JP2014123590A - 洗浄装置 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 112
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 79
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】洗浄装置1に備える洗浄液供給手段10は、複数の噴出口12を有する噴出ノズル11と、この噴出ノズル11をウェーハWの上方において水平移動させる移動手段13とを備えているため、複数の噴出口12から洗浄液をウェーハWの表面Waにむけて噴出し、その表面Waで衝突する洗浄点を洗浄液の噴出毎に形成できる。したがって、噴出口を一箇所に有した噴出ノズルを備える従来の洗浄装置に比べて被加工物の洗浄時間を短縮することができる。また、複数の噴出口12は、各噴出口12から噴出される洗浄液の液柱17が互いに接触しないように間隔をおいて配置されているため、洗浄液の液柱17同士が接触することがなく、洗浄液の流速を落とすことなくウェーハWの表面Waに洗浄液を噴出できる。
【選択図】図2
Description
したがって、噴出口を一箇所に有した噴出ノズルを備える従来の洗浄装置に比べて被加工物に対する洗浄性が向上し、サイズの大きい被加工物を洗浄する場合においても洗浄時間を従来に比べて短縮することが可能となり、製品の生産性も向上する。
5:モータ 6a:エアシリンダ 6b:ピストン
10:洗浄液供給手段 11:噴出ノズル 12:噴出口
13:移動手段 13a:アーム 13b:モータ
14:高圧ポンプ 15:バルブ 16:洗浄液供給源 17:液柱 18:洗浄点
20:乾燥エアー供給手段
H:距離
W:ウェーハ F:フレーム T:保護テープ
Claims (2)
- 被加工物を保持して回転可能な保持テーブルと該保持テーブルに保持された被加工物に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを少なくとも備える洗浄装置であって、
該洗浄液供給手段は、洗浄液供給源に接続され該保持テーブルに保持された被加工物に洗浄液を噴出する複数の噴出口を有する噴出ノズルと、
回転する被加工物上で該噴出ノズルを移動させる移動手段と、を備える洗浄装置。 - 前記噴出ノズルの複数の前記噴出口は、各該噴出口から噴出される液柱が互いに接触しない間隔を設けて配置される、請求項1に記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012277628A JP2014123590A (ja) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012277628A JP2014123590A (ja) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 洗浄装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2014123590A true JP2014123590A (ja) | 2014-07-03 |
Family
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JP2012277628A Pending JP2014123590A (ja) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 洗浄装置 |
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JP2016157723A (ja) * | 2015-02-23 | 2016-09-01 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004079908A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法 |
JP2007180144A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010056376A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 |
JP2011066301A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004079908A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法 |
JP2007180144A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010056376A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 |
JP2011066301A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016157723A (ja) * | 2015-02-23 | 2016-09-01 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
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