JP6325933B2 - 真空チャック - Google Patents
真空チャック Download PDFInfo
- Publication number
- JP6325933B2 JP6325933B2 JP2014152935A JP2014152935A JP6325933B2 JP 6325933 B2 JP6325933 B2 JP 6325933B2 JP 2014152935 A JP2014152935 A JP 2014152935A JP 2014152935 A JP2014152935 A JP 2014152935A JP 6325933 B2 JP6325933 B2 JP 6325933B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chuck
- vacuum
- wall member
- annular wall
- chuck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
図1に示されている本発明の一実施形態としての真空チャック1は、いわゆるポーラスチャックであり、略平板状の多孔質体11と、緻密質体12とを備えている。多孔質体11はアルミナ、窒化珪素、炭化珪素およびジルコニアから選択される1種のセラミックスとガラスとからなる。緻密質体12はアルミナ、窒化珪素、炭化珪素およびジルコニアから選択される1種のセラミックス、好ましくは多孔質体11を構成するセラミックスと同種のセラミックスからなる。
前記構成の真空チャック1によれば、図2(a)に示されているように、対象物Wの外側領域に対して全周または略全周にわたり環状壁部材を当接させることで、対象物W、環状壁部材2および真空チャック1により閉空間が画定される。対象物Wは外側に向かうにつれて徐々に上昇するように反っている。この閉空間が真空チャック1の真空吸引経路を介して真空吸引されることにより対象物に対して真空チャック1に向かう力(下方への力)が作用し、図2(b)に示されているように柔軟性がある環状壁部材2がその上端部が外側に倒れるように変形する。そして、図2(c)に示されているように、対象物Wがその内側領域において真空チャック1に当接する一方、その外側領域において変形した環状壁部材2に当接しながら全体的に基準面に沿った姿勢で真空チャック1に吸着保持される。
このように、対象物Wの反りの矯正に際して硬質の部材を当該対象物に対して当接させることもなく、かつ、前記閉空間の真空吸引という単一工程によって対象物Wの反りの矯正および当該対象物Wの吸着保持が実現される。すなわち、パーティクル等の発生を抑制しながら、対象物Wの反りの矯正および当該対象物Wの吸着保持に要する時間の短縮が図られ、スループットの維持および向上が図られる。
外径φ280[mm]および厚さt10[mm]を有する略円盤状の多孔質体11と、外径φ290[mm]および厚さt20[mm]を有する緻密質体12とを備えている真空チャック1(ポーラスチャック)が作製された。厚さ1.0[mm]のゴム板からなる環状壁部材2が、真空チャック1の外周面に全周にわたって巻回された状態でシリコーン接着剤により気密に接着されている。環状壁部材2は真空チャック1の上端面(基準面)よりも5[mm]だけ上方に突出している。このようにして実施例の真空チャック1が準備された。
外径φ280[mm]および厚さt10[mm]を有する略円盤状の多孔質体11と、外径φ290[mm]および厚さt20[mm]を有する緻密質体12とを備えている真空チャック1(ポーラスチャック)が作製された。比較例の真空チャック1は環状壁部材2を備えていない。表2には、中心よりも外縁が、外側に向かうにつれて徐々に上昇するように反っている各対象物Wの当該反り量および当該評価結果が示されている。
真空チャックとしては前記実施形態のようなポーラスチャックのほか、いわゆるピンチャックが採用されてもよい(特開2009−206455号公報など参照)。この場合、真空チャックは、略平板状のセラミックス緻密質体からなり、その上端面に対象物Wに当接する複数のピンまたは突起が形成されている。緻密質体には当該複数のピンが形成されている上端面に連通する真空吸引経路が形成されている。
Claims (2)
- 真空吸引経路を介して薄板状の対象物に対して真空吸引力を作用させることにより、当該対象物を基準面に沿った姿勢で吸着保持するように構成されている真空チャックであって、
前記真空チャックは、多孔質体と、緻密質体と、を備え、
前記緻密質体には凹部が形成され、前記凹部の側面と前記多孔質体の側面とが全周にわたり隙間なく接合された状態で前記緻密質体が前記多孔質体を支持し、
前記真空チャックの前記緻密質体の外周面に対して全周にわたり密着し、かつ、前記対象物に対する真空吸引力の作用方向とは逆方向について前記基準面よりも環状に均等に延出している柔軟性がある環状壁部材を備えていることを特徴とする真空チャック。
- 請求項1記載の真空チャックにおいて、前記環状壁部材が、前記対象物に対する真空吸引力の作用方向とは逆方向について前記基準面から離間するにつれて外側に拡がるように構成されていることを特徴とする真空チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014152935A JP6325933B2 (ja) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | 真空チャック |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014152935A JP6325933B2 (ja) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | 真空チャック |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016031979A JP2016031979A (ja) | 2016-03-07 |
JP6325933B2 true JP6325933B2 (ja) | 2018-05-16 |
Family
ID=55442207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014152935A Active JP6325933B2 (ja) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | 真空チャック |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6325933B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7007816B2 (ja) * | 2017-06-08 | 2022-01-25 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル |
JP2023061565A (ja) | 2021-10-20 | 2023-05-02 | 株式会社ディスコ | ウェーハの研削方法及び研削装置 |
CN114023684A (zh) * | 2021-11-01 | 2022-02-08 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 绷膜承载晶圆的刻蚀装置 |
CN116103628A (zh) * | 2023-04-13 | 2023-05-12 | 华羿微电子股份有限公司 | 一种晶圆蒸镀辅助装片装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5917159U (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-02 | 株式会社東芝 | 真空チヤツク装置 |
-
2014
- 2014-07-28 JP JP2014152935A patent/JP6325933B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016031979A (ja) | 2016-03-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6546550B2 (ja) | 真空吸着部材および真空吸着方法 | |
WO2017086333A1 (ja) | 真空チャック | |
JP6325933B2 (ja) | 真空チャック | |
TWI694539B (zh) | 基板保持裝置及其製造方法 | |
TWI690017B (zh) | 基板保持裝置 | |
JP2018078284A5 (ja) | ||
TW201343317A (zh) | 吸著盤 | |
JP6725326B2 (ja) | 真空チャック及び真空チャックの製造方法 | |
JP6789006B2 (ja) | 真空吸着装置 | |
JP2016143706A (ja) | 基板保持装置および半導体装置の製造方法 | |
KR102071123B1 (ko) | 기판유지장치, 기판유지부재 및 기판유지방법 | |
JP2018110148A (ja) | 真空吸着部材 | |
US10748805B2 (en) | Vacuum attraction member | |
JP7021969B2 (ja) | 真空吸着部材および真空吸着方法 | |
JP5329916B2 (ja) | 半導体ウエハの支持具 | |
JP4447497B2 (ja) | 基板保持具 | |
US10381256B2 (en) | Apparatus and method for chucking warped wafers | |
JP6581495B2 (ja) | 基板保持装置 | |
CN211614566U (zh) | 真空吸附盘 | |
JP6894772B2 (ja) | 真空チャック | |
JP2020177952A (ja) | 基板保持部材 | |
JP2021197373A (ja) | 基板保持装置 | |
KR102422147B1 (ko) | 캐리어 필름 클램프 장치 | |
JP2017199790A (ja) | 真空吸着部材 | |
JP2023098194A (ja) | 基板保持部材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20160401 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171031 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180403 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6325933 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |