JP2014176950A - 研磨装置、及び研磨パッド貼り付け方法 - Google Patents

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【課題】研磨パッドの貼り替え作業を容易に行い、かつ、研磨テーブルに熱ダメージが発生するのを抑制できる研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨装置は、基板を研磨するための研磨パッド108が貼り付けられる貼り付け面110aを有する研磨テーブル110を備える。また、研磨装置は、研磨テーブル110の貼り付け面110a上に設けられ、研磨テーブル110と研磨パッド108との間に介在するシリコーン層111を備える。シリコーン層111を介在させることによって、研磨パッド108を容易に剥離・貼り付けすることができる。また、シリコーン層111を研磨テーブル110へコーティングする熱処理は比較的低い温度で行われるので、熱処理に起因して研磨テーブル110に熱ダメージが発生するのを抑制することができる。
【選択図】図2

Description

本発明は、研磨装置、及び研磨パッド貼り付け方法に関するものである。
近年、半導体ウェーハなどの基板の表面を研磨するために、研磨装置が用いられている。研磨装置は、基板を研磨するための研磨パッドが貼り付けられた研磨テーブルを回転させながら、トップリングで保持した基板を研磨パッドに押し付けることによって、基板の表面を研磨する。
この種の研磨装置では、研磨パッドは消耗品として扱われ、定期的に研磨パッドの貼り替えが行われる。研磨パッドの貼り替えは、作業員の人手によって行われるのが一般的である。
研磨パッドを研磨テーブルへ貼り付ける貼り付け工程では、裏面が粘着面になっている研磨パッドが作業員の人手で研磨テーブルへ貼り付けられる。研磨パッドは、基板を研磨する際にパッドがずれないようにある程度強力な粘着力で研磨テーブルに貼り付けられるので、研磨パッドを研磨テーブルから剥がす剥離工程では、研磨パッドを剥がし難く、剥離作業に時間がかかる。
また、貼り付け工程において、研磨パッドと研磨テーブルとの間に空気が入って空気溜まりが発生すると、基板の研磨性能プロファイルに影響を及ぼすおそれがある。この点、研磨パッドが研磨テーブルに強力に接着していると、研磨パッドを一旦剥がして再使用するのが難しい。したがって、研磨パッドと研磨テーブルとの間に空気溜まりが発生した場合は、この研磨パッドを剥がして、新しい研磨パッドを貼り直す場合があり、経済性の面で好ましくなかった。
これに対して従来技術では、研磨テーブルと研磨パッドの粘着面との間に、フッ素系樹脂の層を介在させることが知られている。これによれば、研磨テーブルに貼り付けられた研磨パッドを、研磨テーブルから容易に剥がすことができるとされている。
特開2008−238375号公報
しかしながら、従来技術は、研磨パッドを研磨テーブルへ貼り付ける際の熱処理に起因して研磨テーブルに熱ダメージが発生するおそれがある点については考慮されていない。
すなわち、従来技術は、研磨テーブルと研磨パッドの粘着面との間にフッ素系樹脂の層を介在されるものであるが、フッ素系樹脂を研磨テーブルにコーティングするためには、例えば300℃〜400℃といった比較的高い温度で熱処理を行う必要があると考えられる。
これに対して、研磨テーブルは様々な材質で形成し得るが、例えば樹脂など、耐熱温度が比較的低い材質で研磨テーブルを形成した場合には、フッ素系樹脂のコーティングのための熱処理によって研磨テーブルに変形等の熱ダメージが生じるおそれがある。
本発明は上述の課題を鑑みてなされたもので、研磨パッドの貼り替え作業を容易に行うことができ、かつ、研磨テーブルに熱ダメージが発生するのを抑制することができる研磨装置、及び研磨パッド貼り付け方法を実現することを課題とする。
本願発明の研磨装置は、上記課題に鑑みなされたもので、基板を研磨するための研磨パッドが貼り付けられる貼り付け面を有する研磨テーブルと、前記研磨テーブルの貼り付け面上に設けられ、前記研磨テーブルと前記研磨パッドとの間に介在するシリコーン層と、を備えることを特徴とする。
また、前記シリコーン層は、前記貼り付け面に塗布された、シリコーン樹脂を含有する粘着剤、又は、前記貼り付け面に貼り付けられた、シリコーン樹脂を含有する粘着シートを含むことができる。
また、前記シリコーン層は、前記貼り付け面に塗布された、シリコーンにセラミックを混合した樹脂系塗料を含むことができる。
また、前記研磨テーブルは、炭化ケイ素、ステンレス鋼、樹脂、及び酸化アルミニウムの少なくとも1つを含んで形成することができる。
また、前記シリコーン層と前記研磨パッドとの間に介在する研磨パッドの粘着剤をさらに備える、ことができる。
また、本願発明の研磨パッドの貼り付け方法は、基板を研磨するための研磨パッドが貼り付けられる貼り付け面を有する研磨テーブルの前記貼り付け面にシリコーン層を設け、前記貼り付け面に設けられたシリコーン層を熱処理し、前記熱処理が行われたシリコーン層の上に前記研磨パッドを貼り付けることを特徴とする。
かかる本願発明によれば、研磨パッドの貼り替え作業を容易に行うことができ、かつ、研磨テーブルに熱ダメージが発生するのを抑制することができる。
図1は、研磨装置の全体構成を模式的に示す図である。 図2は、研磨パッドと研磨テーブルとの接着態様を示す図である。 図3は、研磨パッドの貼り付け工程と研磨工程の処理フローを示す図である。
以下、本願発明の一実施形態に係る研磨装置、及び、研磨パッド貼り替え方法を図面に基づいて説明する。以下の実施形態は、一例として、CMP(Chemical Mechanical Polishing)研磨装置を説明するが、これには限られない。
図1は、研磨装置の全体構成を模式的に示す図である。図1に示すように、研磨装置100は、半導体ウェーハなどの基板102を研磨するための研磨パッド108を上面に取付け可能な研磨テーブル110と、研磨テーブル110を回転駆動する第1の電動モータ112と、基板102を保持可能なトップリング116と、トップリング116を回転駆動する第2の電動モータ118と、を備える。
また、研磨装置100は、研磨パッド108の上面に研磨材を含む研磨砥液を供給するスラリーライン120と、研磨パッド108のコンディショニング(目立て)を行うドレッサーディスク122を備えるドレッサーユニット124と、を備える。
基板102を研磨するときは、研磨材を含む研磨砥液をスラリーライン120から研磨パッド108の上面に供給し、第1の電動モータ112によって研磨テーブル110を回転駆動する。そして、トップリング116を、研磨テーブル110の回転軸とは偏心した回転軸回りに回転した状態で、トップリング116に保持された基板102を研磨パッド108に押圧する。これにより、基板102は研磨パッド108によって研磨され、平坦化される。
次に、研磨パッド108と研磨テーブル110との接着態様について説明する。図2は、研磨パッドと研磨テーブルとの接着態様を示す図である。図2に示すように、本実施形態では、研磨パッド108の研磨面108aの反対側の裏面108bには、研磨パッドの粘着剤を含有する粘着面109が形成されている。また、研磨テーブル110における研磨パッド108を貼り付ける貼り付け面110a上には、シリコーン層111が設けられている。言い換えれば、シリコーン層111は、研磨テーブル110と研磨パッド108との間に介在しており、粘着面109は、シリコーン層111と研磨パッド108との間に介在している。
シリコーン層111は、研磨テーブル110の貼り付け面110aに塗布された、シリコーン樹脂を含有する粘着剤を含むことができる。この場合、シリコーン樹脂を含有する粘着剤は、ハケ塗り、ローラー塗り、吹付塗装、スプレー塗装など、種々の方法で、研磨テーブル110の貼り付け面110aに塗布することができる。
また、シリコーン層111は、研磨テーブル110の貼り付け面110aに貼り付けられた、シリコーン樹脂を含有する粘着シートを含むこともできる。
また、シリコーン層111は、研磨テーブル110の貼り付け面110aに塗布された、シリコーンにセラミック(例えば、セラミック粉末)を混合した樹脂系塗料を含むことができる。この場合、シリコーンにセラミックを混合した樹脂系塗料は、ハケ塗り、ローラー塗り、吹付塗装、スプレー塗装など、種々の方法で、研磨テーブル110の貼り付け面110aに塗布することができる。シリコーンにセラミックを混合することによって、シリコーン層111の硬度が高くなり、シリコーン層111の耐久性を向上させることができる。
また、研磨テーブル110は、炭化ケイ素(SiC)、ステンレス鋼(SUS)、樹脂、及び酸化アルミニウム(アルミナ)などの材料の少なくとも1つを含んで形成することができる。
次に、本実施形態の研磨パッドの貼り付け工程と研磨工程について説明する。図3は、研磨パッドの貼り付け工程と研磨工程の処理フローを示す図である。図3は、シリコーン層111の一態様として、シリコーン樹脂粘着剤を用いる場合を例に挙げて説明する。
図3に示すように、貼り付け工程は、まず、研磨テーブル110の表面(貼り付け面110a)にシリコーン粘着剤を塗布する(ステップS101)。続いて、貼り付け工程は、研磨テーブル110に塗布されたシリコーン粘着剤を熱処理する(ステップS102)。この熱処理は、例えば、研磨テーブル110とシリコーン粘着剤とをまとめて、例えば約150℃〜約200℃程度の熱をかける処理である。この熱処理によって、シリコーン粘着剤は、研磨テーブル110の貼り付け面110aに良好にコーティングされる。
続いて、貼り付け工程は、熱処理されたシリコーン粘着剤上に、研磨パッド108を貼り付ける(ステップS103)。なお、研磨パッド108の裏面108bにはあらかじめ粘着面109が塗布されており、ステップS103では、研磨パッド108の粘着面109をシリコーン粘着剤の上に貼り付ける。これによって、研磨パッド108の貼り付け工程が終了する。
続いて、研磨工程は、第1の電動モータ112を回転する(ステップS104)ことによって、研磨テーブル110を回転させる。続いて、研磨工程は、第2の電動モータ118を回転する(ステップS105)ことによって、トップリング116を回転させる。
続いて、研磨工程は、トップリング116に保持した基板102を研磨パッド108の研磨面108aに押し付けて、基板102の表面を研磨する(ステップS106)。続いて、研磨工程は、基板102の研磨が終了したか否かを判定する(ステップS107)。基板102の研磨が終了したか否かの判定は、例えば、第1の電動モータ112又は第2の電動モータ118のトルク電流の変化に基づいて行うことができる。
研磨工程は、基板102の研磨が終了していないと判定したら(ステップS107,No)、研磨が終了したと判定されるまで、研磨処理を繰り返す。一方、研磨工程は、基板102の研磨が終了したと判定したら(ステップS107,Yes)、処理を終了する。
以上、本実施形態によれば、研磨パッド108の貼り替え作業を容易に行うことができ、かつ、研磨テーブル110に熱ダメージが発生するのを抑制することができる。
すなわち、本実施形態は、研磨テーブル110の貼り付け面110aと研磨パッド108(或いは粘着面109)との間に、シリコーン層111を介在させている。これによって、貼り付け面110aに直交する方向に対しては、研磨パッド108(粘着面109)の研磨テーブル110に対する粘着性が弱くなる。
したがって、例えば研磨パッド108の剥離工程において、貼り付け面110aに直交する方向に研磨パッド108を剥がすと、研磨パッド108を容易に剥がすことができる。これに加えて、シリコーン層111を介在させて研磨テーブル110と研磨パッド108とを貼り付けることによって、研磨パッド108のせん断方向(貼り付け面110aに沿った方向)での粘着力は強く保たれる。その結果、基板102の研磨中に研磨パッド108が剥がれたり、位置ずれしたりすることを抑制することができる。
また、研磨パッド108の貼り付け工程において、仮に研磨テーブル110と研磨パッド108との間に空気溜まりが発生した場合でも、この研磨パッド108を容易に剥がすことができるので、一旦研磨パッド108を剥がして再度貼り直しを容易に行うことができる。
また、本実施形態によれば、シリコーン層111を用いているため、シリコーン層111の熱処理によって研磨テーブル110に変形等の熱ダメージが生じるのを抑制することができる。
すなわち、比較例として、フッ素系樹脂の層を研磨テーブルと研磨パッドとの間に介在する場合を考えると、フッ素系樹脂を研磨テーブルにコーティングするためには、例えば300℃〜400℃といった、比較的高い温度でフッ素系樹脂を熱処理する必要があると考えられる。このような比較的高い温度で熱処理を行うと、例えば樹脂など、耐熱温度が比較的低い材質で研磨テーブルを形成した場合に、研磨テーブルの変形等の熱ダメージが
発生するおそれがある。
これに対して、本実施形態によれば、シリコーン層111を研磨テーブル110と研磨パッド108との間に介在しているため、研磨テーブル110にシリコーン層111をコーティングするための熱処理を、例えば約150℃〜約200℃といった比較的低い温度で行うことができる。このため、例えば樹脂など、耐熱温度が比較的低い材質で研磨テーブル110を形成した場合であっても、熱処理によって研磨テーブル110に変形等の熱ダメージが生じるのを抑制することができる。また、本実施形態によれば、約150℃〜約200℃といった比較的低い温度でシリコーン層111を熱処理した場合であっても、例えば300℃〜400℃といった比較的高い温度でフッ素系樹脂を熱処理した場合と同等の研磨パッド108の剥離強度(剥がれ易さ)を得ることができる。
さらに、シリコーン層111は、耐薬品性及び耐熱性に優れているため、研磨中にスラリーライン120から供給される研磨砥液の温度上昇や、研磨中の研磨テーブル110の温度上昇にも対応することができる。
また、研磨テーブル110の平面度は、基板102の研磨プロセス性能に影響を及ぼすが、この点、シリコーン層111は、例えば10±5μm程度に薄くコーティングすることができるので、研磨テーブル110の平面度を保つことができる。
また、シリコーンにセラミックを混合した樹脂系塗料を用いてシリコーン層111を形成した場合、シリコーンにセラミックを混合することによってシリコーン層111の硬度を高くすることができ、その結果、シリコーン層111の耐久性を向上させることができる。
100 研磨装置
102 基板
108 研磨パッド
108a 研磨面
108b 裏面
109 粘着面
110 研磨テーブル
110a 貼り付け面
111 シリコーン層

Claims (6)

  1. 基板を研磨するための研磨パッドが貼り付けられる貼り付け面を有する研磨テーブルと、
    前記研磨テーブルの貼り付け面上に設けられ、前記研磨テーブルと前記研磨パッドとの間に介在するシリコーン層と、
    を備えることを特徴とする研磨装置。
  2. 請求項1の研磨装置において、
    前記シリコーン層は、前記貼り付け面に塗布された、シリコーン樹脂を含有する粘着剤、又は、前記貼り付け面に貼り付けられた、シリコーン樹脂を含有する粘着シートを含む、
    ことを特徴とする研磨装置。
  3. 請求項1又は2の研磨装置において、
    前記シリコーン層は、前記貼り付け面に塗布された、シリコーンにセラミックを混合した樹脂系塗料を含む、
    ことを特徴とする研磨装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれか1項の研磨装置において、
    前記研磨テーブルは、炭化ケイ素、ステンレス鋼、樹脂、及び酸化アルミニウムの少なくとも1つを含んで形成される、
    ことを特徴とする研磨装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか1項の研磨装置において、
    前記シリコーン層と前記研磨パッドとの間に介在する研磨パッドの粘着剤をさらに備える、
    ことを特徴とする研磨装置。
  6. 基板を研磨するための研磨パッドが貼り付けられる貼り付け面を有する研磨テーブルの前記貼り付け面にシリコーン層を設け、
    前記貼り付け面に設けられたシリコーン層を熱処理し、
    前記熱処理が行われたシリコーン層の上に前記研磨パッドを貼り付ける
    ことを特徴とする研磨パッドの貼り付け方法。
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KR1020147018563A KR20150114382A (ko) 2013-01-31 2014-01-29 연마 장치, 연마 패드 부착 방법 및 연마 패드 재부착 방법
TW103103339A TWI607499B (zh) 2013-01-31 2014-01-29 Polishing device, polishing pad attachment method, and polishing pad replacement method
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017019906A1 (en) * 2015-07-30 2017-02-02 Jh Rhodes Company, Inc. Polymeric lapping materials, media and systems including polymeric lapping material, and methods of forming and using same
JP2020009987A (ja) * 2018-07-12 2020-01-16 株式会社荏原製作所 基板搬送装置および基板搬送装置を備える基板処理装置
EP3825061A2 (en) 2019-11-19 2021-05-26 Ebara Corporation Top ring for holding a substrate and substrate processing apparatus
EP3842182A1 (en) 2019-12-24 2021-06-30 Ebara Corporation Polishing unit, substrate processing apparatus, and polishing method
WO2022091500A1 (ja) 2020-10-30 2022-05-05 株式会社荏原製作所 基板を保持するためのヘッドおよび基板処理装置
WO2022145117A1 (ja) 2020-12-28 2022-07-07 株式会社荏原製作所 リテーナ、トップリング、および基板処理装置
US11433502B2 (en) 2017-06-06 2022-09-06 Ebara Corporation Polishing table and polishing apparatus having ihe same
WO2023058751A1 (ja) 2021-10-08 2023-04-13 株式会社荏原製作所 基板吸着部材、弾性シール組立体、トップリング、および基板処理装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1190814A (ja) * 1997-09-12 1999-04-06 Fujikoshi Mach Corp ウェーハの研磨用定盤装置
JP2001277102A (ja) * 2000-03-29 2001-10-09 Sumitomo Metal Ind Ltd 補助パッド及び研磨装置
JP2002036098A (ja) * 2000-07-25 2002-02-05 Mitsubishi Materials Corp 研磨パッド
JP2005052936A (ja) * 2003-08-05 2005-03-03 Toyo Ink Mfg Co Ltd 研磨パッド積層体及び両面粘着シート
JP2006351817A (ja) * 2005-06-16 2006-12-28 Shin Etsu Polymer Co Ltd 粘着性支持体
JP2011000671A (ja) * 2009-06-18 2011-01-06 Okamoto Machine Tool Works Ltd 基板用研磨定盤
JP2012144701A (ja) * 2010-12-25 2012-08-02 Nitto Denko Corp 粘着テープ、粘着テープで被覆された平角電線、およびそれを用いた電気機器

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1190814A (ja) * 1997-09-12 1999-04-06 Fujikoshi Mach Corp ウェーハの研磨用定盤装置
JP2001277102A (ja) * 2000-03-29 2001-10-09 Sumitomo Metal Ind Ltd 補助パッド及び研磨装置
JP2002036098A (ja) * 2000-07-25 2002-02-05 Mitsubishi Materials Corp 研磨パッド
JP2005052936A (ja) * 2003-08-05 2005-03-03 Toyo Ink Mfg Co Ltd 研磨パッド積層体及び両面粘着シート
JP2006351817A (ja) * 2005-06-16 2006-12-28 Shin Etsu Polymer Co Ltd 粘着性支持体
JP2011000671A (ja) * 2009-06-18 2011-01-06 Okamoto Machine Tool Works Ltd 基板用研磨定盤
JP2012144701A (ja) * 2010-12-25 2012-08-02 Nitto Denko Corp 粘着テープ、粘着テープで被覆された平角電線、およびそれを用いた電気機器

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017019906A1 (en) * 2015-07-30 2017-02-02 Jh Rhodes Company, Inc. Polymeric lapping materials, media and systems including polymeric lapping material, and methods of forming and using same
US10092991B2 (en) 2015-07-30 2018-10-09 Jh Rhodes Company, Inc. Polymeric lapping materials, media and systems including polymeric lapping material, and methods of forming and using same
US11433502B2 (en) 2017-06-06 2022-09-06 Ebara Corporation Polishing table and polishing apparatus having ihe same
JP2020009987A (ja) * 2018-07-12 2020-01-16 株式会社荏原製作所 基板搬送装置および基板搬送装置を備える基板処理装置
WO2020013151A1 (ja) 2018-07-12 2020-01-16 株式会社荏原製作所 基板搬送装置および基板搬送装置を備える基板処理装置
KR20210031893A (ko) 2018-07-12 2021-03-23 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 기판 반송 장치 및 기판 반송 장치를 구비하는 기판 처리 장치
JP7166817B2 (ja) 2018-07-12 2022-11-08 株式会社荏原製作所 基板搬送装置および基板搬送装置を備える基板処理装置
EP3825061A2 (en) 2019-11-19 2021-05-26 Ebara Corporation Top ring for holding a substrate and substrate processing apparatus
EP3842182A1 (en) 2019-12-24 2021-06-30 Ebara Corporation Polishing unit, substrate processing apparatus, and polishing method
WO2022091500A1 (ja) 2020-10-30 2022-05-05 株式会社荏原製作所 基板を保持するためのヘッドおよび基板処理装置
WO2022145117A1 (ja) 2020-12-28 2022-07-07 株式会社荏原製作所 リテーナ、トップリング、および基板処理装置
WO2023058751A1 (ja) 2021-10-08 2023-04-13 株式会社荏原製作所 基板吸着部材、弾性シール組立体、トップリング、および基板処理装置

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