JP2014160780A - 露光装置および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に形成された複数のマークのうち第1マークを原版のマークと投影光学系とを介して検出、第1マークの基板上における位置を計測するアライメント計測部と、前記第1マークの検出と並行して、第1マークとは異なる第2マークを検出し、第2マークの基板上における位置を計測するオフアクシス計測部と、原版と各ショット領域とのアライメントを制御する制御部とを含み、オフアクシス計測部はアライメント計測部とオフアクシス計測部との距離を示す情報を用いて第2マークの基板上における位置を計測し、制御部は、第1マークの位置と第2マークの位置とを用いて各ショット領域の形状情報を取得し、原版のパターンが各ショット領域に重なるように形状情報に基づいて原版と各ショット領域とのアライメントを行う。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施形態の露光装置100における装置構成とアライメント方法について、従来の露光装置300と比較しながら説明する。第1実施形態の露光装置100、および従来の露光装置300は、原版のパターンを投影光学系を介して基板上における複数のショット領域に転写する、ステップ・アンド・スキャン方式の走査露光装置である。まず、従来の露光装置300における装置構成とアライメント方法について説明する。図6は、従来の露光装置300を示す図である。従来の露光装置300は、照明光学系1と、アライメント計測部2と、マスクステージ3bと、投影光学系4と、基板ステージ5bと、定盤6と、制御部8とを含みうる。
本発明の第2実施形態の露光装置200における装置構成とアライメント方法について、図4を参照しながら説明する。図4は、第2実施形態の露光装置200を示す図である。第2実施形態の露光装置200は、第1実施形態の露光装置100と同様に、照明光学系1と、アライメント計測部2と、マスクステージ3bと、投影光学系4と、基板ステージ5bと、定盤6と、制御部8とを含みうる。また、第2実施形態の露光装置200では、第1実施形態の露光装置100と比較してオフアクシス計測部の構成が異なっており、露光装置200のオフアクシス計測部10は、複数のオフアクシススコープ10a〜10fを含む。ここで、第2実施形態の露光装置200において、オフアクシス計測部10以外の構成は、第1実施形態の露光装置100および従来の露光装置300と同様であるため、ここでは説明を省略する。また、第2実施形態の露光装置200においても、第1実施形態の露光装置100および従来の露光装置300と同様に、アライメント計測部2には、基板5aを露光する際に用いられる光の波長とは異なる波長を有する光(非露光光)が用いられる。第2実施形態のオフアクシス計測部10においても、基板5aを露光する際に用いられる光の波長とは異なる波長を有する光(非露光光)が用いられる。
本発明の実施形態にかける物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の走査露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (9)
- 原版のパターンを投影光学系を介して基板の複数のショット領域に転写する露光装置であって、
前記基板上に形成された複数のマークのうち第1マークを前記原版のマークと前記投影光学系とを介して検出し、前記第1マークの前記基板上における位置を計測するアライメント計測部と、
前記アライメント計測部による前記第1マークの検出と並行して、前記複数のマークのうち前記第1マークとは異なる第2マークを検出し、前記第2マークの前記基板上における位置を計測するオフアクシス計測部と、
前記原版と各ショット領域とのアライメントを制御する制御部と、
を含み、
前記オフアクシス計測部は、前記アライメント計測部とオフアクシス計測部との距離を示す情報を用いて前記第2マークの前記基板上における位置を計測し、
前記制御部は、前記第1マークの位置と前記第2マークの位置とを用いて各ショット領域の形状情報を取得し、前記原版のパターンが各ショット領域に重なるように当該形状情報に基づいて前記原版と各ショット領域とのアライメントを行う、ことを特徴とする露光装置。 - 前記アライメント計測部と前記オフアクシス計測部は、1つのショット領域における前記第1マークと前記第2マークとを並行してそれぞれ検出する、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記オフアクシス計測部は、前記投影光学系と前記基板との間に配置されている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記アライメント計測部と前記オフアクシス計測部とに前記複数のマークのうち同一のマークを検出させて、当該同一のマークの前記基板上における位置をそれぞれ計測させ、前記アライメント計測部と前記オフアクシス計測部とによる計測結果に基づいて前記距離を示す情報を得る、ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記基板を保持する基板ステージを制御して、前記アライメント計測部と前記オフアクシス計測部とに前記複数のマークのうち同一のマークを検出させ、その際における前記基板ステージの移動量を前記距離を示す情報として設定する、ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記オフアクシス計測部は、前記基板の被露光面と平行な方向に移動可能に構成されている、ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は、ミラープロジェクション方式の投影光学系である、ことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記アライメント計測部は、前記基板を露光する際に用いられる光の波長とは異なる波長を有する光を用いて前記第1マークを観察する、ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018151577A (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、プログラム、決定方法及び物品の製造方法 |
CN113703288A (zh) * | 2017-09-04 | 2021-11-26 | 佳能株式会社 | 图案化方法、光刻装置和物品制造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05217848A (ja) * | 1992-02-03 | 1993-08-27 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
EP0807854A1 (en) * | 1996-05-15 | 1997-11-19 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus |
JPH11195605A (ja) * | 1991-04-25 | 1999-07-21 | Nikon Corp | 露光装置及び方法 |
JP2004303830A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Canon Inc | マーク計測装置及び方法及び露光装置 |
US20070176128A1 (en) * | 2002-09-20 | 2007-08-02 | Asml Netherlands B.V. | Alignment systems and methods for lithographic systems |
US20080130017A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
JP2008209949A (ja) * | 2006-05-10 | 2008-09-11 | Mejiro Precision:Kk | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JP2009031561A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Adtec Engineeng Co Ltd | 投影露光装置及び分割露光方法 |
-
2013
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11195605A (ja) * | 1991-04-25 | 1999-07-21 | Nikon Corp | 露光装置及び方法 |
JPH05217848A (ja) * | 1992-02-03 | 1993-08-27 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
EP0807854A1 (en) * | 1996-05-15 | 1997-11-19 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus |
JPH09306811A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-28 | Nikon Corp | 露光方法 |
US20070176128A1 (en) * | 2002-09-20 | 2007-08-02 | Asml Netherlands B.V. | Alignment systems and methods for lithographic systems |
JP2009069163A (ja) * | 2002-09-20 | 2009-04-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法 |
JP2004303830A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Canon Inc | マーク計測装置及び方法及び露光装置 |
JP2008209949A (ja) * | 2006-05-10 | 2008-09-11 | Mejiro Precision:Kk | 投影露光装置及び投影露光方法 |
US20080130017A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
JP2008147206A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-26 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009031561A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Adtec Engineeng Co Ltd | 投影露光装置及び分割露光方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018151577A (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、プログラム、決定方法及び物品の製造方法 |
CN113703288A (zh) * | 2017-09-04 | 2021-11-26 | 佳能株式会社 | 图案化方法、光刻装置和物品制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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