前記封止材２に積層されたガスバリアフィルム積層体１を備える。ガスバリアフィルム積層体１は、封止材２に接着されている。なお、基板４にも、本発明のガスバリアフィルム積層体を用いることができる。

図２に有機ＥＬデバイスは、有機ＥＬ素子を封止するための封止フィルムとして上述の本発明のガスバリアフィルム積層体を用いているため、有機ＥＬ素子に水分が浸透することなく、有機ＥＬデバイスが高温及び高湿度下に長時間置かれた場合であっても、封止フィルムに外観不良が発生しにくく、有機ＥＬ素子の発光特性が損なわれること抑制されている。

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
なお、ガスバリア層を形成するために用いたプラズマイオン注入装置及びプラズマイオン注入条件は以下の通りである。

（プラズマイオン注入装置）
ＲＦ電源：日本電子社製、型番号「ＲＦ」５６０００
高電圧パルス電源：栗田製作所社製、「ＰＶ−３−ＨＳＨＶ−０８３５」

（プラズマイオン注入条件）
プラズマ生成ガス：Ａｒ
ガス流量：１００ｓｃｃｍ
Ｄｕｔｙ比：０．５％
印加電圧：−６ｋＶ
ＲＦ電源：周波数 １３．５６ＭＨｚ、印加電力 １０００Ｗ
チャンバー内圧：０．２Ｐａ
パルス幅：５μｓｅｃ
処理時間（イオン注入時間）：２００秒

以下の製造例及び実施例においては、以下のものを使用した。
（１）基材フィルム
・ＰＥＴフィルム：ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、商品名：ＰＥＴ３８ Ｔ−１００、厚さ３８μｍ）
(２)ポリシラザン化合物
・ポリシラザン化合物含有液Ａ：（クラリアントジャパン社製、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング材、商品名：アクアミカＮＬ１１０−２０）
（３）光重合開始剤
・光重合開始剤Ａ：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア５００
・光重合開始剤Ｂ：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア１８４
・光重合開始剤Ｃ：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア５００
（４）エネルギー線硬化型化合物
・エネルギー硬化型化合物Ａ：エネルギー線硬化性の多官能モノマー（東亞合成社製、商品名：アロニックスＭ−３１５）
・エネルギー線硬化型化合物Ｂ：エネルギー線硬化性の多官能モノマー及びオリゴマーからなる組成物（大日精化工業社製、商品名：セイカビーム１４−２９Ｂ（ＮＰＩ）
（５）架橋剤
・架橋剤Ａ：ポリイソシアナート化合物からなる架橋剤（東洋インキ製造社製、商品名：オリバインＢＨＳ−８５１５）
（６）剥離シート
・剥離シートＡ：ＰＥＴフィルムの片面にシリコーン剥離層が設けられた剥離シート（リテック社製、商品名：ＳＰ−ＰＥＴ３８１０３１）

（製造例１−１）＜ガスバリアフィルム１の作製＞
基材フィルムとしてのＰＥＴフィルムに、ポリシラザン化合物含有液Ａをスピンコート法により塗布し、１２０℃で１分間加熱して、厚さ１５０ｎｍの、ペルヒドロポリシラザンを含むポリシラザン層を形成した。
次に、プラズマイオン注入装置を用いて、ポリシラザン層の表面に、上記のプラズマイオン注入の条件にて、アルゴン（Ａｒ）をプラズマイオン注入して、ガスバリア層を形成し、ガスバリアフィルム１を作製した。得られたガスバリアフィルム１の、４０℃、相対湿度９０％の条件での水蒸気透過率は、０．０２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。なお、ガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、ガス透過率測定装置（米国ＭＯＣＯＮ社製、型式：ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）を用いて測定した（以下にて同じ。）。

（製造例１−２）＜ガスバリアフィルム２の作製＞
基材フィルムとしてのＰＥＴフィルムに、スパッタリング法により、厚み６０ｎｍの窒化ケイ素からなるガスバリア層を形成し、ガスバリアフィルム２を作製した。得られたガスバリアフィルム２の、４０℃、相対湿度９０％の条件での水蒸気透過率は、０．４ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。

（製造例２−１）＜エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａの調製＞
ｎ−ブチルアクリレート９５質量部とアクリル酸５質量部を、酢酸エチル中で共重合させて、重量平均分子量が１６０万のエネルギー線硬化性を有しない重合体（下記第１表において、「アクリル酸エステル共重合体１」という。）を含む溶液を得た。
得られたアクリル酸エステル共重合体１を含む溶液の固形分７０質量部に対して、光重合開始剤Ａ ０．３質量部と、エネルギー線硬化型化合物Ａ ３０質量部と、架橋剤Ａ ０．１質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを得た。

（製造例２−２）＜エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｂの調製＞
製造例２−１で得たアクリル酸エステル共重合体１を含む溶液に、該溶液の固形分７０質量部に対して、光重合開始剤Ａ ０．３質量部と、エネルギー線硬化型化合物Ｂ ３０質量部、架橋剤Ａ ０．１質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｂを得た。

（製造例２−３）＜エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｃの調製＞
ｎ−ブチルアクリレート８０質量部とアクリル酸２０質量部とを、酢酸エチル／メチルエチルケトン混合溶媒（質量比５０：５０）中で共重合させて、重量平均分子量が６０万のアクリル酸エステル共重合体２（エネルギー線硬化性を有しない重合体）を含む溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。

得られたアクリル酸エステル共重合体２を含む溶液に、該溶液の固形分７０質量部に対して、光重合開始剤Ｂ ０．３質量部と、エネルギー線硬化型化合物Ｂ ３０質量部と、架橋剤Ａ ０．２質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｃを得た。

（製造例２−４）＜エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｄの調製＞
製造例２−３で得られたアクリル酸エステル共重合体２を含む溶液の固形分７０質量部に対して、光重合開始剤Ｃ ０．３質量部と、エネルギー線硬化型化合物Ａ ３０質量部と、架橋剤Ａ ０．２質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｄを得た。

（製造例２−５）＜エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｅの調製＞
ｎ−ブチルアクリレート ６２質量部と、メタクリル酸メチル １０質量部と、アクリル酸２−ヒドロキシエチル（以下、「ＨＥＡ」という。）２８質量部を、メチルエチルケトン溶液中で、共重合させて、アクリル酸エステル共重合体を含む溶液（固形分濃度４０質量％）を得た。
得られたアクリル酸エステル共重合体を含む溶液に、共重合体中のＨＥＡ１００当量に対し８０当量の２−メタクリロイルオキシエチルイソシアナートを添加し、窒素雰囲気下、４０℃で４８時間、グラフト重合させて、側鎖に重合性不飽和基を有する、重量平均分子量が２５万のエネルギー線硬化型アクリル系共重合体（下記第１表において、「エネルギー線硬化性不飽和基含有重合体Ａ」という。）を含む溶液を得た。
次いで、得られたエネルギー線硬化型アクリル系共重合体を含む溶液の固形分１００質量部に対して、光重合開始剤Ｂ ３質量部と、架橋剤Ａ ０．１質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｅを得た。

（製造例２−６）＜エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｆの調製＞
製造例２−５で得たエネルギー線硬化型アクリル系共重合体を含む溶液の固形分７０質量部に対して、光重合開始剤Ｂ ３質量部と、製造例２−１で得たアクリル酸エステル共重合体３０質量部と、架橋剤Ａ ０．１質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｆを得た。

（製造例２−７）＜エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｇの調製＞
製造例２−５で得たエネルギー線硬化型アクリル系共重合体を含む溶液の固形分７０質量部に対して、光重合開始剤Ａ ３質量部と、エネルギー線硬化型化合物Ａ ３０質量部と、架橋剤Ａ ０．１質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｇを得た。

（製造例２−８）＜接着剤組成物Ｈの調製＞
製造例２−１で得たアクリル酸エステル共重合体１を含む溶液の固形分１００質量部に、架橋剤Ａ ０．１質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、接着剤組成物Ｈを得た。

（製造例２−９）＜接着剤組成物Ｉの調製＞
製造例２−３で得たアクリル酸エステル共重合体２を含む溶液の固形分１００質量部に、架橋剤Ａ ０．２質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、接着剤組成物Ｉを得た。

（製造例２−１０）＜接着剤組成物Ｊの調製＞
製造例２−１で得たアクリル酸エステル共重合体１を含む溶液の固形分８６質量部に対して、光重合開始剤Ａ ０．３質量部と、エネルギー線硬化型化合物Ａ １４質量部と、架橋剤Ａ ０．１質量部を添加、溶解させた後、固形分濃度を３０質量％に調整して、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ｊを得た。

（実施例１）
剥離シートＡの剥離層表面に、製造例２−１で得られたエネルギー線硬化型接着剤組成物Ａをコンマダイレクトコート法にて塗布し、得られた塗膜を１００℃で１分間乾燥させて、厚さ約１０μｍの接着剤組成物層を形成した。
次いで、得られた剥離シート上の接着剤組成物層面と、製造例１−１で作製したガスバリアフィルム１の基材面とを貼り合わせた。さらに、剥離シートを剥離して露出した接着剤組成物層面と、もう１枚のガスバリアフィルム１の基材面とを貼り合わせて、図１（ｃ）と同様の層構成を有する積層体を得た。貼着してから３０秒後に、紫外線（ＵＶ）を、高圧水銀ランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、３００ｍＪ／ｃｍ^２の光量で、一方のバリアフィルム側から照射し、接着剤組成物層を硬化させ、ガスバリアフィルム積層体１を作製した。
なお、照度・光量は、ＵＶ照度・光量計（アイグラフィックス社製、「ＵＶＰＦ−３６」）を使用して測定した。

（実施例２）
実施例１において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを、製造例２−２で得たエネルギー線硬化型接着剤組成物Ｂに代えた以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体２を作製した。

（実施例３）
実施例１において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを、製造例２−３で得たエネルギー線硬化型接着剤組成物Ｃに代えた以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体３を作製した。

（実施例４）
実施例１において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを、製造例２−４で得たエネルギー線硬化型接着剤組成物Ｄに代えた以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体４を作製した。

（実施例５）
実施例１において、ガスバリアフィルム１を、製造例１−２で得たガスバリアフィルム２に代えた以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体５を作製した。

（実施例６）
実施例１において、剥離シートを剥離して露出した接着剤層面と、もう１枚のガスバリアフィルムを貼り合わせる際、ガスバリアフィルムの基材面ではなくガスバリア層面を接着剤層面に貼り合わせて、図１（ｂ）と同様の層構成を有する積層体を得た。それ以外は実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体６を作製した。

（実施例７）
実施例１において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを、製造例２−５で得たエネルギー線硬化型接着剤組成物Ｅに代えた以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体７を作製した。

（実施例８）
実施例１において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを、製造例２−６で得たエネルギー線硬化型接着剤組成物Ｆに代えた以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体８を作製した。

（実施例９）
実施例１において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを、製造例２−７で得たエネルギー線硬化型接着剤組成物Ｇに代えた以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体９を作製した。

（比較例１）
実施例１において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを、製造例２−８で得た接着剤組成物Ｈに代えたこと以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルム積層体１ｒを作製した。

（比較例２）
実施例１において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを、製造例２−９で得た接着剤組成物Ｉに代えたこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリアフィルム積層体２ｒを作製した。

（比較例３）
実施例５において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを接着剤組成物Ｊに代えたこと以外は、実施例５と同様にして、ガスバリアフィルム積層体３ｒを作製した。

（比較例４）
実施例６において、エネルギー線硬化型接着剤組成物Ａを接着剤組成物Ｈに代えたこと以外は、実施例６と同様にして、ガスバリアフィルム積層体４ｒを作製した。

〔貯蔵弾性率の測定〕
ＰＥＴフィルムの片面にシリコーン剥離層を設けてなる剥離シート（リンテック社製、ＳＰ−ＰＥＴ３８１０３１）の剥離層上に、接着剤組成物Ａ〜Ｉをそれぞれ乾燥後の膜厚が２５μｍとなるように塗布し、これを乾燥して接着剤組成物層を形成した。

接着剤組成物Ａ〜Ｇ、Ｊについては、乾燥塗膜（剥離シート付接着剤組成物層）に、紫外線（ＵＶ）を、高圧水銀ランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、光量３００ｍＪ／ｃｍ^２で照射することにより、剥離シート付接着剤層を得た。
得られた接着剤層Ａ〜Ｇ、Ｊにつき、粘弾性測定機器（ティー・エイ・インスツルメント社製、ＤＭＡ Ｑ８００）を使用し、周波数１１Ｈｚ、０〜２５０℃の範囲で引張モードによる粘弾性を測定した。２３℃および６０℃における貯蔵弾性率の測定結果を下記表１および表２に示す。

接着剤組成物Ｈ、Ｉについては、接着剤組成物Ｈ、Ｉを用いて得られた剥離シート付接着剤組成物層の接着剤組成物層上に、別の剥離シート付接着剤組成物層(接着剤層は同種のもの)の接着剤組成物層を積層した。次いで、剥離シートを除去して露出した接着剤組成物層上に、さらに別の剥離シート付接着剤組成物層（接着剤組成物層は同種のもの）の
れ１２０ｍｍ×１２０ｍｍの大きさに裁断し、接着剤組成物層を積層し、この操作を繰り返すことにより、接着剤組成物層（積層体）の全体厚みを３ｍｍにした後、８ｍｍφの円柱状に打ち抜くことにより、接着剤組成物層Ｈ、Ｉの試験片を作製した。
得られた接着剤組成物を、粘弾性測定機器（ＤＹＮＡＭＩＣ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＲＤＡＩＩ、ティー・エイ・インスツルメント社製）を使用し、周波数１Ｈｚ、２５〜２２０℃の範囲でねじり剪断法により測定した。２３℃および６０℃における貯蔵弾性率の測定結果を下記表２に示す。

〔高温、高湿条件投入後の外観評価〕
実施例及び比較例で得られたガスバリアフィルム積層体１〜９、１ｒ〜３ｒを、それぞ高温高湿度条件下（６０℃、９０％ＲＨ）に、１０００時間載置した。その後、２３℃、５０％ＲＨ環境下で１日調温・調湿を行い、ガスバリアフィルム積層体を目視にて評価した。評価結果を下記表１および表２に示す。なお、表中、層構成の欄のａは、積層体が図１（ａ）の層構成を有していることを示し、ｂは、図１（ｂ）の層構成を有していることを表す。
評価基準は、以下に示すとおりである。
○：ガスバリアフィルム積層体に気泡が見られなかったもの。
×：ガスバリアフィルム積層体に気泡が見られたもの。

表１および表２より、実施例１〜９で得たガスバリアフィルム積層体１〜９は、気泡の発生が見られなかったが、比較例１〜４で得たガスバリアフィルム積層体１ｒ〜４ｒは、気泡の発生が見られた。

Ａ１、Ａ２・・・ガスバリアフィルム
Ｃ・・・接着剤層
ａ１、ａ２・・・基材
ｂ１、ｂ２・・・ガスバリア層
１・・・ガスバリアフィルム積層体
２・・・封止材
３・・・透明電極
４・・・基板
５・・・有機ＥＬ素子

Claims (11)

1. 少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、隣接する２枚のガスバリアフィルムが、接着剤層を介して積層されてなり、
   前記接着剤層が、エネルギー線硬化型接着剤組成物を用いて形成された接着剤組成物層に、エネルギー線を照射することにより硬化させて作製されたものであることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。
2. 少なくとも２枚のガスバリアフィルムを含むガスバリアフィルム積層体であって、
   隣接する２枚のガスバリアフィルムを、エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成された接着剤組成物層を介して貼合した後、該接着剤組成物層にエネルギー線を照射して、前記接着剤組成物層を硬化させて得られることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。
3. 前記接着剤層が、６０℃における貯蔵弾性率が１×１０^７〜１×１０^９Ｐａのものであることを特徴とする、請求項１又は２に記載のガスバリアフィルム積層体。
4. 前記エネルギー線硬化型接着剤組成物が、エネルギー線硬化性を有しない重合体とエネルギー線硬化型化合物との混合物、又は、エネルギー線硬化性の不飽和基を有する重合体を主成分とすることを特徴とする、請求項１又は２に記載のガスバリアフィルム積層体。
5. 前記エネルギー線硬化性を有しない重合体が、（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であり、前記エネルギー線硬化性の不飽和基を有する重合体が、側鎖にエネルギー線硬化性の不飽和基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体であることを特徴とする、請求項４に記載のガスバリアフィルム積層体。
6. 前記（メタ）アクリル酸エステル系共重合体が、カルボキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であることを特徴とする、請求項５に記載のガスバリアフィルム積層体。
7. 前記ガスバリアフィルムの水蒸気透過率が、４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下で、０．５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のガスバリアフィルム積層体。
8. 前記ガスバリアフィルムが、合成樹脂からなる基材上に、少なくとも１層のガスバリア層を有するものであることを特徴とする、請求項１又は２に記載のガスバリアフィルム積層体。
9. 隣接する２枚のガスバリアフィルムの少なくとも一方が、前記接着剤層と、基材側で接するように積層されていることを特徴とする、請求項８に記載のガスバリアフィルム積層体。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載のガスバリアフィルム積層体の製造方法であって、
    隣接する２枚のガスバリアフィルムを、エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成された接着剤組成物層を介して貼合した後、該接着剤組成物層にエネルギー線を照射して、前記接着剤組成物層を硬化させる工程を有することを特徴とする、ガスバリアフィルム積層体の製造方法。
11. 請求項１〜９に記載のガスバリアフィルム積層体を備える電子デバイス。

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