JP2014160780A5 - - Google Patents
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Description
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、投影光学系を介して、基板のショット領域に原版のパターンを転写する露光装置であって、前記基板上に形成された複数のマークのうち第１マークを前記投影光学系を介して検出することにより、前記第１マークの前記基板上における位置を計測する第１計測部と、前記第１計測部による前記第１マークの検出と並行して前記複数のマークのうち前記第１マークとは異なる第２マークを前記投影光学系を介さずに検出することにより、前記第２マークの前記基板上における位置を計測する第２計測部と、前記原版と前記ショット領域との位置合わせを制御する制御部と、を有し、前記第２計測部は、前記第１計測部と前記第２計測部との距離を示す情報および前記第２マークの検出結果を用いて前記第２マークの前記基板上における位置を計測し、前記制御部は、前記第１計測部により計測された前記第１マークの位置と前記第２計測部により計測された前記第２マークの位置とから得られる前記ショット領域の形状情報に基づいて、前記原版と前記ショット領域との位置合わせを制御する、ことを特徴とする。
以下に、第１実施形態の露光装置１００における装置構成とアライメント方法について、図１を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態の露光装置１００を示す図である。第１実施形態の露光装置１００は、照明光学系１と、アライメント計測部２（第１計測部）と、マスクステージ３ｂと、投影光学系４と、基板ステージ５ｂと、定盤６と、制御部８とを含みうる。また、第１実施形態の露光装置１００は、投影光学系４と基板５ａ（基板ステージ５ｂ）との間に配置されたオフアクシス計測部９１および９２（第２計測部）を含む。ここで、第１実施形態の露光装置１００において、オフアクシス計測部９１および９２以外の構成は、上述した従来の露光装置３００と同様であるため、ここでは説明を省略する。また、第１実施形態の露光装置１００においても、従来の露光装置と同様に、アライメント計測部２には、基板５ａを露光する際に用いられる光の波長とは異なる波長を有する光（非露光光）が用いられる。第１実施形態のオフアクシス計測部９１および９２においても、基板５ａを露光する際に用いられる光の波長とは異なる波長を有する光（非露光光）が用いられる。
Claims (8)
- 投影光学系を介して、基板のショット領域に原版のパターンを転写する露光装置であって、
前記基板上に形成された複数のマークのうち第１マークを前記投影光学系を介して検出することにより、前記第１マークの前記基板上における位置を計測する第１計測部と、
前記第１計測部による前記第１マークの検出と並行して前記複数のマークのうち前記第１マークとは異なる第２マークを前記投影光学系を介さずに検出することにより、前記第２マークの前記基板上における位置を計測する第２計測部と、
前記原版と前記ショット領域との位置合わせを制御する制御部と、
を有し、
前記第２計測部は、前記第１計測部と前記第２計測部との距離を示す情報および前記第２マークの検出結果を用いて前記第２マークの前記基板上における位置を計測し、
前記制御部は、前記第１計測部により計測された前記第１マークの位置と前記第２計測部により計測された前記第２マークの位置とから得られる前記ショット領域の形状情報に基づいて、前記原版と前記ショット領域との位置合わせを制御する、ことを特徴とする露光装置。 - 前記第１計測部と前記第２計測部は、１つの前記ショット領域における前記第１マークと前記第２マークとを並行してそれぞれ検出する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
- 前記第２計測部は、前記投影光学系と前記基板との間において前記第２マークを検出する、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記第１計測部と前記第２計測部とに前記複数のマークのうち同一のマークを検出させることにより当該同一のマークの前記基板上における位置をそれぞれ計測させ、前記第１計測部と前記第２計測部とによる計測結果に基づいて前記距離を示す情報を得る、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記基板を保持する基板ステージを制御して、前記第１計測部と前記第２計測部とに前記複数のマークのうち同一のマークを検出させ、その際における前記基板ステージの移動量を前記距離を示す情報として設定する、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記第２計測部は、前記基板の被露光面と平行な方向に移動可能である、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記第１計測部は、前記基板にパターンを転写するために用いられる光の波長とは異なる波長を有する光を用いて前記第１マークを検出する、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
- 請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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Country Status (1)
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