JP2014160780A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014160780A5 JP2014160780A5 JP2013031429A JP2013031429A JP2014160780A5 JP 2014160780 A5 JP2014160780 A5 JP 2014160780A5 JP 2013031429 A JP2013031429 A JP 2013031429A JP 2013031429 A JP2013031429 A JP 2013031429A JP 2014160780 A5 JP2014160780 A5 JP 2014160780A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mark
- substrate
- measurement unit
- exposure apparatus
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013031429A JP6185724B2 (ja) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | 露光装置および物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013031429A JP6185724B2 (ja) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | 露光装置および物品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014160780A JP2014160780A (ja) | 2014-09-04 |
| JP2014160780A5 true JP2014160780A5 (enExample) | 2016-04-07 |
| JP6185724B2 JP6185724B2 (ja) | 2017-08-23 |
Family
ID=51612267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013031429A Active JP6185724B2 (ja) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | 露光装置および物品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6185724B2 (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6853700B2 (ja) * | 2017-03-14 | 2021-03-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、プログラム、決定方法及び物品の製造方法 |
| JP6788559B2 (ja) * | 2017-09-04 | 2020-11-25 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法、リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3209189B2 (ja) * | 1991-04-25 | 2001-09-17 | 株式会社ニコン | 露光装置及び方法 |
| JP3259314B2 (ja) * | 1992-02-03 | 2002-02-25 | 株式会社ニコン | アライメント方法、露光方法、デバイス製造方法、アライメント装置、露光装置、及び前記デバイス製造方法により製造されたデバイス |
| JPH09306811A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-28 | Nikon Corp | 露光方法 |
| TWI251722B (en) * | 2002-09-20 | 2006-03-21 | Asml Netherlands Bv | Device inspection |
| JP2004303830A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Canon Inc | マーク計測装置及び方法及び露光装置 |
| WO2007129688A1 (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-15 | Mejiro Precision, Inc. | 投影露光装置及び投影露光方法 |
| JP5041582B2 (ja) * | 2006-12-05 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | 露光装置、計測条件を選定するための方法及びデバイス製造方法 |
| JP2009031561A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Adtec Engineeng Co Ltd | 投影露光装置及び分割露光方法 |
-
2013
- 2013-02-20 JP JP2013031429A patent/JP6185724B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2011040547A5 (enExample) | ||
| JP6341883B2 (ja) | 位置検出装置、位置検出方法、インプリント装置及び物品の製造方法 | |
| JP2009182253A5 (enExample) | ||
| JP2008171960A5 (enExample) | ||
| JP2011060919A5 (enExample) | ||
| JP2013187206A5 (enExample) | ||
| CN105093845B (zh) | 光刻装置、确定方法和产品的制造方法 | |
| JP2010199615A5 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JP2011181937A5 (enExample) | ||
| TW200717186A (en) | Exposure apparatus and method | |
| TW200840988A (en) | A method of measurement, an inspection apparatus and a lithographic apparatus | |
| JP2012507173A5 (enExample) | ||
| TW201416806A (zh) | 標記位置量測裝置及方法、微影裝置及器件製造方法 | |
| JP2014072313A (ja) | アライメント計測システム、重ね合わせ計測システム及び半導体装置の製造方法 | |
| WO2013085389A3 (en) | System and method for overlay control | |
| CN105319867A (zh) | 控制紫外光的焦点的方法、控制器及其形成集成电路的装置 | |
| JP2014085123A5 (enExample) | ||
| JP2012004461A5 (enExample) | ||
| JP2010021443A5 (enExample) | ||
| JP2016058452A5 (enExample) | ||
| WO2012041461A3 (en) | Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure | |
| JP2011238788A5 (enExample) | ||
| JP2017026687A5 (enExample) | ||
| IL273110B1 (en) | Patterning methods and devices and devices for measuring the focus performance of a lithographic device, a device manufacturing method | |
| JP2014160780A5 (enExample) |