JP2014139347A - Method of treating surface of copper foil for printed circuit, copper foil produced by the same and plating apparatus for the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント回路用銅箔の表面処理に関し、より詳しくは、フレキシブルプリント回路(FPC:Flexible Printed Circuit)などのプリント回路に用いられる銅箔の表面をメッキ処理して樹脂フィルムとの接着力、耐熱性、耐酸性などを改善したプリント回路用銅箔の表面処理方法及びその銅箔、並びにメッキ装置に関する。 The present invention relates to surface treatment of copper foil for printed circuit, and more specifically, the surface of copper foil used for printed circuit such as flexible printed circuit (FPC) is subjected to plating treatment and adhesion to resin film. The present invention relates to a surface treatment method for a copper foil for printed circuit, which has improved heat resistance, acid resistance and the like, the copper foil, and a plating apparatus.
電子部品用プリント回路に用いられる基礎素材である銅箔は、電気メッキ法で電解銅箔を製造する製箔工程と、原箔に剥離強度などを与えるための後処理工程と、を通じて製造される。 Copper foil, which is a basic material used in printed circuits for electronic components, is manufactured through a foil-making process for producing electrolytic copper foil by electroplating and a post-treatment process for giving peel strength to the original foil. .
通常の製箔工程によって製造された銅箔は、電気メッキするときに陰極板から剥離され、相対的に粗度が低くて光沢のある面(S面:Shiny Side)と、S面の他面に位置し、相対的に粗度が高くて光沢のない面(M面:Matte Side)と、に区分される。 The copper foil produced by the normal foil making process is peeled off from the cathode plate when electroplating, and has a relatively low roughness and glossy surface (S surface: Shiny Side), and the other surface of the S surface. And a surface having a relatively high roughness and no gloss (M surface: Matte Side).
製箔工程で製造された電解銅箔は、後処理工程で銅ノジュールとバリアを形成する表面処理を施すことでプリント回路用に好適な物理的、化学的特性が与えられる。 The electrolytic copper foil produced in the foil-making process is given physical and chemical characteristics suitable for printed circuits by performing a surface treatment that forms a copper nodule and a barrier in the post-treatment process.
すなわち、後処理工程で銅箔は、図1に示されたように第1銅メッキ槽10、第2銅メッキ槽11、ニッケルメッキ槽12、クロムメッキ槽13などを順次通過することで電気メッキによって表面処理される。図1において、本体銅箔1は複数のガイドロール14によって各メッキ槽の内部に導かれ、最終的に巻取りロール15に巻き取られる。各メッキ槽の内部に配置されるガイドロール14には、電気メッキのためにメッキ液に印加される極性に対応する極性の電極が連結される。第1銅メッキ槽10には銅箔のM面に銅ノジュールの核を生成させるためのメッキ液が満たされ、第2銅メッキ槽11には銅ノジュールの核を成長させるためのメッキ液が満たされる。
That is, in the post-processing step, the copper foil is electroplated by sequentially passing through the first
後処理工程によってプリント回路用銅箔は、図2に示されたように、本体銅箔1のM面上に銅ノジュール層2が設けられた構造を持つ。銅ノジュール層2上には、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)などのメッキ層であるバリア層3が設けられ、耐熱、耐塩酸性、耐酸化性などが与えられる。図示されてはいないが、バリア層3上には銅箔に接着される樹脂フィルムとの接着力を向上させるために、シランカップリング剤が塗布される。
As shown in FIG. 2, the printed circuit copper foil has a structure in which the
しかし、従来の後処理工程では接着力、耐熱、耐酸特性などを増加させることに限界があり、特に銅箔とポリマー樹脂を接着させる高温熱処理工程で耐熱性が脆弱であってエッチング性が良くないという問題がある。 However, there is a limit to increasing the adhesive strength, heat resistance, acid resistance, etc. in the conventional post-treatment process, especially in the high-temperature heat treatment process for bonding copper foil and polymer resin, the heat resistance is fragile and the etching property is not good. There is a problem.
本発明は、前述したような問題点を解決するために創案されたものであり、樹脂フィルムとの接着力、耐熱、耐酸特性などを向上させるためにバリア層の金属原素成分を改善したプリント回路用銅箔の表面処理方法及びそれによって製造された銅箔、並びにそのメッキ装置を提供することを目的とする。 The present invention was devised to solve the above-described problems, and is a print in which the metal element component of the barrier layer is improved in order to improve the adhesive strength, heat resistance, acid resistance, etc. with the resin film. An object of the present invention is to provide a surface treatment method for a copper foil for circuits, a copper foil produced by the method, and a plating apparatus for the copper foil.
前述したような目的を達成するために、本発明はコバルト(Co)元素を含むバリア層を提供するプリント回路用銅箔の表面処理方法を開示する。 In order to achieve the above-described object, the present invention discloses a surface treatment method for a copper foil for a printed circuit which provides a barrier layer containing a cobalt (Co) element.
すなわち、本発明は表面粗さ(Rz)が2.0μm以下であり、屈曲特性が60回以上である銅箔の表面に銅ノジュール層を形成する第1段階、及び前記銅ノジュール層上にコバルト(Co)またはコバルト(Co)合金をメッキしてバリア層を形成する第2段階を含む表面処理工程を通じてポリイミド(PI)フィルムとの接着強度が1.0kgf/cm以上のプリント回路用銅箔を提供することができるプリント回路用銅箔の表面処理方法を開示する。 That is, the present invention is a first step of forming a copper nodule layer on the surface of a copper foil having a surface roughness (Rz) of 2.0 μm or less and a bending property of 60 times or more, and cobalt on the copper nodule layer. A copper foil for printed circuits having an adhesive strength of 1.0 kgf / cm or more with a polyimide (PI) film through a surface treatment process including a second step of plating a (Co) or cobalt (Co) alloy to form a barrier layer. Disclosed is a surface treatment method for a printed circuit copper foil that can be provided.
前記コバルト(Co)のメッキ量は0.5〜50mg/m2であることが望ましい。 The plating amount of cobalt (Co) is preferably 0.5 to 50 mg / m 2 .
前記第2段階で前記バリア層を形成するとき、亜鉛(Zn)または亜鉛(Zn)合金をメッキする処理をさらに施すことができる。 When the barrier layer is formed in the second step, a treatment of plating zinc (Zn) or a zinc (Zn) alloy can be further performed.
前記亜鉛(Zn)のメッキ量は0.5〜20mg/m2であることが望ましい。 The plating amount of zinc (Zn) is preferably 0.5 to 20 mg / m 2 .
前記第2段階で前記バリア層を形成するとき、クロム(Cr)またはクロム(Cr)合金をメッキする処理をさらに施すこともできる。 When the barrier layer is formed in the second stage, a treatment of plating chromium (Cr) or a chromium (Cr) alloy may be further performed.
前記クロム(Cr)のメッキ量は0.5〜20mg/m2であることが望ましい。 The plating amount of chromium (Cr) is preferably 0.5 to 20 mg / m 2 .
望ましくは、前記第2段階の後には前記バリア層上にシランカップリング剤を塗布する処理を施すことができる。 Preferably, after the second step, a treatment for applying a silane coupling agent on the barrier layer can be performed.
前記シランは、エポキシ系またはアミン係であることが望ましい。 The silane is preferably epoxy-based or amine-related.
本発明によれば、銅箔の銅ノジュール層上にコバルト(Co)またはコバルト(Co)合金を含むバリア層を形成することで、特に、FPC用銅箔とポリイミド(PI)樹脂間の接着力を向上させることができ、耐熱性、耐酸性、耐腐食性、エッチング性などを改善することができる。 According to the present invention, by forming the barrier layer containing cobalt (Co) or cobalt (Co) alloy on the copper nodule layer of the copper foil, in particular, the adhesive force between the copper foil for FPC and the polyimide (PI) resin. And the heat resistance, acid resistance, corrosion resistance, etching property and the like can be improved.
本明細書に添付される次の図面は、本発明の望ましい実施例を例示するものであり、発明の詳細な説明とともに本発明の技術的な思想をさらに理解させる役割をするため、本発明は図面に記載された事項だけに限定されて解釈されてはならない。
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施例を詳しく説明する。これに先立ち、本明細書及び請求範囲に使われた用語や単語は通常的や辞書的な意味に限定して解釈されてはならず、発明者自らは発明を最善の方法で説明するために用語の概念を適切に定義できるという原則に則して本発明の技術的な思想に応ずる意味及び概念で解釈されねばならない。したがって、本明細書に記載された実施例及び図面に示された構成は、本発明のもっとも望ましい一実施例に過ぎず、本発明の技術的な思想のすべてを代弁するものではないため、本出願の時点においてこれらに代替できる多様な均等物及び変形例があり得ることを理解せねばならない。 Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, the terms and words used in this specification and claims should not be construed to be limited to ordinary or lexicographic meanings, and the inventor himself should explain the invention in the best possible manner. It must be interpreted with the meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention in accordance with the principle that the term concept can be appropriately defined. Therefore, the configuration described in the embodiments and drawings described in this specification is only the most preferable embodiment of the present invention, and does not represent all of the technical idea of the present invention. It should be understood that there are various equivalents and variations that can be substituted at the time of filing.
本発明では、製箔処理を施して銅箔を製造した後、銅箔のM面に銅をメッキして多数のノジュール構造を形成するノジュール処理(S110)と、銅ノジュール構造の上にコバルト(Co)成分を含むメッキ層を形成して物理的、化学的特性を強化するバリア層メッキ処理(S120)と、を含む表面処理工程を施す。 In the present invention, a copper foil is manufactured by performing a foil manufacturing process, and then a nodule process (S110) in which copper is plated on the M surface of the copper foil to form a number of nodule structures, and cobalt ( A surface treatment process including a barrier layer plating process (S120) for strengthening physical and chemical characteristics by forming a plating layer containing a (Co) component is performed.
図4には、本発明の望ましい実施例による表面処理方法を行うためのプリント回路用銅箔メッキ装置の概略的な構成が示されている。 FIG. 4 shows a schematic configuration of a copper foil plating apparatus for a printed circuit for performing a surface treatment method according to a preferred embodiment of the present invention.
図4を参照すれば、本発明の望ましい実施例によるプリント回路用銅箔メッキ装置は、銅箔上に銅ノジュール構造を形成するための第1銅メッキ槽100及び第2銅メッキ槽101と、銅ノジュール構造の上にバリア層を形成するためのコバルトメッキ槽102と、を含む。
Referring to FIG. 4, a copper foil plating apparatus for a printed circuit according to a preferred embodiment of the present invention includes a first
第1銅メッキ槽100には銅箔のM面に銅ノジュールの核を生成させるためのメッキ液が満たされ、第2銅メッキ槽101には銅ノジュールの核を成長させるためのメッキ液が満たされる。
The first
コバルトメッキ槽102には、ポリイミド(PI)などの樹脂フィルムに対する接着強度が高く、耐熱性、耐酸性、及び耐腐食性に優れたコバルト(Co)またはコバルト(Co)合金成分を含むメッキ液が満たされる。 In the cobalt plating tank 102, a plating solution containing cobalt (Co) or a cobalt (Co) alloy component having high adhesive strength to a resin film such as polyimide (PI) and excellent in heat resistance, acid resistance, and corrosion resistance. It is filled.
コバルト(Co)成分によって与えられる物理的、化学的特性をより強化するために、プリント回路用銅箔メッキ装置には亜鉛(Zn)または亜鉛(Zn)合金成分を含むメッキ液が満たされる亜鉛メッキ槽103と、クロム(Cr)またはクロム(Cr)合金成分を含むメッキ液が満たされるクロムメッキ槽104と、がさらに備えられる。
In order to further enhance the physical and chemical properties provided by the cobalt (Co) component, the copper foil plating apparatus for printed circuits is filled with a plating solution containing zinc (Zn) or a zinc (Zn) alloy component. A
コバルトメッキ槽102に満たされるメッキ液中のコバルト(Co)含量、及び亜鉛メッキ槽103に満たされるメッキ液中の亜鉛(Zn)含量は、1.0g/lに設定され得る。2つのメッキ液のpHは12、温度は30℃を保持することが望ましい。
The cobalt (Co) content in the plating solution filled in the cobalt plating bath 102 and the zinc (Zn) content in the plating solution filled in the galvanizing
製箔工程によって製造された本体銅箔200は、第1銅メッキ槽100、第2銅メッキ槽101、コバルトメッキ槽102、亜鉛メッキ槽103、及びクロムメッキ槽104を順次連続的に通過することで電気メッキによって表面処理される。ここで、本体銅箔200は複数のガイドロール105によって各メッキ槽の内部に導かれ、最終的に巻取りロール106に巻き取られる。各メッキ槽の内部に配置されるガイドロール105は、電気メッキのために該当メッキ液に印加される極性に対応する極性の電極が連結されて通電される。
The main
図5には、本発明の望ましい実施例によるプリント回路用銅箔メッキ装置によって製作されたプリント回路用銅箔の構成が示されている。 FIG. 5 shows a structure of a copper foil for a printed circuit manufactured by a copper foil plating apparatus for a printed circuit according to a preferred embodiment of the present invention.
図5に示されたように、プリント回路用銅箔は、本体銅箔200と、本体銅箔200のM面上に形成される銅ノジュール層201と、銅ノジュール層201上に設けられ、コバルト(Co)を始め亜鉛(Zn)、クロム(Cr)などの成分を含むバリア層202と、を含む。
As shown in FIG. 5, the copper foil for a printed circuit is provided on the main
プリント回路用銅箔に求められる物理的特性を考慮すると、本体銅箔200の表面粗さ(Rz)は2.0μm以下であることが望ましい。本体銅箔200の表面粗さ(Rz)が2.0μmを超える場合には、過度に銅箔の表面が凸凹になる問題がある。
In consideration of physical characteristics required for the copper foil for printed circuit, the surface roughness (Rz) of the main
銅ノジュール層201上にメッキされるコバルト(Co)成分は、ポリイミド(PI)などの樹脂フィルムに対する接着強度、耐熱性、耐塩酸性、耐腐食性などを高める作用をする。バリア層202において、コバルト(Co)のメッキ量は0.5〜50mg/m2であることが効果的である。
The cobalt (Co) component plated on the
亜鉛(Zn)とクロム(Cr)成分は、バリア層202の耐熱、耐薬品性、耐酸化性などをより強化させる作用をする。ここで、亜鉛(Zn)のメッキ量は0.5〜20mg/m2であることが効果的であり、クロム(Cr)のメッキ量は0.5〜20mg/m2であることが効果的である。
The zinc (Zn) and chromium (Cr) components act to further enhance the heat resistance, chemical resistance, oxidation resistance, and the like of the
バリア層202上には、銅箔に接着される樹脂フィルムとの接着力を向上させるためにシランカップリング剤(図示せず)が塗布される。ここで、シランとしては、エポキシ系またはアミン系が望ましい。
A silane coupling agent (not shown) is applied on the
剥離強度を改善するためにプリント回路用銅箔は、本体銅箔200の表面粗さ(Rz)が2.0μm以下であり、屈曲特性(屈曲回数)が60回以上である構造を持つ。また、プリント回路用銅箔はポリイミド(PI)フィルムとの接着強度が1.0kgf/cm以上であり、HCl(塩酸)に対する耐薬品性が2%以下であることが求められる。ここで、屈曲特性は本体銅箔200を曲げてから伸ばす動作を繰り返す屈曲テストを行い、破断現象が生じない耐破断屈曲回数を測定することで決定される。また、耐薬品性はプリント回路基板の配線パターンの形態に加工された銅箔サンプルをHCLに浸けるテストを行い、銅箔サンプルの幅方向にHCLが浸透した深さを測定した後、これを銅箔サンプルの本来の幅に対するパーセンテージに換算することで決定される。
In order to improve the peel strength, the copper foil for printed circuit has a structure in which the main
表1には、本発明の一実施例によるプリント回路用銅箔の剥離強度特性と耐薬品性の指標になるHCl性を従来技術(比較例)と比べた結果が示されている。 Table 1 shows the results of comparing the peel strength characteristics of the copper foil for printed circuits according to one embodiment of the present invention and the HCl property, which is an index of chemical resistance, with the prior art (comparative example).
表1において、本発明の実施例は12μm厚の本体銅箔に対してコバルト(Co)と亜鉛(Zn)をそれぞれ10mg/m2ずつメッキしてバリア層202を成した場合であり、樹脂フィルムとしてポリイミド(PI)を接着した後、180℃で48時間熱処理し
て銅箔の剥離強度とHCl性を測定した結果である。
In Table 1, examples of the present invention are cases where a
一方、比較例は12μm厚の本体銅箔に対してニッケル(Ni)を主成分にしてバリア層を形成した場合であり、樹脂フィルムとしてポリイミド(PI)を接着した後、180℃で48時間熱処理して銅箔の剥離強度とHCl性を測定した結果である。 On the other hand, a comparative example is a case where a barrier layer is formed with nickel (Ni) as a main component on a main body copper foil having a thickness of 12 μm. After polyimide (PI) is bonded as a resin film, heat treatment is performed at 180 ° C. for 48 hours. Then, the peel strength and HCl property of the copper foil were measured.
表1を参照すれば、本発明を適用したとき従来技術に比べて常温、及び熱処理後の剥離強度特性が全て改善し、耐薬品性も向上することが確認できる。 Referring to Table 1, it can be confirmed that when the present invention is applied, the peel strength characteristics after normal temperature and after heat treatment are all improved and the chemical resistance is improved as compared with the prior art.
以上のように、本発明がたとえ限定された実施例及び図面によって説明されたが、本発明はこれによって限定されるものでなく、本発明が属する技術分野で通常の知識を持つ者によって本発明の技術思想と特許請求の範囲の均等範囲内で多様な修正及び変形が可能であることは言うまでもない。 As described above, the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings. However, the present invention is not limited thereto, and the present invention can be obtained by a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs. It goes without saying that various modifications and variations can be made within the scope of the technical idea and the scope of claims.
100 第1銅メッキ槽
101 第2銅メッキ槽
102 コバルトメッキ槽
103 亜鉛メッキ槽
104 クロムメッキ槽
105 ガイドロール
106 巻取りロール
200 本体銅箔
201 銅ノジュール層
202 バリア層
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記銅ノジュール層上にコバルト(Co)またはコバルト(Co)合金をメッキしてバリア層を形成する第2段階と、を含んで、
ポリイミド(PI)フィルムとの接着強度が1.0kgf/cm以上であるプリント回路用銅箔を提供するプリント回路用銅箔の表面処理方法。 A first step of forming a copper nodule layer on the surface of the copper foil having a surface roughness (Rz) of 2.0 μm or less and a bending property of 60 times or more;
Forming a barrier layer by plating cobalt (Co) or a cobalt (Co) alloy on the copper nodule layer,
The surface treatment method of the copper foil for printed circuits which provides the copper foil for printed circuits whose adhesive strength with a polyimide (PI) film is 1.0 kgf / cm or more.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106513438A (en) * | 2016-10-31 | 2017-03-22 | 中色奥博特铜铝业有限公司 | Preparation method of high-precision rolled copper foil for lithium battery |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5605026B2 (en) * | 2010-07-02 | 2014-10-15 | 富士通株式会社 | Electronic component manufacturing method and electronic component |
KR20140034698A (en) * | 2012-09-12 | 2014-03-20 | 주식회사 두산 | Surface treatment method of a copper foil and the copper foil surface-treated by the method |
KR102370441B1 (en) * | 2014-11-21 | 2022-03-03 | 에스케이넥실리스 주식회사 | Ito metal laminate having excellent adhesion and etching performance and method for forming electrode |
KR102377288B1 (en) * | 2014-11-21 | 2022-03-21 | 에스케이넥실리스 주식회사 | Ito metal laminate having excellent adhesion and etching performance and method for forming electrode |
KR102377293B1 (en) * | 2014-11-21 | 2022-03-21 | 에스케이넥실리스 주식회사 | Ito metal laminate having excellent adhesion and etching performance and method for forming electrode |
KR102370449B1 (en) * | 2014-11-21 | 2022-03-03 | 에스케이넥실리스 주식회사 | Ito metal laminate having excellent adhesion and etching performance and method for forming electrode |
KR102323903B1 (en) * | 2015-10-27 | 2021-11-08 | 에스케이넥실리스 주식회사 | Copper Foil Capable of Improving Dimension Stability of Flexible Printed Circuit Board, Method for Manufacturing The Same, and Flexible Copper Clad Laminate Comprising The Same |
JP6631834B2 (en) * | 2016-01-26 | 2020-01-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Metal-clad laminate, metal member with resin, and wiring board |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0987888A (en) * | 1995-09-28 | 1997-03-31 | Nikko Gould Foil Kk | Treatment of copper foil for printed circuit |
JP2004238647A (en) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Furukawa Techno Research Kk | Smoothened copper foil, and production method therefor |
JP2006152420A (en) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Electrolytic copper foil and method for producing the same |
JP2007217787A (en) * | 2005-03-31 | 2007-08-30 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Method for producing electrolytic copper foil, electrolytic copper foil produced by the method, surface-treated electrolytic copper foil obtained by using the electrolytic copper foil, copper-clad laminate using the surface-treated electrolytic copper foil, and printed circuit board |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0654831B2 (en) * | 1990-08-14 | 1994-07-20 | 株式会社ジャパンエナジー | Method of treating copper foil for printed circuits |
JP2717910B2 (en) * | 1992-11-19 | 1998-02-25 | 日鉱グールド・フォイル株式会社 | Copper foil for printed circuit and manufacturing method thereof |
JPH0874090A (en) * | 1994-09-09 | 1996-03-19 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Copper foil for printed circuit board |
JP2875186B2 (en) * | 1995-06-08 | 1999-03-24 | 日鉱グールド・フォイル株式会社 | Processing method of copper foil for printed circuit |
JPH11340595A (en) * | 1998-05-21 | 1999-12-10 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Copper foil for printed circuit board and copper foil attached with resin |
WO2003102277A1 (en) * | 2002-06-04 | 2003-12-11 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Surface treatment copper foil for low dielectric substrate, copper clad laminate including the same and printed wiring board |
JP2004119961A (en) * | 2002-09-02 | 2004-04-15 | Furukawa Techno Research Kk | Copper foil for chip-on film, plasma display panel, and high-frequency printed wiring board |
KR100654737B1 (en) | 2004-07-16 | 2006-12-08 | 일진소재산업주식회사 | Method of manufacturing Surface-treated Copper Foil for PCB having fine-circuit pattern and Surface-treated Copper Foil thereof |
JP2006210689A (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd | Copper foil for high frequency printed wiring board and its production method |
JP4626390B2 (en) * | 2005-05-16 | 2011-02-09 | 日立電線株式会社 | Copper foil for printed wiring boards in consideration of environmental protection |
JP2007332418A (en) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd | Surface treated copper foil |
US8642893B2 (en) * | 2007-09-28 | 2014-02-04 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil for printed circuit and copper-clad laminate |
JP4477665B2 (en) * | 2007-12-10 | 2010-06-09 | 古河電気工業株式会社 | Electrolytic copper foil and wiring board |
JP2009164488A (en) * | 2008-01-09 | 2009-07-23 | Hitachi Cable Ltd | Copper foil for a printed wiring board |
JP5151761B2 (en) * | 2008-01-10 | 2013-02-27 | 日立電線株式会社 | Method for producing rolled copper foil for printed wiring board |
JP5136768B2 (en) * | 2008-01-21 | 2013-02-06 | 日立電線株式会社 | Copper foil for circuit boards |
-
2008
- 2008-03-31 KR KR1020080029645A patent/KR100983682B1/en active IP Right Grant
-
2009
- 2009-03-25 JP JP2009073588A patent/JP2009242945A/en active Pending
-
2014
- 2014-03-18 JP JP2014054622A patent/JP2014139347A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0987888A (en) * | 1995-09-28 | 1997-03-31 | Nikko Gould Foil Kk | Treatment of copper foil for printed circuit |
JP2004238647A (en) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Furukawa Techno Research Kk | Smoothened copper foil, and production method therefor |
JP2006152420A (en) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Electrolytic copper foil and method for producing the same |
JP2007217787A (en) * | 2005-03-31 | 2007-08-30 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Method for producing electrolytic copper foil, electrolytic copper foil produced by the method, surface-treated electrolytic copper foil obtained by using the electrolytic copper foil, copper-clad laminate using the surface-treated electrolytic copper foil, and printed circuit board |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106513438A (en) * | 2016-10-31 | 2017-03-22 | 中色奥博特铜铝业有限公司 | Preparation method of high-precision rolled copper foil for lithium battery |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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KR20090104289A (en) | 2009-10-06 |
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