JP2014084339A - 光硬化性インクジェットインクおよび該インクから得られる撥液性硬化膜 - Google Patents

Abstract

【課題】高屈折率および高光線透過率である撥液性硬化膜であって、凹凸がほとんどない膜均一性および撥液性に優れる撥液性硬化膜を形成可能な光硬化性インクジェットインクを提供し、撥液性硬化膜表面上に形状が良好でパターンサイズの制御されたマイクロレンズを形成することを可能とする。
【解決手段】本発明の光硬化性インクジェットインクは、下記式（１）で表される有機溶媒（Ａ）、下記式（２）で表される化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および界面活性剤（Ｄ）を含有する。

【選択図】なし

Description

本発明は、映像表示装置などの光学機器に内蔵されるバックライトユニットの部材である導光板の製造に好適に用いられる光硬化性インクジェットインクに関する。更に詳しくは、本発明は、導光板を製造する際、容易にマイクロレンズを形成可能とするために行われる基板の表面処理に用いられる光硬化性インクジェットインクに関する。

かねてより、映像表示装置用導光板に形成されるマイクロレンズは、金型を使った射出成形により形成されていた。しかし、この方法を用いて少量多品種のマイクロレンズを製造する際には、製品設計毎に金型を作り直す必要があり、製造工程数の増加が問題となっていた。

近年、設計自由度の高い製造方法としてインクジェット法を用いて、直接、基板表面上にマイクロレンズを形成する方法が行われている（例えば、特許文献１および２参照）。
このようなインクジェット法を用いたマイクロレンズの製造方法は、パソコンなどにより容易にパターニングを制御できるため、少量多品種の生産に対しても製造工程数が変わらず、製造コストを抑えることができる等の点から期待されている。

しかしながら、導光板を構成する基板にマイクロレンズを直接形成したのでは、基板の表面とマイクロレンズを形成する組成物との界面の表面エネルギー差が小さいために、マイクロレンズのレンズ径が広がり、レンズ高さを制御しにくいという問題、およびマイクロレンズ形成用インクの基板表面での濡れ性にバラつきが見られるため、真円でないマイクロレンズが形成されてしまうという問題があった。そこで、マイクロレンズのレンズ径およびレンズ高さ等のパターンサイズならびに形状を制御するために、マイクロレンズを形成する前に、基板表面に撥液性硬化膜（以下「硬化膜」ともいう。）を形成するなどの撥液処理が行われている。

上記撥液性硬化膜もまたインクジェット法で形成することで、基板のサイズおよび厚みに関係なく、薄膜かつ膜均一性に優れた硬化膜を形成できる利点がある。したがって、撥液性硬化膜に用いられる組成物は、インクジェット法に用いることが可能な組成物が望ましい。

一方、導光板において光を良好に取り出すためには、マイクロレンズ、撥液性硬化膜および導光板の屈折率が、いずれも同程度であることが望まれる。なぜならば、撥液性硬化膜の屈折率が導光板の屈折率より低い場合、基板と撥液性硬化膜との界面に屈折率差が生じ、浅い角度の光がより全反射を起こし易くなるため、光の取り出し効率が低くなるといった問題があるからである。同様のことが、撥液性硬化膜の屈折率とマイクロレンズの屈折率との関係にも言える。したがって、これらの問題を解決するためには、基板およびマイクロレンズと同程度の屈折率を有する撥液性硬化膜を形成する必要がある。

ここで、導光板に使用する基板としては、以前より、アクリル樹脂系基板（以下「ＰＭＭＡ基板」という。）が使用されてきたが、基板の軽量化、耐吸湿化および耐熱化の観点から、ポリカーボネート樹脂系基板（以下「ＰＣ基板」という。）、ポリスチレン樹脂系基板（以下「ＰＳ基板」という。）およびアクリル・スチレン共重合体ポリマー基板（以下「ＭＳ基板」という。）などを用いた導光板の開発が進められている。

これらのＰＣ基板、ＰＳ基板およびＭＳ基板は、屈折率がＰＭＭＡ基板よりも高い。それに対して、従来から使用されているマイクロレンズおよび撥液性硬化膜は、ＰＭＭＡ基板の屈折率と同程度の屈折率を有することから、それらを屈折率の高いＰＣ基板、ＰＳ基板およびＭＳ基板に形成した場合、基板の屈折率よりも撥液性硬化膜およびマイクロレンズの屈折率が低いため、上記理由により光の取り出し効率が低くなるといった問題があった。

一方、屈折率の高い化合物としてフルオレン骨格を有するモノマーを用いた組成物が知られている（例えば、特許文献３〜６参照）。しかしながら、前記文献には、これらの組成物をインクジェットに用いることは記載されていない。また、インクジェットに用いる組成物としては、低粘度であることが求められるが、前記文献に記載された組成物は粘度が高すぎてインクジェット用インクとして用いることができない。

さらに、撥液性硬化膜は凹凸があると、硬化膜上に形成されるマイクロレンズの形状がいびつとなるため、膜均一性の良好な撥液性硬化膜を形成可能な組成物であることが求められる。そのため、上記フルオレン骨格を有するモノマーを良好に溶解した状態でインクジェット装置のヘッドから吐出される条件を満たす組成物の開発が望まれていた。

特開２０００−１８０６０５号公報 特開２００４−２４０２９４号公報 特開平４−３３７３０７号公報 特開平６−２２０１３１号公報 特許第３７９７２２３号公報 特開２００８−０８１５７２号公報

本発明は、高屈折率および高光線透過率である撥液性硬化膜であって、凹凸がほとんどない膜均一性および撥液性に優れる撥液性硬化膜を形成可能な光硬化性インクジェットインクを提供し、撥液性硬化膜表面上に形状が良好でパターンサイズの制御されたマイクロレンズを形成することを可能とすることを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、特定構造を有する有機溶媒、特定のラジカル重合性基含有化合物、光重合開始剤および界面活性剤を含有する光硬化性インクジェットインクを用いることにより、高屈折率で膜均一性が良好な撥液性硬化膜をインクジェット法により形成することが可能であることを見出した。また、その撥液性硬化膜表面に形成されるマイクロレンズが真円の形状となるとともに、パターンサイズが制御されることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成させたものである。

本発明は以下の項を含む。
［１］下記式（１）で表される有機溶媒（Ａ）、下記式（２）で表される化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および界面活性剤（Ｄ）を含有する光硬化性インクジェットインク。

（式（１）中、Ｒ¹は、水素または炭素数１〜１０のアルキルであり、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立して炭素数１〜１０のアルキルである。）

（式（２）中、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立して水素またはメチルであり、ｍおよびｎは、それぞれ独立して１以上の整数である。）

［２］前記インクジェットインクの総重量に対し、前記有機溶媒（Ａ）の含有量が３０〜８５重量％であり、前記化合物（Ｂ）の含有量が１０〜４０重量％であり、前記光重合開始剤（Ｃ）の含有量が１〜１０重量％であり、前記界面活性剤（Ｄ）の含有量が０．１〜１重量％である［１］に記載の光硬化性インクジェットインク。

［３］前記式（１）において、Ｒ¹が炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ²が炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ³が炭素数１〜４のアルキルである［１］または［２］に記載の光硬化性インクジェットインク。

［４］前記式（１）において、Ｒ¹およびＲ²がメチルである［１］〜［３］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［５］前記式（１）において、Ｒ³がメチルである［１］〜［４］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。

［６］前記光重合開始剤（Ｃ）が、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤，オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、ベンゾイルギ酸系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］〜［５］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。

［７］前記界面活性剤（Ｄ）が、反応性基を有する界面活性剤である、［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［８］さらに、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、チオグリシジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）を、前記インクジェットインクの総重量に対し、前記インクジェットインクの総重量に対し１〜３０重量％含有する、［１］〜［７］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。

［９］２５℃における粘度が１．０〜３０ｍＰａ・ｓである、［１］〜［８］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［１０］［１］〜［９］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクを光硬化させて得られる撥液性硬化膜。

［１１］マイクロレンズを形成するための下地として用いられる［１０］に記載の撥液性硬化膜。
［１２］波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上である［１０］または［１１］に記載の撥液性硬化膜。

［１３］厚みが０．５μｍである場合、波長４００ｎｍにおける光線透過率が９５％以上である［１０］〜［１２］のいずれかに記載の撥液性硬化膜。
［１４］基板上に、［１０］〜［１３］のいずれかに記載の撥液性硬化膜が形成された積層体。

［１５］［１０］〜［１３］のいずれかに記載の撥液性硬化膜上にマイクロレンズが形成された積層体。
［１６］波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上である基板上に、［１０］〜［１３］のいずれかに記載の撥液性硬化膜が形成され、前記撥液性硬化膜上に波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上であるマイクロレンズが形成された積層体。

［１７］［１５］または［１６］に記載の積層体を有する光学部品。
［１８］［１７］に記載の光学部品を含む映像表示装置。

本発明の光硬化性インクジェットインクは、インクジェット装置を用いても良好に吐出することができる。また、本発明の光硬化性インクジェットインクをインクジェット装置により塗布して光硬化させた撥液性硬化膜は、凹凸がほとんどなく膜均一性に優れるとともに十分な撥液性を有する。そのため、本発明の光硬化性インクジェットインクから得られる撥液性硬化膜表面上には、真円で、形状が整い、かつパターンサイズが制御されたマイクロレンズを形成することができる。さらに、この撥液性硬化膜は、撥液性硬化膜表面上に形成されたマイクロレンズとの密着性にも優れる。

そして、本発明の光硬化性インクジェットインクから得られる撥液性硬化膜は、高光線透過率および高屈折率を有するため、高屈折率の基板および高屈折率のマイクロレンズとの組み合わせに好適に用いられる。

本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両者又は一方を示すために用いられる。また、「屈折率」は、波長５８９ｎｍの光に対する値である。

１．光硬化性インクジェットインク
本発明の光硬化性インクジェットインク（以下「本発明のインク」ともいう。）は、下記式（１）で表される有機溶媒（Ａ）、下記式（２）で表される化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および界面活性剤（Ｄ）を含有する光硬化性組成物である。

式（１）中、Ｒ¹は、水素または炭素数１〜１０のアルキルであり、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立して炭素数１〜１０のアルキルである。

式（２）中、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立して水素またはメチルであり、ｍおよびｎは、それぞれ独立して１以上の整数である。

本発明のインクは、必要に応じて、有機溶媒（Ａ）以外の有機溶媒（Ｅ）、化合物（Ｂ）以外のラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）、紫外線吸収剤、酸化防止剤、重合禁止剤および熱硬化性化合物などを含んでもよい。

本発明のインクは、光線透過率の観点からは無色が好ましいが、発明の効果を妨げない範囲で有色の化合物を含有してもよい。この場合、得られる硬化膜等の色が黄色味を帯びないことが好ましく、例えば、青色の化合物を用いることができる。また、例えば、硬化膜等の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。

１．１．有機溶媒（Ａ）
前記有機溶媒（Ａ）は、同一分子内に２級もしくは３級水酸基と、エステル結合とを有する下記式（１）で表される有機溶媒である。

式（１）中、Ｒ¹は、水素または炭素数１〜１０のアルキルであり、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立して炭素数１〜１０のアルキルである。

有機溶媒（Ａ）は、前記化合物（Ｂ）に対して高い溶解性を示す。そのため、本発明のインクをインクジェットにて吐出した場合、化合物（Ｂ）を有機溶媒（Ａ）に良好に溶解した状態で吐出される。その結果、本発明のインクから得られた膜の膜均一性は高い。さらに、有機溶媒（Ａ）は、本発明の組成物に光を照射して硬化させる段階ですばやく蒸発するため、本発明のインクは光硬化性が良好である。

式（１）中のＲ¹は、好ましくは炭素数１〜１０のアルキルであり、より好ましくは炭素数が１〜３のアルキルであり、さらに好ましくはメチルである。上記範囲であると化合物（Ｂ）に対する溶解性が特に高く、また、蒸発速度も速いことにより光硬化性がより良好なインクが得られる。同様に有機溶媒（Ａ）の蒸発速度を上げて光硬化性を向上させる観点から、Ｒ²は好ましくは炭素数が１〜３のアルキルであり、より好ましくメチルであり、Ｒ³は好ましくは炭素数が１〜４のアルキルであり、より好ましくはメチルである。
有機溶媒（Ａ）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

この中でも特に、膜均一性および光硬化性の観点から、以下の化合物が良好である。

さらにこの中でも、以下の化合物が最も光硬化性が良好である。

有機溶媒（Ａ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

前記有機溶媒（Ａ）としては、公知の方法で製造した化合物を用いてもよいし、また、市販品を用いてもよい。
本発明のインクにおいて、有機溶媒（Ａ）の含有量が、該インク総重量に対し、好ましくは３０〜８５重量％、より好ましくは４０〜８０重量％、さらに好ましくは５０〜７５重量％であると、紫外線に対する光硬化性が特に優れる。

１．２．化合物（Ｂ）
式（２）で表される化合物（Ｂ）は、分子内にフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートであるため、当該化合物（Ｂ）を用いたインクジェットインクから得られる硬化膜は高い屈折率を有する。

式（２）中、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立して水素またはメチルであり、ｍおよびｎは、それぞれ独立して１以上の整数、好ましくはそれぞれ独立して１〜５の整数である。

化合物（Ｂ）は、公知の方法、例えば、特開２０１０−１０６０４６号公報に記載の方法で製造したものであってもよく、市販品でもよい。
化合物（Ｂ）の市販品としては、オグソールＥＡ−０２００、オグソールＥＡ−０５００、オグソールＥＡ−１０００、オグソールＥＡ−Ｆ５００３、オグソールＥＡ−Ｆ５５０３、オグソールＥＡ−Ｆ５５１０（商品名；大阪ガスケミカル（株）製）、Ａ−ＢＰＥＦ（商品名；新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。

これらの化合物（Ｂ）は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
本発明のインクにおいて、化合物（Ｂ）の含有量が、該インク総重量に対し、好ましくは１０〜４０重量％、より好ましくは１０〜３５重量％、さらに好ましくは１０〜３０重量％であると、紫外線に対する光硬化性がより優れ、高い屈折率を有する硬化膜が得られる。

１．３．光重合開始剤（Ｃ）
本発明のインクは、光重合開始剤（Ｃ）を含む。光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線または可視光線の照射によりラジカルまたは酸を発生する化合物であれば特に限定されないが、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、ベンゾイルギ酸系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤が好ましく、これらの中でも特にアシルフォスフィンオキサイド系開始剤，オキシフェニル酢酸エステル系開始剤およびベンゾイルギ酸系開始剤が、インクの光硬化性および得られる硬化膜等の光線透過率などの観点からより好ましい。

光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルフォリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、ビス（η⁵−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−１−プロパノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジル−１−ブタノン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−酢酸２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステル、ベンゾイルギ酸メチル、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステル、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）を挙げることができる。

これらの中でも、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−１−プロパノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−酢酸２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステル、ベンゾイルギ酸メチル、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステルが好ましい。

光重合開始剤（Ｃ）の市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ５００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４、ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）などが好ましい。

これらの中でも、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４、ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯを用いると、得られる硬化膜等の光線透過率が最も高くなるため、より好ましい。
本発明のインクに用いられる光重合開始剤（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

本発明のインクにおいて、光重合開始剤（Ｃ）の含有量が、該インク総重量に対し、好ましくは１〜１０重量％、より好ましくは１〜８重量％、さらに好ましくは１〜６重量％であると、紫外線に対する光硬化性により優れ、高い光線透過性を有する硬化膜が得られる。

１．４．界面活性剤（Ｄ）
本発明のインクは、界面活性剤（Ｄ）を含む。界面活性剤（Ｄ）を含有すると、得られる硬化膜の表面撥液性が高くなり、硬化膜上に微小でパターンサイズの制御されたマイクロレンズを形成することができる。

界面活性剤（Ｄ）の具体例としては、ポリフローＮｏ．４５、ポリフローＫＬ−２４５、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５（商品名、共栄社化学工業（株）製）、ディスパーベイク（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ）１６１、ディスパーベイク１６２、ディスパーベイク１６３、ディスパーベイク１６４、ディスパーベイク１６６、ディスパーベイク１７０、ディスパーベイク１８０、ディスパーベイク１８１、ディスパーベイク１８２、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４２、ＢＹＫ３４４、ＢＹＫ３４６（商品名、ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＫＰ−３４１、ＫＰ−３５８、ＫＰ−３６８、ＫＦ−９６−５０ＣＳ、ＫＦ−５０−１００ＣＳ（商品名、信越化学工業（株）製）、サーフロンＳＣ−１０１、サーフロンＫＨ−４０（商品名、セイミケミカル（株）製）、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２５１、ＦＴＸ−２１８（商品名、（株）ネオス製）、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−３５１、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−３５２、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−６０１、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−８０１、ＥＦＴＯＰ ＥＦ−８０２（商品名、三菱マテリアル（株）製）、メガファックＦ−１７１、メガファックＦ−１７７、メガファックＦ−４７５、メガファックＲ−０８、メガファックＲ−３０（商品名、ＤＩＣ（株）製）、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオルアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンオレエート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ソルビタンラウレート、ソルビタンパルミテート、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエート、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、アルキルベンゼンスルホン酸塩、およびアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩を挙げることができる。

また、界面活性剤（Ｄ）が反応性基を有する界面活性剤であると、インクジェット法で形成された硬化膜等から界面活性剤がブリードアウトしにくく、その表面上に形成するマイクロレンズのレンズ径のばらつきが小さくなるため、より好ましい。

前記反応性基としては、（メタ）アクリロイル基、オキシラン基およびオキセタニル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの基であることが、硬化性が高いインクを得る点等から好ましい。

反応性基として（メタ）アクリロイル基を有する界面活性剤の具体例としては、ＲＳ-７２Ｋ（商品名、ＤＩＣ(株)製）、ＢＹＫ ＵＶ ３５００、ＢＹＫ ＵＶ ３５７０（商品名、ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２００Ｎ、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２５０、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２３００およびＴＥＧＯ Ｒａｄ ２５００（商品名、エボニック デグサ ジャパン（株）製）を挙げることができる。

また、反応性基としてオキシラン基を有する界面活性剤としては、ＲＳ−２１１Ｋ（商品名、ＤＩＣ（株）製）等を挙げることができる。
本発明のインクに用いられる界面活性剤（Ｄ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

本発明のインクにおいて、界面活性剤（Ｄ）の含有量が、該インク総重量に対し、好ましくは０．１〜１重量％、より好ましくは０．１〜０．９重量％、さらに好ましくは０．１〜０．８重量％であると、インクの光硬化性および得られる硬化膜表面の撥液性により優れる。

１．５．有機溶媒（Ｅ）
本発明のインクは、インクジェット吐出性を調整する目的で有機溶媒（Ａ）以外の有機溶媒（Ｅ）を含有してもよい。有機溶媒（Ｅ）を用いると、インクの粘度や表面張力の微調整が可能であり、インクジェット吐出性を調整できるため好ましい。

有機溶媒（Ｅ）としては、特に制限されないが、沸点が１００℃〜３００℃の有機溶媒であることが好ましい。
沸点が１００〜３００℃である有機溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ジオキサン、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。

本発明のインクに用いられうる有機溶媒（Ｅ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
本発明のインクにおいて、有機溶媒（Ｅ）の含有量が、該インク総重量に対し、好ましくは１〜１０重量％、より好ましくは１〜８重量％、さらに好ましくは１〜６重量％であると、紫外線に対する光硬化性により優れた硬化膜が得られるため好ましい。

１．６．ラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）
本発明のインクは、当該インクから得られる硬化膜の高い光線透過率を損なわない範囲で、屈折率を調整するために、化合物（Ｂ）以外のラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）を含んでもよい。

ラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）の具体例としては、特に制限されないが、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、チオグリシジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］ヒドロキシエチルイソシアヌレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、ポリスチレンマクロモノマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］ イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、ウレタン（メタ）アクリレート、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート、酸変性（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレートおよびビスフェノールＳエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

この中でも特に、ラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、チオグリシジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートであると、当該インクから得られる硬化膜は高い屈折率および光線透過率を有するため好ましい。

ラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
本発明のインクにおいて、ラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）が、該インク総重量に対し、好ましくは１〜３０重量％、より好ましくは１〜２５重量％であり、さらに好ましくは１〜２０重量％であると、当該インクから得られる硬化膜の高い光線透過率を損なわない範囲で屈折率を調整できるため好ましい。

１．７．紫外線吸収剤
本発明のインクは、得られる硬化膜等がバックライトなどの光によって劣化することを防止するために、紫外線吸収剤を含有してもよい。

紫外線吸収剤としては、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール等のトリアジン化合物、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物、および２−エトキシ−２’−エチルオキサリック酸ビスアニリド等のシュウ酸アニリド化合物などが挙げられる。
本発明のインクに用いられうる紫外線吸収剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

１．８．酸化防止剤
本発明のインクジェットインクは、得られる硬化膜等の酸化を防止するために、酸化防止剤を含有してもよい。

酸化防止剤としては、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル等のヒンダードフェノール化合物、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミンおよびジエチルアミノメチルメタクリレート等のアミン化合物などが挙げられる。
本発明のインクに用いられうる酸化防止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

１．９．重合禁止剤
本発明のインクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびフェノチアジンが挙げられる。これらの中でもフェノチアジンを用いると、長期の保存においても粘度の増加が小さいインクが得られるため好ましい。
本発明のインクに用いられうる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

１．１０．熱硬化性化合物
本発明のインクは、当該インクから得られる硬化膜の光線透過率と屈折率に影響を与えない範囲で強度を向上させるために熱硬化性化合物を含んでもよい。前記熱硬化性化合物としては、熱硬化させることが可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、エポキシ化合物、エポキシ硬化剤、ビスマレイミド、フェノール樹脂、フェノール性水酸基を含有する樹脂、メラミン樹脂およびシランカップリング剤などが挙げられる。

前記熱硬化性化合物は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
本発明のインクにおいて、熱硬化性化合物の含有量が、該インク総重量に対し、好ましくは１〜１０重量％、より好ましくは１〜８重量％であり、さらに好ましくは１〜６重量％であると、より高強度の硬化膜が得られることから好ましい。

（１）エポキシ化合物
本発明のインクは、当該インクより得られる硬化膜等の強度を向上させるために、エポキシ化合物を含有してもよい。

前記エポキシ化合物は、１分子中に少なくとも１つの下記式（３−１）または式（３−２）で表される構造を有する化合物であれば、特に限定されない。

エポキシ化合物の具体例は、ノボラック型（フェノールノボラック型およびクレゾールノボラック型）、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、トリスフェノールメタン型、水添ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、テトラフェニロールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型エポキシ樹脂、脂環式および複素環式エポキシ樹脂、ならびに、ジシクロペンタジエン骨格やナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂であり、好ましくはノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型およびトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂である。

エポキシ化合物としては公知の方法で製造したエポキシ樹脂を用いてもよいし、また市販品を用いてもよい。
市販品の例としては、ｊＥＲ８２８、同８３４、同１００１、同１００４（いずれも商品名：三菱化学（株）製）、エピクロン８４０、同８５０、同１０５０、同２０５５、（いずれも商品名：ＤＩＣ（株））、エポトートＹＤ−０１１、同ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（いずれも商品名：新日鐵化学（株））、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同６６１、同６６４（いずれも商品名：ダウ・ケミカル日本（株））、アラルダイト６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（いずれも商品名：ハンツマン・ジャパン（株））、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１１５、同ＥＬＡ−１２８（いずれも商品名：住友化学工業（株））、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１および同６６４（いずれも商品名：旭化成イーマテリアルズ（株））等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
ｊＥＲ１５２、１５４（いずれも商品名：三菱化学（株））、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３８（いずれも商品名：ダウ・ケミカル日本（株））、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０、同Ｎ−８６５（いずれも商品名：ＤＩＣ（株））、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−７０４（いずれも商品名：新日鐵化学（株））、アラルダイトＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、同ＥＣＮ１２９９（いずれも商品名：ハンツマン・ジャパン（株））、ＸＰＹ３０７、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（いずれも商品名：日本化薬（株））、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳＣＮ−２２０（いずれも商品名：住友化学工業（株））、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣＮ−２３５および同ＥＣＮ−２９９（いずれも商品名：旭化成イーマテリアルズ（株））等のノボラック型エポキシ樹脂；
エピクロン８３０（商品名：ＤＩＣ（株））、ｊＥＲ８０７（商品名：三菱化学（株））、エポトートＹＤＦ−１７０（商品名：新日鐵化学（株））、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４およびアラルダイトＸＰＹ３０６（いずれも商品名：ハンツマン・ジャパン（株））等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；
エポトートＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７および同ＳＴ−３０００（いずれも商品名：新日鐵化学（株））等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
セロキサイド２０２１Ｐ（商品名：（株）ダイセル）、アラルダイトＣＹ１７５および同ＣＹ１７９（いずれも商品名：ハンツマン・ジャパン（株））等の脂環式エポキシ樹脂；
ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（いずれも商品名：三菱化学（株）製）等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物；
ＥＢＰＳ−２００（商品名：日本化薬（株））、ＥＰＸ−３０（商品名：（株）ＡＤＥＫＡ）およびＥＸＡ−１５１４（商品名：ＤＩＣ（株））等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂；
ｊＥＲ１５７Ｓ（商品名：三菱化学（株））等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂；
ＹＬ−９３１（商品名：三菱化学（株））およびアラルダイト１６３（商品名：ハンツマン・ジャパン（株））等のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂；
アラルダイトＰＴ８１０（商品名：ハンツマン・ジャパン（株））およびＴＥＰＩＣ（商品名：日産化学工業（株））等の複素環式エポキシ樹脂；
ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０およびＥＸＡ−４７００（いずれも商品名：ＤＩＣ（株））等のナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂；
ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００ＨおよびＨＰ−７２００ＨＨ（いずれも商品名：ＤＩＣ（株））等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂；
テクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名：三井化学（株））、ＹＬ−９３３（商品名：三菱化学（株））、ＥＰＰＮ−５０１およびＥＰＰＮ−５０２（いずれも商品名：日本化薬（株））等のトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂が挙げられる。

これらの中でも、ｊＥＲ８２８、同８３４、同１００１、同１００４（いずれも商品名：三菱化学（株））、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名：三井化学（株））、ＥＰＰＮ−５０１およびＥＰＰＮ−５０２（いずれも商品名：日本化薬（株））を用いると、当該インクより得られる硬化膜は高い強度を有するため好ましい。
本発明のインクに用いられうるエポキシ樹脂は、１種であっても、２種以上であってもよい。

（２）エポキシ硬化剤
本発明のインクは、得られる硬化膜の強度をより向上させるためにエポキシ硬化剤を含んでもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤およびポリアミン系硬化剤などが好ましい。

酸無水物系硬化剤としては、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、およびスチレン−無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。

ポリアミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン（ポリアミド樹脂）、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、およびジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。
本発明のインクに用いられうるエポキシ硬化剤は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。

（３）ビスマレイミド
本発明のインクは、得られる硬化膜の強度をより向上させるためにビスマレイミド化合物を含んでもよい。ビスマレイミド化合物としては、特に制限されないが、例えば、下記式（４−１）で表される化合物が好ましい。下記式（４−１）で表されるビスマレイミド化合物は、例えばジアミンと酸無水物とを反応させて得ることができる。

式（４−１）中、Ｒ⁶およびＲ⁸はそれぞれ独立して水素またはメチルであり、Ｒ⁷は下記式（４−２）で表される二価の基である。

式（４−２）中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ独立して、連続しない（隣り合わない）任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜１８のアルキレン、置換基を有してもよい芳香環を有する二価の基、または置換基を有してもよいシクロアルキレンである。前記置換基としては、例えば、カルボキシル、ヒドロキシ、炭素数１〜５のアルキル、および炭素数１〜５のアルコキシが挙げられる。耐熱性の高い硬化膜等が得られる点で、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ独立して下記群（４−３）から選ばれる１種の二価の基であることが好ましい。

式（４−２）中、Ｘは下記群（４−４）から選ばれる１種の二価の基である。

ビスマレイミドは１種でも、２種以上の混合物でもよい。

（４）フェノール樹脂またはフェノール性水酸基を含有する樹脂
本発明のインクは、得られる硬化膜の強度をより向上させるためにフェノール樹脂またはフェノール性水酸基を含有する樹脂を含んでもよい。フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂が好ましく用いられ、フェノール性水酸基を含有する樹脂としては、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、および、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。

フェノール性水酸基を有する芳香族化合物の具体例としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｏ−キシレノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ホドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトールおよびβ−ナフトールが挙げられる。

アルデヒド類の具体例としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フラフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒドおよびアセトアルデヒドが挙げられる。

ビニルフェノールと共重合可能な化合物の具体例としては、（メタ）アクリル酸又はその誘導体、スチレン又はその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニルおよびアクリロニトリルが挙げられる。

フェノール樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名；群栄化学（株））、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名；昭和電工（株））、フェノール性水酸基を含有する樹脂の具体的な例としては、マルカリンカーＭ Ｓ−２Ｇ、マルカリンカーＣＳＴ７０およびマルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（いずれも商品名；丸善石油化学（株））が挙げられる。
本発明のインクに用いられるフェノール樹脂、またはフェノール性水酸基を含有する樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

（５）メラミン樹脂
本発明のインクは、得られる硬化膜の強度をより向上させるためにメラミン樹脂を含んでもよい。メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造される樹脂であれば特に限定されず、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、およびエーテル化メチロールベンゾグアナミン等の縮合物などが挙げられる。これらの中でも、得られる硬化膜の耐薬品性が良好となる点で、エーテル化メチロールメラミンの縮合物が好ましい。

メラミン樹脂の具体例としては、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３０ＨＭ、ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭおよびＭＸ−７５０ＬＭ（商品名、三和ケミカル（株）製）が挙げられる。
本発明のインクに用いられうるメラミン樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

（６）シランカップリング剤
本発明のインクは、得られる硬化膜の基板への密着性を向上させるためにシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤の具体例としては、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、および３−メルカプトプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。これらの中でも３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、および３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランは、反応基を有しており他成分と共重合することができるので好ましい。
本発明のインクに用いられうるシランカップリング剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

１．１１．熱重合開始剤
本発明のインクは、加熱工程によりインクの硬化性を向上させるために熱重合開始剤を含んでもよい。熱重合開始剤の具体例としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、過酸化ベンゾイルおよび過酸化ジ−ｔ−ブチルが挙げられる。これらの中でも２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）が好ましい。
本発明のインクに用いられうる熱重合開始剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

１．１２．インクの粘度
本発明のインクの、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度は１．０〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。粘度がこの範囲であると、本発明のインクをインクジェット法で塗布する場合に、インクジェット装置による吐出性が良好となる。２５℃における本発明のインクの粘度は、より好ましくは２．０〜２５ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは４．０〜２０ｍＰａ・ｓである。

１．１３．インクの調製方法
本発明のインクは、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。

特に、本発明のインクは、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分ならびに必要に応じて（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、紫外線吸収剤、酸化防止剤、重合禁止剤、熱硬化性化合物および熱重合開始剤等を混合し、得られた溶液を例えば超高分子量ポリエチレン（ＵＰＥ）製のメンブレンフィルターを用いてろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。このようにして調製されたインクは、インクジェット法による塗布時の吐出性に優れる。

１．１４．インクの保存
本発明のインクは、５〜３０℃で保存すると保存中の粘度増加が小さく、保存安定性が良好となる。

１．１５．インクジェット法によるインクの塗布
本発明のインクは、公知のインクジェット法を用いて塗布することができる。インクジェット法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出させるピエゾ方式、およびインクに熱エネルギーを作用させてインクを吐出させるサーマル方式が挙げられる。

インクジェットヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物などからなる発熱部を有するものが挙げられる。金属および／または金属酸化物の具体例としては、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属およびこれらの金属の酸化物が挙げられる。

本発明のインクを用いて塗布を行う際に用いる好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッド内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行う装置が挙げられる。

前記インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されて、キャリッジに搭載されるものでもよく、装置の固定部位に設けられてもよい。後者の場合、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。

インクジェットヘッドは加熱してもよく、加熱温度としては８０℃以下が好ましく、５０℃以下であることがより好ましい。その加熱温度における本発明のインクの粘度は、１．０〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。

１．１６．インクの用途
本発明のインクは、基板上での膜均一性に優れるだけでなく、当該インクより得られた撥液性硬化膜は高い光線透過率および高い屈折率を示すため、映像表示装置などの光学機器およびバックライトユニットなどに使用されるマイクロレンズを有する光学部品の製造におけるマイクロレンズアレイを基板に形成する際の、基板の表面の撥液処理に好適に用いられる。

２．撥液性硬化膜
本発明のインクをインクジェット法により基板表面に塗布し塗膜を形成した後に、当該塗膜に紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることにより、撥液性硬化膜が得られる。

本発明のインクから得られる撥液性硬化膜の膜厚は特に限定されないが、光学特性上好ましくは２μｍ以下であり、より好ましくは１．５μｍ以下であり、さらに好ましくは１μｍ以下である。

本発明のインクより得られた撥液性硬化膜は、屈折率が好ましくは１．５５以上、より好ましくは１．５５〜１．６５、さらに好ましくは１．５６〜１．６０である。
また本発明のインクより得られた撥液性硬化膜は、その厚みが０．５μｍの場合に、波長４００ｎｍにおける光線透過率が好ましくは９５％以上、より好ましくは９７％以上である。なお、たとえば、本発明のインクより得られた撥液性硬化膜の厚みが１．０μｍのときに光線透過率が９５％以上である場合のように、より光線透過率が高い場合であっても上記条件は満たされる。

なお、本発明において、撥液性硬化膜の屈折率は、屈折率測定装置ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）を用いて測定した値であり、撥液性硬化膜の波長４００ｎｍでの光透過率は、透過率測定装置Ｖ−６７０（日本分光（株）製）を用いて測定した値である。

本発明のインクに紫外線や可視光線等を照射する場合の照射する光の量（露光量）は、本発明のインクの組成に依存するが、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、３００〜４，０００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましく、５００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ²がさらに好ましい。また、照射する紫外線や可視光線等の波長は、２００〜５００ｎｍが好ましく、２５０〜４５０ｎｍがより好ましい。

なお、以下に記載する露光量はウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定した値である。
なお、露光機としては、無電極ランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀灯ランプ、超高圧水銀灯ランプ、メタルハライドランプおよびハロゲンランプ等を搭載し、２００〜５００ｎｍの範囲で、紫外線や可視光線等を照射する装置であれば特に限定されない。

３．積層体
本発明のインクから得られる撥液性硬化膜は、通常、基板上に形成され、基板と撥液性硬化膜との積層体を構成する。また、本発明のインクから得られる撥液性硬化膜上には、好ましくはマイクロレンズが形成され、撥液性硬化膜とマイクロレンズの積層体を構成する。さらには、本発明のインクから得られる撥液性硬化膜が好適に使用される導光板は、基板上に本発明のインクから得られる撥液性硬化膜が形成され、該硬化膜上にマイクロレンズが形成された積層体である。

３．１．基板
前記基板は、インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。

前記基板としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などからなるポリエステル系樹脂基板、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどからなるポリオレフィン系樹脂基板、ポリ塩化ビニル系樹脂基板、フッ素系樹脂基板、ＰＭＭＡ基板、ＰＣ基板、ＰＳ基板、ＭＳ基板、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどからなる有機高分子フィルム、セロハンからなる基板、金属箔，ポリイミドと金属箔との積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙、およびガラス基板が挙げられる。

この中でも特に、ＰＣ基板、ＰＳ基板、ＭＳ基板等の屈折率が１．５５以上、より好ましくは１．５５〜１．６５である基板であると、基板と本発明のインクから得られる撥液性硬化膜との界面の屈折率差が小さくなるため、好ましい。
基板の厚みは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜１０ｍｍであり、使用する目的により適宜調整される。

３．２．マイクロレンズ
前記マイクロレンズは、本発明のインクから得られる撥液性硬化膜上にマイクロレンズ形成用インクを塗布することにより形成される。塗布方法としては、インクジェット法を用いると、パターニング制御が容易であることから好ましい。前記マイクロレンズ形成用インクが光硬化性組成物の場合は、撥液性硬化膜上に該インクを塗布した後、該インクに光を照射して該インクを硬化させる。光の照射条件は、撥液性硬化膜の形成における条件と同様である。

前記マイクロレンズ形成用インクは、インクジェット法を用いて、パターニングが可能なインクであれば、特に限定されないが、ラジカル重合性基含有化合物と光重合開始剤を含有する光硬化性組成物が好ましく、さらに、ラジカル重合性基含有化合物がフルオレン骨格を有する化合物であれば、より好ましく、さらに、ラジカル重合性基含有化合物が式（５）で表される化合物であれば、とりわけ好ましい。

（式（５）中、Ｒ¹¹およびＲ¹²は、それぞれ独立して水素またはメチルであり、ａおよびｂは、それぞれ独立して１以上の整数である。）

フルオレン骨格を有する化合物以外のラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリレート、二官能（メタ）アクリレートおよびシラン化合物があげられる。

光重合開始剤としては、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルあるいは酸を発生することのできる化合物であれば特に限定されないが、例えば、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤、オキシフェニル酢酸エステル系光重合開始剤またはアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤があげられる。

また、前記マイクロレンズ形成用インクは、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が１．０〜３０ｍＰａ・ｓであると好ましく、さらに、前記マイクロレンズ形成用インクから得られるマイクロレンズの屈折率が１．５５以上、より好ましくは１．５５〜１．６５であると好ましい。

本発明のインクから得られる撥液性硬化膜は、撥液性が良好であるとともに膜均一性が良好であるため、その硬化膜上にインクジェット法によりマイクロレンズを形成すると、形状が真円で、パターンサイズのバラつきが小さいマイクロレンズを得ることができる。

この中でも特に、屈折率が１．５５以上、より好ましくは１．５５〜１．６５であるマイクロレンズであると、マイクロレンズと本発明のインクジェットインクから得られる撥液性硬化膜との界面の屈折率差が小さくなるため、好ましい。

マイクロレンズのレンズ径は特に限定されないが、通常１０〜１００μｍが好ましく、１５〜６０μｍがさらに好ましく、２０〜５０μｍが特に好ましい。

３．３．導光板
前記導光板としては、屈折率が１．５５以上、より好ましくは１．５５〜１．６５である基板上に本発明のインクから得られた撥液性硬化膜が形成され、前記硬化膜上に屈折率が１．５５以上、より好ましくは１．５５〜１．６５であるマイクロレンズが形成された積層体であることが好ましい。このような構成とすると、前記硬化膜は、屈折率が１．５５以上であることから、基板と撥液性硬化膜との間の界面および撥液性硬化膜とマイクロレンズとの間の界面における屈折率差が小さくなるため、導光板に入射した光の各界面における反射を抑制することができ、効率よく光を取り出すことができる。
基板上に撥液性硬化膜を形成する方法および撥液性硬化膜上にマイクロレンズを形成する方法については、上述の通りである。

４．光学部品
本発明の光学部品は、本発明のインクより得られる撥液性硬化膜が形成されたものであれば、特に制限されないが、光の取り出し効率や輝度などの点から、前記導光板であることが好ましい。

５．映像表示装置
本発明の映像表示装置は、前記光学部品を含む。このため、液晶ディスプレイなどの表示特性に優れる映像表示装置に好適に用いることができる。

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
なお、以下では、実施例および比較例で得られたインクジェットインクを単にインクと呼ぶことがある。すなわち、例えばインクジェットインク１をインク１と呼ぶことがある。

［実施例１］
有機溶媒（Ａ）として、２−ヒドロキシイソ酪酸メチルであるＨＢＭ（商品名：三菱ガス化学（株）製）、化合物（Ｂ）として、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレンであるオグソールＥＡ−０２００（商品名：大阪ガスケミカル（株）製）、光重合開始剤（Ｃ）として、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステルとオキシ−フェニル−酢酸２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルとの混合物であるＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４（商品名：ＢＡＳＦ製、以後「Ｉｒ７５４」と略す。）および界面活性剤（Ｄ）として、アクリロイル基を有するＢＹＫ ＵＶ ３５００（商品名、ビックケミー・ジャパン（株）製、以後「ＢＹＫ３５００」と略す。）を下記組成割合にて混合し、完全溶解させた後、超高分子量ポリエチレン（ＵＰＥ）製のメンブレンフィルター（孔径０．２μｍ）でろ過し、ろ液（インク１）を得た。
（Ａ）ＨＢＭ ５１．８０ｇ
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ ２０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃におけるインク１の粘度を測定した結果、１０．４ｍＰａ・ｓであった。

［実施例２］
さらに、ラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）として、テトラヒドロフルフリルアクリレートであるライトアクリレートＴＨＦ−Ａ(商品名：共栄社化学（株）製、以後「ＴＨＦ−Ａ」と略す。)を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インク２を調製した。
（Ａ）ＨＢＭ ５１．８０ｇ
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ 1 ０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク２の粘度を測定した結果、４．９ｍＰａ・ｓであった。

［実施例３］
有機溶媒（Ａ）として、ＨＢＭの代わりに、２−ヒドロキシイソ酪酸ｉ−プロピルであるｉＰＨＩＢ（商品名：三菱ガス化学（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インク３を調製した。
（Ａ）ｉＰＨＩＢ ５１．８０ｇ
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ 1 ０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク３の粘度を測定した結果、４．４ｍＰａ・ｓであった。

［実施例４］
有機溶媒（Ａ）として、ＨＢＭの代わりに、乳酸メチル（東京化成工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インク４を調製した。
（Ａ）乳酸メチル ５１．８０ｇ
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ 1 ０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク４の粘度を測定した結果、４．９ｍＰａ・ｓであった。

［実施例５］
有機溶媒（Ａ）として、ＨＢＭの代わりに、乳酸プロピル（東京化成工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インク５を調製した。
（Ａ）乳酸プロピル ５１．８０ｇ
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ 1 ０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク５の粘度を測定した結果、５．４ｍＰａ・ｓであった。

［比較例１］
化合物（Ｂ）を用いず、代わりに、ラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）であるビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレートであるアロニックスＭ−２０８（東亞合成（株）製、以後「Ｍ−２０８」と略す。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インク６を調製した。
（Ａ）ＨＢＭ ３３．３０ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
（Ｆ）Ｍ−２０８ １０．００ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク６の粘度を測定した結果、５．２ｍＰａ・ｓであった。

［比較例２］
有機溶媒（Ａ）を用いず、代わりに、有機溶媒（Ｅ）であるプロピレングリコールモノメチルエーテル（東京化成工業（株）製、以後「ＰＧＭＥ」と略す。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インク７を調製した。
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ 1 ０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
（Ｅ）ＰＧＭＥ ３３．３０ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク７の粘度を測定した結果、４．７ｍＰａ・ｓであった。

［比較例３］
有機溶媒（Ａ）を用いず、代わりに、有機溶媒（Ｅ）であるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（東京化成工業（株）製、以後「ＰＧＭＥＡ」と略す。）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インク８を調製した。
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ 1 ０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
（Ｅ）ＰＧＭＥＡ ３３．３０ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク８の粘度を測定した結果、３．８ｍＰａ・ｓであった。

［比較例４］
有機溶媒（Ａ）を用いず、代わりに、その他成分として、酢酸イソブチル（東京化成工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インク９を調製した。
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ 1 ０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
（Ｅ）酢酸イソブチル １４．８０ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク９の粘度を測定した結果、４．０ｍＰａ・ｓであった。

［比較例５］
有機溶媒（Ａ）を用いず、代わりに、その他成分として、２−ブタノール（東京化成工業（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例２と同様にして、インク１０を調製した。
（Ｂ）オグソールＥＡ−０２００ 1 ０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒ７５４ ２．００ｇ
（Ｄ）ＢＹＫ３５００ ０．２０ｇ
（Ｆ）ＴＨＦ−Ａ １０．００ｇ
（その他）２−ブタノール ３３．３０ｇ
しかし、得られたインク１０は完全溶解せず懸濁したため、その後の評価を中断した。

［参考例１］（マイクロレンズ形成用インク）
オグソールＥＡ−０２００と、ライトアクリレートＴＨＦ−Ａと、Ｉｒ７５４とを下記組成割合にて混合し、オグソールＥＡ−０２００を溶解した後、ＰＴＦＥ製のメンブレンフィルター（０．２μｍ）でろ過し、ろ液（インク１１）を得た。
オグソールＥＡ−０２００ ２０．００ｇ
ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ ５０．００ｇ
Ｉｒ７５４ ４．９０ｇ
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク１１の粘度を測定した結果、１２．５ｍＰａ・ｓであった。後述する方法により、インク１１の屈折率を測定した結果、１．５６であった。

＜インクおよび硬化膜の評価＞
上記で得られたインクの吐出性評価、また、上記で得られたインクより得られる硬化膜の膜均一性評価、撥液性評価、膜厚測定、光線透過率測定および屈折率測定、さらに、上記で得られたインクより得られる硬化膜上に形成されたマイクロレンズの形状評価および密着性評価を行った。

（吐出性評価）
４ｃｍ角のＰＳ基板（屈折率：１．５９）（ＰＳジャパン（株）製、ＧＰＰＳ（商品名）およびガラス基板を用意した。上記で得られたインク（１〜９）をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置ＤＭＰ−２８３１（商品名：ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ Ｉｎｃ．製）に装着し、１０ｐｌ（ピコリットル）用のインクジェットヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１８Ｖ、ヘッド温度は粘度に応じて調整した表１および２に記載の温度、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、印刷解像度を５１２ｄｐｉに設定して、それぞれの基板に一片が３ｃｍの正方形パターンを塗布した。その後、これらの基板にＵＶ照射装置（（株）ジャテック製のＪ−ＣＵＲＥ１５００（商品名））を用いて積算露光量１，０００ｍＪ／ｃｍ²の光を照射し、インク（１〜９）を硬化させることで、硬化膜付ＰＳ基板（１ａ〜９ａ）および硬化膜付ガラス基板（１ｂ〜９ｂ）を得た。

得られたＰＳ基板（１ａ〜９ａ）およびガラス基板（１ｂ〜９ｂ）上の硬化膜パターンの乱れ、印刷のかすれを観察して、インク（１〜９）の吐出性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
○：パターンの乱れ、印刷のかすれが全くない
△：パターンの乱れ、印刷のかすれが多い
×：インクをうまく吐出できない（パターンの形成ができない）

（硬化膜の膜均一性評価）
得られたＰＳ基板（１ａ〜９ａ）において、光学式顕微鏡ＢＸ５１（商品名：ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製）を用いて、硬化膜表面の表面粗さ状態を観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：全く凹凸が見られず、平坦である。
○：ほとんど凹凸が見られないが、極まれに見られる場合がある。
△：平坦な部分と凹凸の部分が入り混じっている。
×：平坦な部分が全くない。

（撥液性評価）
マイクロレンズ形成用のインク１１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＤＭＰ−２８３１（商品名）、ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ（株）製）に装着し、１０ｐｌ用のインクジェットヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）２０Ｖ、ヘッド温度３８℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、硬化膜付ＰＳ基板（１ａ〜９ａ）上に１５０μｍ間隔で１ドットずつ吐出した。その後、ドットパターンが等間隔で形成された硬化膜付ＰＳ基板にＵＶ照射装置（（株）ジャテック製のＪ−ＣＵＲＥ１５００（商品名））を用いて積算露光量１，０００ｍＪ／ｃｍ²の光を照射し、インク１１を硬化させることで、マイクロレンズが形成された基板（１ｃ〜９ｃ）を得た。

また、比較例６として、未処理ＰＳ基板上にも上記と同様にインク１１を吐出し、硬化させることで、マイクロレンズが形成された基板（１２ｃ）を得た。
得られたマイクロレンズのレンズ径は光学式顕微鏡ＢＸ５１（商品名：ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製）を用いて測定した。レンズ径の値には、任意の３つのマイクロレンズのレンズ径の平均値を用いた。なお、レンズ径が小さい方がより撥液性が高いと判断できる。

（マイクロレンズの形状評価）
上記のようにして得られたマイクロレンズが形成された基板（１ｃ〜９ｃおよび１２ｃ）上のマイクロレンズの形状を、光学式顕微鏡ＢＸ５１（商品名：ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製）を用いて観察することで、マイクロレンズの形状を評価した。

なお、マイクロレンズの形状の評価基準は以下の通りである。
◎：全てのマイクロレンズの形状が真円である
○：殆どのマイクロレンズの形状が真円だが、極まれに真円でないマイクロレンズが見られる
△：マイクロレンズの形状が真円であるものとないものが入り混じっている
×：全てのマイクロレンズの形状がいびつである

（密着性評価）
上記のようにしてマイクロレンズが形成された基板（１ｃ〜８ｃおよび１２ｃ）上に粘着テープ（住友スリーエム（株）製「Ｎｏ．６００」テープ（商品名））を貼り付け、その後、剥離した際に基板上に残ったドットパターンの状態を観察することで、本発明の硬化膜に対するマイクロレンズの密着性を評価した。なお、評価基準は以下の通りである。
○：マイクロレンズは全く剥がれなかった
△：一部のマイクロレンズが剥がれた
×：全てのマイクロレンズが剥がれた

（硬化膜の膜厚測定）
得られた硬化膜付ガラス基板（１ｂ〜８ｂ）の硬化膜の一部をカッターで削り、段差部分の膜厚をＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ（株）製触針式膜厚計Ｐ−１５（商品名）を使用して測定し、３箇所の測定の平均値を算出した。

（硬化膜の光線透過率および屈折率測定）
得られた硬化膜付ガラス基板（１ｂ〜８ｂ）を用い、光線透過率および屈折率を測定した。

光線透過率測定は、透過率測定装置Ｖ−６７０（商品名：日本分光（株）製）を用いて、波長４００ｎｍでの光線透過率を測定した。
なお、リファレンスとして、硬化膜を形成していない４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）を用いた。

また、屈折率測定は、屈折率測定装置ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）を用いて、波長５８９ｎｍでの屈折率を測定した。

表１に示す結果から明らかなように、インクジェット吐出性については、基板（１ａ〜８ａ、１ｂ〜８ｂ）には、パターンの乱れ、印刷のかすれが全く見られず、良好であった。

膜均一性については、基板（１ａ〜６ａ）にはほとんど凹凸が見られず良好で、その中でも特に、基板（１ａ〜３ａおよび６ａ）には全く凹凸が見られず、良好であった。
マイクロレンズの形状については、基板（１ｃ〜３ｃおよび６ｃ）は全てのマイクロレンズの形状が真円で最も良好であった。また、基板（４ｃ、５ｃ）上の殆どのマイクロレンズの形状が真円で良好であった。

撥液性については、未処理基板（１２ｃ）上での撥液性評価が７２μｍであったのに対して、硬化膜（１ａ〜６ａ）の撥液性評価は５０μｍ以下と小さく、良好であった。
密着性については、基板（１ｃ〜８ｃ、１２ｃ）上のマイクロレンズは全く剥がれず、良好であった。

光線透過率については、硬化膜の膜厚が０．６〜１．１μｍの範囲での基板（１ｂ〜８ｂ）の光線透過率は９５％以上と高く、良好であった。
屈折率については、基板（１ｂ〜５ｂ、７ｂ、８ｂ）の屈折率が１．５５以上と高く、良好であった。

以上、説明したように、本発明によれば、本発明のインクの吐出性、また、本発明のインクより得られる硬化膜の膜均一性に優れ、さらには該硬化膜上に、密着性の高い真円の形状を有したマイクロレンズを形成することができる。また、本発明のインクより得られる硬化膜は高い光線透過率および高い屈折率を示す。

したがって、本発明のインクは、導光板およびそれを用いた液晶ディスプレイおよび表示パネルなどの光学部品を製造するために好適に用いることができる。

Claims (18)

1. 下記式（１）で表される有機溶媒（Ａ）、下記式（２）で表される化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および界面活性剤（Ｄ）を含有する光硬化性インクジェットインク。
   

   

   （式（１）中、Ｒ¹は、水素または炭素数１〜１０のアルキルであり、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立して炭素数１〜１０のアルキルである。）
   

   

   （式（２）中、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立して水素またはメチルであり、ｍおよびｎは、それぞれ独立して１以上の整数である。）
2. 前記インクジェットインクの総重量に対し、前記有機溶媒（Ａ）の含有量が３０〜８５重量％であり、前記化合物（Ｂ）の含有量が１０〜４０重量％であり、前記光重合開始剤（Ｃ）の含有量が１〜１０重量％であり、前記界面活性剤（Ｄ）の含有量が０．１〜１重量％である請求項１に記載の光硬化性インクジェットインク。
3. 前記式（１）において、Ｒ¹が炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ²が炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ³が炭素数１〜４のアルキルである請求項１または２に記載の光硬化性インクジェットインク。
4. 前記式（１）において、Ｒ¹およびＲ²がメチルである請求項１〜３のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
5. 前記式（１）において、Ｒ³がメチルである請求項１〜４のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
6. 前記光重合開始剤（Ｃ）が、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤，オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、ベンゾイルギ酸系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
7. 前記界面活性剤（Ｄ）が、反応性基を有する界面活性剤である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
8. さらに、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、チオグリシジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよびカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のラジカル重合性基含有化合物（Ｆ）を、前記インクジェットインクの総重量に対し、１〜３０重量％含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
9. ２５℃における粘度が１．０〜３０ｍＰａ・ｓである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインクを光硬化させて得られる撥液性硬化膜。
11. マイクロレンズを形成するための下地として用いられる請求項１０に記載の撥液性硬化膜。
12. 波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上である請求項１０または１１に記載の撥液性硬化膜。
13. 厚みが０．５μｍである場合、波長４００ｎｍにおける光線透過率が９５％以上である請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の撥液性硬化膜。
14. 基板上に、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の撥液性硬化膜が形成された積層体。
15. 請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の撥液性硬化膜上にマイクロレンズが形成された積層体。
16. 波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上である基板上に、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の撥液性硬化膜が形成され、前記撥液性硬化膜上に波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以上であるマイクロレンズが形成された積層体。
17. 請求項１５または１６に記載の積層体を有する光学部品。
18. 請求項１７に記載の光学部品を含む映像表示装置。