JP2014116433A - 基板保持部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板保持部材10は、保持部材本体11の上面に、第1の環状凸部12と、第1の環状凸部12内側の第2の環状凸部13a,13bと、第1の環状凸部12の内側の領域に所定間隔で配置され、かつ第2の環状凸部の上端と比較して高く突出した複数のピン14とを備える。保持部材本体11は、第2の環状凸部13b内側の内殻領域15及び隣り合う2つの環状凸部内側の外殻領域17a,17bに夫々吸引口を備える。
【選択図】図1
Description
次に、添付の図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。図1Aは本発明の実施形態の基板保持部材の概略構成を示す平面図であり、図1Bは図1AのII−II線断面図を示す。本発明の実施形態の基板保持部材10は、低熱膨張率の材料、例えばAl2O3、SiC、B4C等のセラミックスによって構成されている。尚、符号21で示された図1Bの一点鎖線は、基板保持部材10の中心線を示す。
図1に示されている構成の基板保持部材は、以下の手順にしたがって製造される。
次に、基板の裏面中央を中心に凸状に湾曲した反りを有する基板30を例に、本実施形態の基板保持部材10を用いた基板の保持方法について、図2を用いて説明する。図2Aは、基板30を基板保持部材10に載置した状態を示す図であり、図2Bは、基板30を基板保持部材10に吸引して保持した状態を示す図である。
実施例として、直径310mmで厚さ12mmの円形板状の保持部材本体の上面に同心状に形成された、保持部材本体に半径148mmで保持部材本体上面からの高さ0.1mm、幅0.2mmの円環状の第1の環状凸部と、第1の環状凸部内側に形成された2つの第2の環状凸部(半径100mmで保持部材本体上面からの高さ0.09mmの環状凸部と、半径50mmで保持部材本体上面からの高さ0.09mmの環状凸部)とを有する基板保持部材を形成した。
次に、本発明の他の実施形態を図3に従って説明する。図3は、他の実施形態の基板保持部材からピン14を省略して示す概要図である。図1Aに示される実施形態の基板保持部材10では吸引口16cが排気口20から最短距離に設けられているのに対して、図3に示される他の実施形態の基板保持部材30は外殻領域17aの吸引口38aが排気口40から最短距離になるように設けられている。
Claims (5)
- 基板を保持する基板保持部材であって、
保持部材本体と、
前記保持部材本体の上面に形成された第1の環状凸部と、
前記保持部材本体の上面に前記第1の環状凸部の内側に形成された少なくとも1つの第2の環状凸部と、
前記保持部材本体の上面の少なくとも前記第1の環状凸部の内側の領域に所定間隔で配置され、かつ前記第2の環状凸部の上端と比較して高く突出した前記基板を支持する複数のピンとを備え、
前記保持部材本体は、
最も内側の前記第2の環状凸部の内側の内殻領域に形成された少なくとも1つの第1の吸引口と、
前記第1の環状凸部及び前記第2の環状凸部の中から隣り合う2つの環状凸部により挟まれる外殻領域毎に形成された少なくとも1つの第2の吸引口と、
前記第1の吸引口及び前記第2の吸引口を介して、前記基板を前記基板保持部材に吸引するための吸引経路とを備える基板保持部材。 - 請求項1記載の基板保持部材であって、
前記吸引経路は前記基板保持部材の外部に真空排気するための共通の排気口を備え、
前記排気口から前記第1の吸引口までの前記吸引経路を介した流体抵抗が、前記排気口から前記第2の吸引口までの前記吸引経路を介した流体抵抗と異なることを特徴とする基板保持部材。 - 請求項2記載の基板保持部材であって、
前記排気口から各吸引口までの流体抵抗は、前記内殻領域を基準として最も外側の第2の吸引口から前記第1の吸引口まで中心方向に次第に小さくなるように、前記第1の吸引口と、前記第2の吸引口と、前記排気口と、前記吸引経路とが構成されていることを特徴とする基板保持部材。 - 請求項3記載の基板保持部材であって、
前記排気口から前記第1の吸引口までの前記吸引経路に沿った距離は、前記排気口から前記第2の吸引口までの前記吸引経路に沿った距離よりも短いことを特徴とする基板保持部材。 - 請求項4記載の基板保持部材であって、
前記第1の吸引口及び前記第2の吸引口は、一本の吸引経路で連通するように形成されていることを特徴とする基板保持部材。
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016092239A (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-23 | 株式会社東芝 | 保持装置及び処理装置 |
JP2017112343A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置および基板保持方法 |
WO2017104732A1 (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置、基板保持部材および基板保持方法 |
JP2017118105A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-29 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置、基板保持部材および基板保持方法 |
JP2017135331A (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置 |
JP2018018945A (ja) * | 2016-07-27 | 2018-02-01 | 日本特殊陶業株式会社 | 真空吸着部材 |
JP2019505841A (ja) * | 2016-02-08 | 2019-02-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、基板をアンロードする方法、及び基板をロードする方法 |
JP2019114588A (ja) * | 2017-12-21 | 2019-07-11 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材 |
JP2020031150A (ja) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 日本特殊陶業株式会社 | 真空チャック及びその製造方法 |
JP2020068317A (ja) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材 |
KR20230060331A (ko) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 피에스케이 주식회사 | 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2004221296A (ja) * | 2003-01-15 | 2004-08-05 | Nikon Corp | 基板保持装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2007012838A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Nikon Corp | 基板保持方法、位置計測方法、基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法 |
JP2007273693A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 基板保持部材及び基板保持方法、基板保持装置、並びに露光装置及び露光方法 |
JP2010530636A (ja) * | 2007-06-21 | 2010-09-09 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | クランプデバイスおよびオブジェクトロード方法 |
-
2012
- 2012-12-07 JP JP2012268824A patent/JP6108803B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10242255A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 真空吸着装置 |
JP2004221296A (ja) * | 2003-01-15 | 2004-08-05 | Nikon Corp | 基板保持装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2007012838A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Nikon Corp | 基板保持方法、位置計測方法、基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法 |
JP2007273693A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 基板保持部材及び基板保持方法、基板保持装置、並びに露光装置及び露光方法 |
JP2010530636A (ja) * | 2007-06-21 | 2010-09-09 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | クランプデバイスおよびオブジェクトロード方法 |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016092239A (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-23 | 株式会社東芝 | 保持装置及び処理装置 |
KR102071123B1 (ko) * | 2015-12-18 | 2020-01-29 | 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 | 기판유지장치, 기판유지부재 및 기판유지방법 |
US10836018B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-11-17 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Substrate holding device, substrate holding member, and substrate holding method |
JP2017112343A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置および基板保持方法 |
KR20180002859A (ko) * | 2015-12-18 | 2018-01-08 | 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 | 기판유지장치, 기판유지부재 및 기판유지방법 |
WO2017104732A1 (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置、基板保持部材および基板保持方法 |
TWI636337B (zh) * | 2015-12-18 | 2018-09-21 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | 基板保持裝置、基板保持構件及基板保持方法 |
JP2017118105A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-29 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置、基板保持部材および基板保持方法 |
JP2017135331A (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置 |
JP2019505841A (ja) * | 2016-02-08 | 2019-02-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、基板をアンロードする方法、及び基板をロードする方法 |
US11664264B2 (en) | 2016-02-08 | 2023-05-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, method for unloading a substrate and method for loading a substrate |
JP2021043450A (ja) * | 2016-02-08 | 2021-03-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、基板をアンロードする方法、及び基板をロードする方法 |
JP2018018945A (ja) * | 2016-07-27 | 2018-02-01 | 日本特殊陶業株式会社 | 真空吸着部材 |
JP2019114588A (ja) * | 2017-12-21 | 2019-07-11 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材 |
JP2020031150A (ja) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 日本特殊陶業株式会社 | 真空チャック及びその製造方法 |
JP7157592B2 (ja) | 2018-08-23 | 2022-10-20 | 日本特殊陶業株式会社 | 真空チャック及びその製造方法 |
JP2020068317A (ja) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材 |
JP7125326B2 (ja) | 2018-10-25 | 2022-08-24 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材 |
KR20230060331A (ko) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 피에스케이 주식회사 | 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
KR102654902B1 (ko) * | 2021-10-27 | 2024-04-29 | 피에스케이 주식회사 | 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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