JP5477150B2 - インクジェット用インクおよびその用途 - Google Patents

Description

本発明は、液晶用またはＥＬ用などの表示素子や、プリント配線板およびフレキシブル配線板などの電子回路基板を製造するために好適に用いられるインクジェット用インクに関する。更に詳しくは、本発明はマイクロレンズをインクジェット法で形成する場合の下地基板を処理するのに適したインクジェット用インクに関する。

液晶ディスプレイの導光板には、基板上に反射ドットとしてマイクロレンズを形成したものが用いられている。基板上にマイクロレンズを形成する方法としては、従来、金型を用いて射出成型することにより行われてきた。しかしながら、射出成型を用いた方法では、製品の設計毎に金型が必要となり、少量多品種の生産においては、非常にコストがかかった。

そこで、近年、安価に基板上にマイクロレンズを形成する方法として、インクジェット法を用いることが行われているが、インクジェット法を用いて形成されたマイクロレンズは、パターンサイズおよびパターン高さのばらつきが大きいことが課題であった。この問題を改善するために、基板を撥水処理することが提案されている。従来、一般的な基板の撥水処理としては、フッ素系重合体を用いた表面処理用コーティング組成物（たとえば、特許文献１参照）やポリシロキサンを用いたネガ型感光性組成物から得られる表面撥水性硬化膜（たとえば、特許文献２参照）が報告されている。しかしながら、これらをマイクロレンズ形成のための基板の撥水処理に用いても、マイクロレンズのパターンのばらつきの幅を十分に小さくする観点から改良の余地がある。

一方、ナノインプリントリソグラフィーにおけるモールドとの離型性および基板への塗布適性を得るために、重合性化合物および重合開始剤を含む組成物に界面活性剤を配合した光硬化性組成物（たとえば特許文献３参照）、重合性化合物および重合開始剤を含む組成物に界面活性光重合開始剤および界面活性剤を配合した光硬化性組成物（たとえば特許文献４参照）が報告されている。しかしながら、マイクロレンズの形成へのこれらの組成物の影響は検討されていなかった。

特開２００８−０５０５４９号公報 特開２００８−２０９７３９号公報 特開２００８−０１９２９２号公報 特開２００９−０５１０１７号公報

上記の状況の下、本発明の目的は、基板上にパターン直径と高さのばらつきが小さいマイクロレンズをインクジェット法で形成することを可能とする基板表面処理のためのインクジェット用インクを提供することを目的とする。

本発明者等は、三官能（メタ）アクリレート（Ａ）、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）を含有するインクジェット用インクであって、該組成物に紫外線を照射させて得た硬化膜の水接触角が９
０°以上であり、粘度が１〜２００ｍＰａ・ｓであるインクジェット用インクによる基板表面処理が、直径と高さのばらつきの小さいマイクロレンズを形成するのに有用であることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。

すなわち本発明は、以下の項を含む。

［１］三官能（メタ）アクリレート（Ａ）、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）を含有するインクジェット用インクであって、該組成物を基板上に塗布し、２０００ｍＪ／ｃｍ²の露光量で紫外
線を照射させて得た硬化膜表面の２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であり、２５℃における粘度が１〜２００ｍＰａ・ｓであるインクジェット用インク。

［２］三官能（メタ）アクリレート（Ａ）が、式（１）で表わされる化合物である請求項１に記載のインクジェット用インク。

（式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に水素または炭素数が１〜６のアルキルであり、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸は、それぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、ｋは０または１であり、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜１０の整数である。）
［３］界面活性剤（Ｄ）の光架橋性官能基が、オキシラン、オキセタン、アクリルおよびメタクリルからなる群から選ばれる少なくとも１種である、［１］または［２］に記載のインクジェット用インク。

［４］界面活性剤（Ｄ）の光架橋性官能基が、アクリルおよび／またはメタクリルである、［３］に記載のインクジェット用インク。

［５］界面活性剤（Ｄ）が、シリコン系またはフッ素系の界面活性剤である、請求項［１］〜［４］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［６］インクジェット用インク総重量に対して、三官能（メタ）アクリレート（Ａ）を３０〜７０重量％、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）を２０〜６０重量％、光重合開始剤（Ｃ）を１〜２０重量％、界面活性剤（Ｄ）を０．０１〜１０重量％含有する、［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［７］Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷はそれぞれ独立に炭素数が２または３のアルキレンである、
［２］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［８］Ｒ¹が水素であり、かつｋが０である、［２］〜［７］のいずれかに記載のイン
クジェット用インク。

［９］ｌ、ｍおよびｎが１である、［２］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１０］単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）のエステル部が炭素数が１〜６のアルキルである、［１］〜［９］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１１］単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ-ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチ
ル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートおよびメチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種である、［１０］に記載のインクジェット用インク。

［１２］単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）がｎ−ブチル（メタ）アクリレートである、［１１］に記載のインクジェット用インク。

［１３］光重合開始剤（Ｃ）がα−ヒドロキシルアルキルフェノン系またはアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤である、［１］〜［１２］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１４］光重合開始剤（Ｃ）が２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドである、［１３］に記載のインクジェット用インク。

［１５］さらに重合禁止剤（Ｅ）を含有する、［１］〜［１４］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１６］重合禁止剤（Ｅ）がフェノチアジンである、［１５］に記載のインクジェット用インク。

［１７］さらに溶媒（Ｆ）を含有する、［１］〜［１６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１８］溶媒（Ｆ）が、溶媒（Ｆ）の総重量に対して、沸点１２０〜３００℃かつ２５℃における表面張力２２〜４８ｍＮ／ｍの溶媒を５０重量％以上含有している、［１７］に記載のインクジェット用インク。

［１９］さらにエポキシ樹脂（Ｇ）を含有する、［１］〜［１８］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［２０］さらにエポキシ樹脂（Ｇ）以外の熱硬化性化合物（Ｈ）を含有する、［１］〜［１９］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［２１］さらに、難燃剤（Ｉ）を含有する、［１］〜［２０］のいずれかに記載のイン
クジェット用インク。

［２２］２５℃における粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓである、［１］〜［２１］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［２３］［１］〜［２２］のいずれかに記載のインクジェット用インクの架橋重合体からなる表面撥水性硬化膜。

［２４］（工程１）［１］〜［２２］のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット法で基板に塗布し、基板上に塗膜を形成する工程、および
（工程２）工程１で得られた塗膜に紫外線を照射する工程
を含む表面撥水性硬化膜の製造方法。

［２５］基板と、該基板上に形成された［２３］に記載の表面撥水性硬化膜と、該表面撥水性硬化膜上に形成されたマイクロレンズとを有するマイクロレンズ付き基板。

［２６］（工程１）［１］〜［２２］のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット法で基板に塗布し、基板上に塗膜を形成する工程、
（工程２）工程１で得られた塗膜に紫外線を照射し表面撥水性硬化膜を形成する工程、および
（工程３）工程２で得られた表面撥水性硬化膜の上に、マイクロレンズ形成用組成物をインクジェット法で塗布し、ドットパターンを形成する工程
を含むマイクロレンズ付き基板の製造方法。

［２７］［２５］に記載のマイクロレンズ付き基板を有する光学部品。

［２８］［２７］に記載の光学部品を搭載した液晶ディスプレイ。

本発明のインクジェット用インクを用いて基板上に表面撥水性硬化膜を形成し、その上にインクジェット法によりマイクロレンズ形成用組成物を塗布すると、パターンの直径および高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することが可能である。また、本発明の表面撥水性硬化膜は、紫外線を本発明のインクジェット用インクに照射することにより形成されるため、基板の歪みを生じる熱の使用を最小限とすることができる。したがって、本発明のインクジェット用インクを用いると、簡易で安価な製造工程により、高品位な光学部品を好適に製造可能である。

＜１．インクジェット用インク＞
以下、本発明について具体的に説明する。

本発明は、三官能（メタ）アクリレート（Ａ）、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）を含有するインクジェット用インクであって、該組成物を基板上に塗布し、２０００ｍＪ／ｃｍ²の露光量で
紫外線を照射させて得た硬化膜表面の２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であり、２５℃における粘度が１〜２００ｍＰａ・ｓであるインクジェット用インクに関する。

本発明のインクジェット用インクは無色であっても有色であってもよい。透過率の観点からは無色が好ましいが、発明の効果を妨げない範囲で有色の化合物を含有してもよい。また、例えば、硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を
含んでもよい。

また、本発明のインクジェット用インクは、必要に応じて重合禁止剤（Ｅ）、溶媒（Ｆ）、エポキシ樹脂（Ｇ）、エポキシ樹脂以外の熱硬化性化合物（Ｈ）、難燃剤（Ｉ）、他のラジカル重合性二重結合を有する化合物、着色剤などを含むことができる。ここで、「他のラジカル重合性二重結合を有する化合物」とは、三官能（メタ）アクリレート（Ａ）および単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物である。

本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両者または一方を示すために用いられる。

以下、上記各成分について説明する。

１．１．三官能（メタ）アクリレート（Ａ）
三官能（メタ）アクリレート（Ａ）を使用することにより、本発明のインクジェット用インクは光硬化性に優れる。また、本発明のインクジェット用インクより形成される硬化膜は基板に対する密着性に優れるとともに、高透過率、高強度を示す。

三官能（メタ）アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエスリトールトリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレートおよび式（１）で表される三官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。

これらの中でも、式（１）で表される三官能（メタ）アクリレートが好ましい。

式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、およびＲ⁴は、それぞれ独立に水素または炭素数が１〜６のアルキルであり、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸は、それぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、ｋは０または１であり、ｌ、ｍ、およびｎは、それぞれ独立に１〜１０の整数である。

中でも特に、Ｒ¹が水素、メチルまたはエチルであり、かつｋが０であると、本発明の
組成物の光硬化性は良好であり、かつ得られた硬化膜は高透過率、高強度を示すことから
好ましい。さらにＲ¹が水素であり、かつｋが０であると、硬化膜の透過率がより高くな
りより好ましい。Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は光硬化性の観点から水素またはメチルが好ましく
、さらに水素であることがより好ましい。Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は得られる硬化膜の透過率
と強度のバランスの観点から、それぞれ独立に炭素数が２〜４のアルキレンであることが好ましく、それぞれ独立に炭素数が２または３のアルキレンであることがより好ましく、すべてがエチレンであることがさらに好ましい。ｌ、ｍおよびｎは１〜５であることが好ましく、１であることがより好ましい。

式（１）で表される三官能（メタ）アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパンＰＯ変性（３モル）トリアクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性（６モル）トリアクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性（９モル）トリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性（３モル）トリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性（６モル）トリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性（９モル）トリアクリレート、ＰＯ変性（３モル）グリセリントリアクリレート、ＰＯ変性（６モル）グリセリントリアクリレート、ＰＯ変性（９モル）グリセリントリアクリレート、ＥＯ変性（３モル）グリセリントリアクリレート、ＥＯ変性（６モル）グリセリントリアクリレート、ＥＯ変性（９モル）グリセリントリアクリレートが挙げられる。なお、「ＥＯ変性」はエチレンオキサイド変性、「ＰＯ変性」はプロピレンオキサイド変性を表し、カッコ内のモル数は１分子あたりに付加させたエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの数を示す。

これらの中でも特に、トリメチロールプロパンＰＯ変性（３モル）トリアクリレート、ＥＯ変性（３モル）グリセリントリアクリレートを用いると、本発明のインクジェット用インクは光硬化性に優れるだけでなく、透過率、基板に対する密着性および強度のバランスが良好な硬化膜が得られるので好ましく、ＥＯ変性（３モル）グリセリントリアクリレートを用いると硬化膜の透過率が最も高いので、より一層好ましい。

三官能（メタ）アクリレート（Ａ）は、１種であってもよく、２種以上の混合物であってもよい。

以上、説明した三官能（メタ）アクリレート（Ａ）は公知の方法で製造することができ、また市販もされているものを用いてもよい。市販品としては、例えば、トリメチロールプロパンＰＯ変性（３モル）トリアクリレート（商品名Ｍ−３１０；東亞合成（株）製）、トリメチロールプロパンＰＯ変性（６モル）トリアクリレート（商品名Ｍ−３２０；東亞合成（株）製）、トリメチロールプロパンＥＯ変性（３モル）トリアクリレート（商品名Ｍ−３５０；東亞合成（株）製）、トリメチロールプロパンＥＯ変性（６モル）トリアクリレート（商品名Ｍ−３６０；東亞合成（株）製）、ＥＯ変性（３モル）グリセリントリアクリレート（商品名Ａ-ＧＬＹ-３Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ＥＯ変性（９モル）グリセリントリアクリレート（商品名Ａ-ＧＬＹ-９Ｅ；新中村化学工業（株）製）が挙げられる。

本発明のインクジェット用インクにおける三官能（メタ）アクリレート（Ａ）の含有量が３０〜７０重量％であると、光硬化性に優れるだけでなく、得られる硬化膜の透過率、基板に対する密着性、強度のバランスが良いので好ましく、より好ましくは、４０〜６５重量％であり、さらに好ましくは４５〜６０重量％であり、特に好ましくは５０〜６０重量％である。

１．２．単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）
本発明のインクジェット用インクが単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有すると、本発明のインクジェット用インクの粘度を下げることができ、かつ、得られる硬化膜の透
過率、強度および基板に対する密着性も良好となる。

単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）は官能基として（メタ）アクリルを一つだけ有していれば特に限定されないが、エステル部がアルキルである単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が好ましく、より好ましくは、エステル部が炭素数１〜６のアルキルであり、さらに好ましくは、エステル部が炭素数２〜４のアルキルであり、特に好ましくは、エステル部が炭素数４のアルキルである単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）である。

単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）の具体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジメチル−７−ヒドロキシアダマンチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、エチルシクロペンチル（メタ）アクリレート、３，５−ジヒドロキシ−１−（メタ）アクリロイルオキシアダマンタン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、環状トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、メバロノラクトン（メタ）アクリレート、環状イミド（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエチレンオキサイドおよび／またはプロピレンオキサイド付加モノマー、４−ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）
アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、へプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１、４-シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メチルジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）ア
クリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］および２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、および（メタ）アクリル酸、が挙げられる。

これらの中でも、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、またはメチル（メタ）アクリレートを用いると、組成物をインクジェット法で塗布する場合の吐出性、光硬化性、得られる硬化膜の透過率、基板に対する密着性のバランスが良好となる。これらの観点からより好ましくは、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートであり、さらに好ましくはｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレートであり、ｎ−ブチル（メタ）アクリレートが最も好ましい。

単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。

単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）の含有量は、本発明のインクジェット用インク総量の２０〜６０重量％であると、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは２５〜５０重量％であり、さらに好ましくは３０〜４５重量％であり、特に好ましくは３０〜４０重量％である。

１．３．光重合開始剤（Ｃ）
本発明のインクジェット用インクは、光重合開始剤（Ｃ）を含む。光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されないが、α−ヒドロキシルアルキルフェノン系またはアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤が好ましく、その中でも特にアシルフォスフィンオキサイド系化合物が、光硬化性、得られる硬化膜の透過率の観点からより好ましい。

光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η⁵−２，４−シク
ロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイドおよび２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを挙げることができる。

この中でも、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイドおよび２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドが好ましく、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドが最も好ましい。

光重合開始剤（Ｃ）は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。

光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、本発明のインクジェット用インク総量の１〜２０重量％であると、紫外線に対する光硬化性に優れ、得られる硬化膜が高透過率であるため好ましく、より好ましくは２〜１５重量％であり、さらに好ましくは３〜１０重量％である。

１．４．光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）
本発明のインクジェット用インクは、光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）を含有する。（Ｄ）成分は、得られる硬化膜表面の撥水性を高め、また光架橋性官能基を有することで、得られる硬化膜上にインクジェット法で形成されたマイクロレンズの直径および高さのばらつきを抑制する。
（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分がＵＶの照射により架橋共重合体を形成する際には、硬化膜表面に界面活性剤（Ｄ）の疎水性部分が並んだ構造が形成されると考えられる。このため、（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分の硬化物よりも、界面活性剤（Ｄ）の存在により、硬化膜の水接触角が高まると考えられる。しかも、界面活性剤（Ｄ）は光架橋性官能基によって（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分または界面活性剤（Ｄ）と架橋しており、硬化膜から界面活性剤（Ｄ）がブリードアウトしないため、マイクロレンズを形成するための液滴が塗膜と接触した場合でも安定した接触角を維持すると考えられる。このことが、マイクロレンズの直径および高さのばらつきに影響を与えるものと考えられる。

光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）としては、オキシラン、オキセタン、アクリルおよびメタアクリルからなる群から選ばれる少なくとも１種を光架橋性官能基として有するシリコン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤が挙げられる。共重合体との適性の観点からアクリルおよび／またはメタアクリルを有する界面活性剤がより好ましい。

（メタ）アクリルを光架橋性官能基として有する界面活性剤として、ＤＩＣ（株）製ＲＳ−７２Ｋが市販されている。

本発明のインクジェット用インクに用いられる光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。

光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）の含有量が、本発明のインクジェット用インク総量の０．０１〜１０重量％であると、該組成物から得られる硬化膜表面の撥水性が高いので好ましい。さらに、０．１〜５％であると得られる硬化膜上にインクジェット法で形成されたマイクロレンズの直径および高さのばらつきがより小さいので、より一層好ましい。

１．５．重合禁止剤（Ｅ）
本発明のインクジェット用インクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤（Ｅ）を含有してもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でもフェノチアジンが長期の保存においても粘度の増加が小さいために好ましい。

本発明のインクジェット用インクに用いられる重合禁止剤は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。

重合禁止剤の含有量は、本発明のインクジェット用インク総量の０．０１〜１重量％であると、長期の保存においても粘度の増加が小さいために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．０１〜０．５重量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％である。

１．６．溶媒（Ｆ）
本発明のインクジェット用インクは、インクジェット塗布時の吐出性、光硬化性、得られる硬化膜の基板に対する密着性、透過率および強度を損なわない範囲で、溶媒（Ｆ）を含有してもよい。

本発明に用いることができる溶媒としては、沸点が１００〜３００℃の溶媒が、インクジェット塗布時の吐出性が良好なので好ましい。インクジェットヘッドを高温（例えば７０〜１２０℃）に加熱する場合には、沸点が２００〜３００℃の溶媒が好ましい。

沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピ
オン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。

本発明のインクジェット用インクに用いられる溶媒は１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。好ましくはインクジェットインクの塗布が容易である観点から、溶媒（Ｆ）はその総量に対し、沸点１２０〜３００℃かつ２５℃における表面張力２２〜４８ｍＮ／ｍの溶媒を５０重量％以上含有していることが好ましい。

溶媒の含有量が、本発明のインクジェット用インク総量の１〜６０重量％であると、インクジェット塗布時にインクジェットヘッドの吐出孔が乾燥して閉塞することがないので好ましい。他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは１〜５０重量％であり、さらに好ましくは１〜４０重量％である。

１．７．エポキシ樹脂（Ｇ）
本発明のインクジェット用インクは、得られる硬化膜の強度を向上させるために、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂（Ｇ）を含有してもよい。

前記エポキシ樹脂は、１分子中に少なくとも１つの式（２−１）または式（２−２）で表わされるエポキシドから誘導される構造（以下単に「エポキシ構造」ともいう。）を有する化合物であれば、特に限定されない。

エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、ノボラック型（フェノールノボラック型およびクレゾールノボラック型）、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、水添ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型、脂環式および複素環式エポキシ化合物、また、ジシクロペンタジエン骨格やナフタレン骨格を有するエポキシ
化合物が挙げられ、好ましくはノボラック型、ビスフェノールＡ型およびビスフェノールＦ型エポキシ化合物、その中でもさらに好ましくはビスフェノールＡ型およびビスフェノールＦ型のエポキシ化合物である。

エポキシ樹脂は公知の方法で製造することができ、また市販もされている。市販品の例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン；ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）、エピコート８２８、同８３４、同１００１、同１００４（商品名；三菱化学（株）製）、エピクロン８４０、同８５０、同１０５０、同２０５５、（商品名；ＤＩＣ（株）製）、エポトートＹＤ−０１１、同ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（商品名；東都化成（株）製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同
６６１、同６６４（（商品名；ダウケミカル（株）製）、アラルダイド６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（商品名；チバ・ジャパン（株）製）、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１１５、同ＥＬＡ−１２８（商品名；住友化学工業（株）製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１、同６６４（商品名；
旭化成工業（株）製）等のビスフェノールＡ型エポキシ化合物；１５２、１５４（商品名；三菱化学（株）製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３８（商品名；ダウケミカル（株）製）
、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０、同Ｎ−８６５（商品名；ＤＩＣ（株）製）、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−７０４（商品名；東都化成（株）製）、アラルダイドＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、同ＥＣＮ１２９９（商品名；チバ・ジャパン（株）製）、ＸＰＹ３０７、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（商品名；日本化薬（株）製）、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳＣＮ−２２０（商品名；住友化学工業（株）製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣＮ−２３５、同ＥＣＮ−２９９（商品名；ＡＤＥＫＡ（株）製）等のノボラック型
エポキシ化合物；エピクロン８３０（商品名；ＤＩＣ（株） 製）、ＪＥＲ８０７（商品
名；三菱化学（株） 製）、エポトートＹＤＦ−１７０（商品名；東都化成（株） 製）、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、アラルダイドＸＰＹ３０６（商品名；チバ・ジャパン（株） 製）等のビスフェノールＦ型エポキシ化合物；エポトート
ＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７、同ＳＴ−３０００（商品名；東都化成（株） 製）
等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物；セロキサイド２０２１（商品名；ダイセル化学工業（株） 製）、アラルダイドＣＹ１７５、同ＣＹ１７９（商品名；チバ・ジャパ
ン（株） 製）等の脂環式エポキシ化合物；ＹＬ−９３３（商品名；三菱化学（株） 製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（商品名；ダウケミカル（株） 製）等のトリヒ
ドロキシフェニルメタン型エポキシ化合物；ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（商品名；三菱化学（株） 製）等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エ
ポキシ化合物またはそれらの混合物；ＥＢＰＳ−２００（商品名；日本化薬（株） 製）
、ＥＰＸ−３０（商品名；ＡＤＥＫＡ（株） 製））、ＥＸＡ−１５１４（商品名；ＤＩ
Ｃ（株） 製）等のビスフェノールＳ型エポキシ化合物；ＪＥＲ１５７Ｓ（商品名；三菱
化学（株） 製）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物；ＹＬ−９３１（商
品名；三菱化学（株） 製）、アラルダイド１６３（商品名；チバ・ジャパン（株） 製）等のテトラフェニロールエタン型エポキシ化合物；アラルダイドＰＴ８１０（商品名；チバ・ジャパン（株） 製）、ＴＥＰＩＣ（商品名；日産化学工業（株） 製）等の複素環式エポキシ化合物；ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０、ＥＸＡ−４７００（商品名；ＤＩＣ（株） 製）等のナフタレン含有エポキシ化合物；ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ
、ＨＰ−７２００ＨＨ（商品名；ＤＩＣ（株） 製）等のジシクロペンタジエン骨格を有
するエポキシ化合物等が挙げられる。

これらのエポキシ樹脂の中でも、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）を用いると各種基板への密着性が高いので好ましい。

本発明のインクジェット用インクに用いられるエポキシ樹脂は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。

エポキシ樹脂の含有量が、インクジェット用インク総量の０．５〜２０重量％であると、得られる硬化膜の各種基板に対する密着性が向上するので好ましく、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。

１．８．エポキシ樹脂（Ｇ）以外の熱硬化性化合物（Ｈ）
本発明のインクジェット用インクは、エポキシ樹脂（Ｇ）以外の熱硬化性化合物（Ｈ）を含んでもよい。本発明において、熱硬化性化合物とは熱硬化させることが可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、ビスマレイミド、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ硬化剤などが挙げられる。

本発明の硬化性組成物に用いられる熱硬化性化合物は、１種でも、２種以上の混合物でもよい。

熱硬化性化合物の含有量が、インクジェット用インク総量の０．５〜２０重量％であると、得られる硬化膜の耐熱性が向上するので好ましく、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。

１．８．１． ビスマレイミド
ビスマレイミドとしては、例えば、下記一般式（６）で表される化合物が挙げられる。下記一般式（６）で表されるビスマレイミドは、例えばジアミンと酸無水物とを反応させて得られる化合物である。

式（６）中、Ｒ¹⁰およびＲ¹²はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ¹¹は下記一般式（７）で表される二価の基である。

式（７）中、Ｒ¹³およびＲ¹⁴はそれぞれ独立に、連続しない任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜１８のアルキレン、置換基を有してもよい芳香環を有する二価の基、または置換基を有してもよいシクロアルキレンである。前記芳香環およびシクロアルキレンにおける置換基としては、例えば、カルボキシル、ヒドロキシル、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシが挙げられる。得られる硬化膜の耐熱性が高い点で、Ｒ¹³およびＲ¹⁴はそれぞれ独立に下記何れかの式で表される二価の基であることが好ましい。

式（７）中、Ｘは下記何れかの式で表される二価の基である。

ビスマレイミドは１種でも、２種以上の混合物でもよい。

１．８．２ フェノール樹脂
フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。

フェノール性水酸基を有する芳香族化合物としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｏ−キシレノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ホドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、β−ナフトールなどが挙げられる。

アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、アセトアルデヒドなどが挙げられる。

ビニルフェノールと共重合可能な化合物としては、（メタ）アクリル酸またはその誘導体、スチレンまたはその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、アクリロニトリルなどが挙げられる。

フェノール樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名；群栄化学（株）製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名；昭和高分子（株）製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０、マルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（商品名；丸善石油化学（株）製）が挙げられる。

フェノール樹脂は１種でも、２種以上の混合物でもよい。

１．８．３． メラミン樹脂
メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造された樹脂であれば特に限定されず、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、エーテル化メチロールベンゾグアナミン、およびそれらの縮合物などが挙げられる。これらの中でも、得られる硬化膜の耐薬品性が良好である点で、エーテル化メチロールメラミンが好ましい。

メラミン樹脂の具体例としては、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３０ＨＭ、ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−７５０ＬＭ（商品名；三和ケミカル（株）製）が挙げられる。

メラミン樹脂は１種でも、２種以上の混合物でもよい。

１．８．４． エポキシ硬化剤
本発明のインクジェット用インクは、得られる硬化膜の耐薬品性をより向上させるためにエポキシ硬化剤を含有してもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤、ポリアミン系硬化剤などが好ましい。

酸無水物系硬化剤としては、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、スチレン−無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。

ポリアミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン（ポリアミド樹脂）、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。

エポキシ硬化剤は１種でも、２種以上の混合物でもよい。

１．９．難燃剤（Ｉ）
本発明のインクジェット用インクは、難燃剤（Ｉ）を含有してもよい。難燃剤を含有すると、得られる硬化膜の難燃性が高いので好ましい。難燃剤としては、難燃性を付与できる化合物であれば特に限定されないが、低有毒性、低公害性および安全性の観点から、有機リン系難燃剤を用いることが好ましい。

有機リン系難燃剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド、１０−（２，５−ジヒドロキシフェニル）−１０Ｈ−９−オキサ−１０
−ホスファフェナントレン−１０−オキシド、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドなどが挙げられる。

難燃剤の中でも、得られる硬化膜を高温状態にさらした場合でも難燃剤のブリードアウトがない点で、有機リン系難燃剤である下記式（Ｆ−１）で表される構造を有する化合物を用いることが好ましい。下記式（Ｆ−１）で表される構造を有する化合物としては、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドであるＨＦＡ−３００３（商品名；昭和高分子（株）製）などの下記一般式（Ｆ−２）で表される化合物を用いることがより好ましい。

式（Ｆ−２）中、ｍは０〜２の整数であり、ｎは１〜３の整数であり、ｍ＋ｎは３である。好ましくは、ｍは１または２であり、ｎは１または２であり、ｍ＋ｎは３である。

難燃剤は１種でも、２種以上の混合物でもよい。なお、以上説明した難燃剤は公知の方法で製造することができ、また上記の昭和高分子（株）製のＨＦＡ−３００３のように、市販もされている。

難燃剤の含有量が、インクジェット用インク総量の１５〜３０重量％であると、得られる硬化膜の難燃性が向上するので好ましく、より好ましくは２０〜２５重量％である。

１．１０．他のラジカル重合性二重結合を有する化合物
本発明のインクジェット用インクは、式（１）で表される三官能（メタ）アクリレート（Ａ）および単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）以外にも、インクジェット印刷時の吐出性、光硬化性、得られる硬化膜の基板に対する密着性、透過率、強度を損なわない範囲で、他のラジカル重合性二重結合を有する化合物を添加しても良い。

他のラジカル重合性二重結合を有する化合物の具体例としては、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノール
Ａ ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸ダイマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、Ｎ-ビニルホルムアミド、ポリメチルメタクリレートマクロモノマ
ー、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、スチレン、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、およびＮ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドが挙げられる。

本発明のインクジェット用インクに用いられる他のラジカル重合性二重結合を有する化合物は１種でも、２種以上の混合物でもよい。

他のラジカル重合性二重結合を有する化合物の含有量が、本発明のインクジェット用インク総量の０．１〜２０重量％であると、光硬化性、得られる硬化膜の基板に対する密着性、透過率、強度のバランスが良いので好ましく、より好ましくは０．１〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．１〜５重量％である。

１．１１．インクジェット用インク
１．１１．１．インクジェット用インクの調製方法
本発明のインクジェット用インクは、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。

特に、本発明のインクジェット用インクは、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分および必要に応じてその他の成分を混合し、得られた溶液をろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。そのようにして調製された本発明のインクジェット用インクは、インクジェット塗布時の吐出性に優れる。前記ろ過には、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターが用いられる。

１．１１．２．インクジェット用インクの粘度
本発明のインクジェット用インクの、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度は１〜２００ｍＰａ・ｓであり、好ましくは２〜１５０ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは３〜１００ｍＰａ・ｓである。前記粘度であると、本発明のインクジェット用インクをインクジェット法で塗布する場合に、インクジェット装置による吐出性が良好となる。

また、インクジェット装置で吐出する際の温度（好ましくは１０〜１２０℃）における本発明のインクジェット用インクの粘度は、１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。

２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓを超えるインクジェット用インクを使用する場合は、インクジェットヘッドを加熱して吐出時のインクジェット用インクの粘度を下げることで、より安定した吐出が可能になる。加熱して吐出を行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度が１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。

インクジェットヘッドを加熱する場合は、溶媒を含まないインクジェット用インクを用いることが好ましい。

１．１１．３．インクジェット用インクの保存
本発明のインクジェット用インクは、−２０〜２５℃で保存すると保存中の粘度増加が小さく、保存安定性が良好である。

＜２．表面撥水性硬化膜＞
本発明の表面撥水性硬化膜は、上記インクジェット用インクの架橋重合体からなる。

本発明の表面撥水性硬化膜の製造方法は、以下の工程を含む。

（工程１）上記インクジェット用インクをインクジェット法で基板に塗布し、基板上に塗膜を形成する工程および
（工程２）工程１で得られた塗膜に組成物に紫外線を照射する工程。

２．１． （工程１）上記インクジェット用インクをインクジェット法で基板に塗布し、基板上に塗膜を形成する工程
本発明のインクジェット用インクが塗布される基板は、インクジェット用インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。

また、基板の材質は特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などのポリエステル系樹脂、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどのプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔との積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ならびに、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙およびガラス等を挙げることができる。

これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤および／または電磁波防止剤などの添加剤を含有させてもよい。また、基板の表面の少なくとも一部には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、またはブラスト処理などの易接着処理を施したり、表面の少なくとも一部に易接着層やカラーフィルター用保護膜、ハードコート膜を設けたりしてもよい。

基板の厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜１０ｍｍであり、使用する目的により適宜調整される。

本発明のインクジェット用インクは、公知のインクジェット塗布方法を用いて基板に塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出させるピエゾ方式、およびインクに熱エネルギーを作用させてインクを吐出させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。

インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。

インクジェットヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものが挙げられる。金属および／または金属酸化物の具体例としては、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属およびこれらの金属の酸化物等が挙げられる。

本発明のインクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行う装置が挙げられる。

インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。

また、前述のようにインクジェットヘッドの加熱温度は４０〜１２０℃が好ましく、その加熱温度における本発明のインクジェット用インクの粘度は、１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。

２．２． （工程２）工程１で得られた塗膜に紫外線を照射する工程
本発明の硬化膜は、上述した本発明のインクジェット用インクをインクジェット法により基板表面に塗布して得られた塗膜に、紫外線や可視光線等の光を照射して硬化させることで得られる。具体的には（Ａ）成分および（Ｂ）成分から得られる重合体が架橋することにより得られる。

紫外線や可視光線等を照射する場合の照射する光の量（露光量）は、インクジェット用インクの組成に依存するが、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、
２００〜４０００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましく、３００〜３０００ｍＪ／ｃｍ²がさらに好ましい。また、照射する紫外線や可視光線等の波長は、２００〜５００ｎｍが好ましく、３００〜４５０ｎｍがより好ましい。

なお、露光機としては、高圧水銀灯ランプ、超高圧水銀灯ランプ、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等を搭載し、２５０〜５００ｎｍの範囲で、紫外線や可視光線等を照射する装置であれば特に限定されない。

また、必要に応じて、光の照射により硬化した硬化膜をさらに加熱してもよく、例えば８０〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することによって、硬化膜の強度をさらに高めることができる。

本発明の表面撥水性硬化膜は、本発明のインクジェット用インクに２０００ｍＪ／ｃｍ²の露光量で紫外線を照射させて得た硬化膜である場合、Ｄｒｏｐ Ｍａｓｔｅｒ ５０
０（協和界面化学（株）製）を用い、２５℃にて純水を用いて測定した水の接触角が、９０°以上、好ましくは９５°以上である。

本発明の表面撥水性硬化膜は、水の接触角がこのような値であることにより、撥水性に優れ、その結果、表面撥水性硬化膜上にインクジェット法によりマイクロレンズを形成した際にそのパターンの状態にも影響を与えるものと考えられる。

このような、水の接触角を有する表面撥水性硬化膜は、硬化膜を形成するインクジェット用インクを本発明の組成とすることにより得られる。特に、組成物に、界面活性剤を本発明のインクジェット用インクの組成を満たす量で含むことの影響が大きい。

＜３．マイクロレンズ付き基板＞
本発明のマイクロレンズ付き基板は、基板と、該基板上に形成された上記表面撥水性硬化膜と、該表面撥水性硬化膜上に形成されたマイクロレンズとを有する。

本発明のマイクロレンズ付き基板は、上記工程１および工程２を含む製造方法により基板上に形成された表面撥水性硬化膜の上に、マイクロレンズ形成用組成物をインクジェット法で塗布し、ドットパターンを形成することにより得られる。

マイクロレンズ形成用組成物としては、マイクロレンズに用いられる公知の組成物を用いることができる。

インクジェット法としては、上記インクジェット用インクの塗布に用いたインクジェットヘッドおよび塗布装置と同様のものを用いて行うことができる。インクジェットヘッドの加熱温度は、マイクロレンズ形成用組成物の吐出時の粘度が１〜３０ｍＰａ・ｓとなるように選択される。

＜４．用途＞
上記マイクロレンズ付き基板の用途は特に限定されないが、本発明のインクジェット用インクから得られる表面撥水性硬化膜は基板に対する密着性に優れ、高透過率および高強度を示すため、光学部品、特に、バックライト装置に使用されるマイクロレンズ付き基板として用いることが好ましい。

このようなバックライト装置に使用されるマイクロレンズのドット径は特に限定されないが、通常１０〜１００μｍが好ましく、２０〜６０μｍがさらに好ましく、３０〜５０μｍが特に好ましい。また、ドットの高さについても特に限定されないが、通常０．５〜１０μｍが好ましく、１〜８μｍがさらに好ましく、２〜６μｍが特に好ましい。

上記のようにして本発明のマイクロレンズ付き基板を用いて製造されたバックライトを実装することで、例えば液晶表示素子用の液晶ディスプレイを作製することができる。

以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例における各物性は、以下の条件で測定した。

（ｉ）粘度
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２）を用い、２５℃における粘度を測定した。

（ｉｉ）水接触角
Ｄｒｏｐ Ｍａｓｔｅｒ ５００（協和界面化学（株）製）を用い、２５℃にて純水を用いて測定した。

（ｉｉｉ）マイクロレンズのドットパターンの直径および高さのばらつき
基板中央の１０×１０個（合計１００個）のマイクロレンズのドットパターンについて、その直径と高さを触針式膜厚計Ｐ−１５（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ（株）製）
を用いて測定した。直径および高さのそれぞれの最大値と最小値を求め、両者の差をマイクロレンズの直径と高さのばらつきの指標とした。

（ｉｖ）重量平均分子量
標準ポリスチレンとして分子量が５００〜１５０，０００のポリスチレン（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製のＰＬ２０１０−０１０２（Ｓ−Ｍ２−１０）ｓｔａｎｄａｒｄ）、カラムにはＳｈｏｄｅｘ ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｄ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製）を２本用い、移動相としてＴＨＦを用いてゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。

（ｖ）露光量
ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定した。

実施例で用いた材料の商品名および製造元は以下の通りである。
ＥＯ変性（３モル）グリセリントリアクリレートで：「Ａ-ＧＬＹ-３Ｅ」、新中村化学工業（株）製、
トリメチロールプロパンＥＯ変性（３モル）トリアクリレート：「Ｍ−３５０」、東亞合成（株）製、
トリメチロールプロパントリアクリレート：「Ｍ−３０９」、東亞合成（株）製、
ｎ−ブチルメタクリレート：東京化成工業（株）製、
エチルメタクリレート：東京化成工業（株）製、
ｎ−ヘキシルメタクリレート：東京化成工業（株）製、
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド：「ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ」、チバ・ジャパン（株）製、
アクリル基含有界面活性剤：「ＲＳ−７２Ｋ」、ＤＩＣ（株）製、
フッ素系界面活性剤：「Ｆ−５５３」、ＤＩＣ（株）製、
フェノチアジン：東京化成工業（株）製、
エポキシ樹脂：「ＴＥＣＨＭＯＲＥ（商標）ＶＧ３１０１Ｌ」、三井化学（株）製、
フェノール樹脂：「マルカリンカー（商標）ＰＨＭ−Ｃ、丸善石油化学（株）社製、
難燃剤：「ＨＦＡ−３００３」、昭和高分子（株）製。

＜マイクロレンズ形成用インクジェットインクの調製＞
下記に示す材料を混合・溶解した後、１μｍのＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターでろ過し、マイクロレンズ形成用インクジェットインクを調製した。

Ａ-ＧＬＹ-３Ｅ ３５０．００ｇ
ｎ−ブチルメタクリレート ２００．００ｇ
ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ５５．００ｇ
フェノチアジン ０．２８ｇ
インクの粘度は、１２．３ｍＰａ・ｓであった。

［実施例１］
＜インクジェット用インクの調整＞
表１に示す材料を混合・溶解した後、１μｍのＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターでろ過し、インクジェット用インク１を調製した。インクジェット用インク１の粘度は１２．８ｍＰａ・ｓであった。

＜表面撥水性硬化膜の製造＞
次に、低圧水銀灯（ＰＨＯＴＯ ＳＵＲＦＡＣＥ ＰＲＯＣＥＳＳＯＲ ＰＬ２００３
Ｎ−１２ セン特殊光源（株）製）による紫外線照射を行って表面の濡れ性を高めた４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）を２枚用意した。インクジェット用インク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＤＭＰ−２８３１、ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ Ｉｎｃ．製）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度３０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、１００μｍ間隔で１ドットずつ、ガラス基板の表面処理を行った面上に吐出した。液滴はガラス基板上で濡れ広がり、ベタ膜を形成した。

このガラス基板上のベタ膜に、ＵＶ照射装置（Ｊ−ＣＵＲＥ１５００、（株）ジャテック製）を用いて紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ露光量で照射することで、表面撥水
性硬化膜が形成された２枚のガラス基板を得た。基板の１枚を使って水接触角を測定したところ、９７°であった。

＜マイクロレンズ付き基板の製造＞
マイクロレンズ形成用インクジェットインクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＤＭＰ−２８１１、ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ（株）製）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、水接触角の測定に用いなかったもう１枚の基板を使って、ガラス基板上に形成された表面撥水製硬化膜上に１５０μｍ間隔で１ドットずつ吐出した。

このドットパターンが等間隔で形成されたガラス基板に、ＵＶ照射装置（Ｊ−ＣＵＲＥ１５００、（株）ジャテック製）を用いて紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ²のＵＶ露光量で
照射することで、評価のためのマイクロレンズ付き基板を得た。マイクロレンズの直径と高さのばらつきを評価した。

以上の結果を表１に示す。

［実施例２〜５］
表１に示す材料を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、インクジェット用インク２〜５を調製した。インクジェット用インク２〜５の粘度を測定した。

インクジェット用インク２〜５を用い、実施例１と同様の方法で、表面撥水性硬化膜が形成された２枚のガラス基板を得た。基板の１枚を使って、水接触角を測定した。

水接触角の測定に用いなかったもう１枚の基板を使って、実施例１と同様の方法で、マイクロレンズ付き基板を製造し、マイクロレンズの直径と高さのばらつきを評価した。

以上の結果を表１に示す。

［比較例１］
表１に示す材料（マイクロレンズ形成用インクジェットインクと同組成）を用いた以外は実施例１と同様にして、光硬化性樹脂組成物５を調整した。光硬化性樹脂組成物５を用いて実施例１と同様の方法で硬化膜が形成された２枚のガラス基板を得た。基板の１枚を使って、水接触角を測定したところ、５４°であった。

水接触角の測定に用いなかったもう１枚の基板を使って、実施例１と同様の方法で、マイクロレンズを形成しようとしたが、マイクロレンズ形成用インクが基板上の硬化膜上に濡れ広がってしまい、マイクロレンズを形成することができなかった。

［比較例２］
攪拌器付４つ口フラスコにラジカル重合性モノマーと重合開始剤を下記の重量で仕込み、２−ブタノンの還流温度で４時間加熱して重合を行った。

２−ブタノン ２００．０ｇ
γ-メタクリロキシプロピルヘプタ（トリフルオロプロピル）-Ｔ₈-シルセスキオキサン
２．０ｇ
メチルメタクリレート ９８．０ｇ
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル） ２．０ｇ
反応液を室温まで冷却し、大量のヘキサンに投入した。生成した沈殿を１．３３×１０⁴Ｐａの減圧下６０℃で２０ｈｒ減圧乾燥した後ミキサーで粉砕し、さらに１．３３×１
０⁴Ｐａの減圧下６０℃で１０ｈｒ減圧乾燥して７４．６ｇの白色ポリマーを得た。この
ポリマーの重量平均分子量は１６，８００であった。

上記ポリマー１０．０ｇ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル４５．０ｇ、ガンマブチロラクトン４５．０ｇを混合溶解して表面処理剤を調製した。この表面処理剤の２５℃における粘度は、１０．３ｍＰａ・ｓであった。

この表面処理剤をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＤＭＰ−２８１１、ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ（株）製）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度２５℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）上に１５０μｍ間隔で１ドットずつ吐出した。液滴はガラス基板上で濡れ広がり、ベタ膜を形成した。このガラス基板を５０℃のホットプレート上で５分、さらに１５０℃のホットプレート上で５分乾燥し、表面撥水性皮膜が形成されたガラス基板２枚を得た。得られた基板の１枚を使って、水接触角を測定したところ、９６°であった。

水接触角の測定に用いなかったもう１枚の基板を使って、実施例１と同様の方法で、マイクロレンズ付き基板を製造し、マイクロレンズの直径と高さのばらつきを評価した。

以上の結果を表１に示す。

［比較例３］
インクジェット用インク１において、アクリル基含有界面活性剤の代わりに光架橋性官能基を持たないフッ素系界面活性剤を用いた以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク６を調製し、粘度を測定した。

インクジェット用インク６を用い、実施例１と同様の方法で、表面撥水性硬化膜が形成された２枚のガラス基板を得た。基板の１枚を使って、水接触角を測定した。

水接触角の測定に用いなかったもう１枚の基板を使って、実施例１と同様の方法で、マイクロレンズ付き基板を製造し、マイクロレンズの直径と高さのばらつきを評価した。

以上の結果を表１に示す。

表中の記号は以下の通りである。
A-GLY-3E：ＥＯ変性（３モル）グリセリントリアクリレート
M-350：トリメチロールプロパンＥＯ変性（３モル）トリアクリレート
M-309：トリメチロールプロパントリアクリレート
BMA：ｎ−ブチルメタクリレート
EMA：エチルメタクリレート
HMA：ｎ−ヘキシルメタクリレート
TPO：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
RS-72K：アクリル基含有界面活性剤
F-553：フッ素系界面活性剤
EDM：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
GBL：ガンマブチロラクトン
VG：エポキシ樹脂
PHM：フェノール樹脂
HFA：難燃剤。

表１から明らかなように、インクジェット用インクが界面活性剤を含有しないと、硬化膜上にマイクロレンズを形成することが困難である。また、本発明にかかるインクジェット用インクから得られる表面撥水性硬化膜上に形成されたマイクロレンズは、従来の表面
処理剤から得られた膜および光架橋性官能基を有さない界面活性剤を含有するインクジェット用インクから得られた膜上に形成されたマイクロレンズに比し直径と高さのばらつきが小さい。したがって、高品位の液晶ディスプレイ用導光板の製造に好ましく使用することができる。

以上説明したように、本発明のインクジェット用インクから得られる硬化膜上に、インクジェット法でマイクロレンズを形成すると、直径と高さのばらつきの小さいマイクロレンズを形成することができる。したがって、本組成物は高品位な光学部品を製造するのに有用である。

Claims (28)

1. 三官能（メタ）アクリレート（Ａ）、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および光架橋性官能基を有する界面活性剤（Ｄ）を含有するインクジェット用インクであって、該組成物を基板上に塗布し、２０００ｍＪ／ｃｍ²の露光量で紫外線を照
   射させて得た硬化膜表面の２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であり、２５℃における粘度が１〜２００ｍＰａ・ｓであるインクジェット用インク。
2. 三官能（メタ）アクリレート（Ａ）が式（１）で表わされる化合物である請求項１に記載のインクジェット用インク。
   

   

   （式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に水素または炭素数が１〜６のアルキルであり、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＲ⁸は、それぞれ独立に炭素数が１〜６のアルキレンであり、ｋは０または１であり、ｌ、ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜１０の整数である。）
3. 界面活性剤（Ｄ）の光架橋性官能基が、オキシラン、オキセタン、アクリルおよびメタクリルからなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１または２に記載のインクジェット用インク。
4. 界面活性剤（Ｄ）の光架橋性官能基がアクリルおよび／またはメタクリルである、請求項３に記載のインクジェット用インク。
5. 界面活性剤（Ｄ）が、シリコン系またはフッ素系の界面活性剤である、請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
6. インクジェット用インク総重量に対して、三官能（メタ）アクリレート（Ａ）を３０〜７０重量％、単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）を２０〜６０重量％、光重合開始剤（Ｃ）を１〜２０重量％、界面活性剤（Ｄ）を０．０１〜１０重量％含有する、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
7. Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷が、それぞれ独立に炭素数が２または３のアルキレンである、請求
   項２〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
8. Ｒ¹が水素であり、かつｋが０である、請求項２〜７のいずれかに記載のインクジェッ
   ト用インク。
9. ｌ、ｍおよびｎが１である、請求項２〜８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
10. 単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）のエステル部が、炭素数が１〜６のアルキルである、請求項１〜９のいずれかに記載のインクジェット用インク。
11. 単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ-ヘ
    キシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートおよびメチル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１０に記載のインクジェット用インク。
12. 単官能（メタ）アクリレート（Ｂ）がｎ−ブチル（メタ）アクリレートである、請求項１１に記載のインクジェット用インク。
13. 光重合開始剤（Ｃ）がα−ヒドロキシルアルキルフェノン系またはアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤である、請求項１〜１２のいずれかに記載のインクジェット用インク。
14. 光重合開始剤（Ｃ）が２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドである、請求項１３に記載のインクジェット用インク。
15. さらに重合禁止剤（Ｅ）を含有する、請求項１〜１４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
16. 重合禁止剤（Ｅ）がフェノチアジンである、請求項１５に記載のインクジェット用インク。
17. さらに溶媒（Ｆ）を含有する、請求項１〜１６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
18. 溶媒（Ｆ）が、溶媒（Ｆ）の総重量に対して、沸点１２０〜３００℃かつ２５℃における表面張力２２〜４８ｍＮ／ｍの溶媒を５０重量％以上含有している、請求項１７に記載のインクジェット用インク。
19. さらにエポキシ樹脂（Ｇ）を含有する、請求項１〜１８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
20. さらにエポキシ樹脂（Ｇ）以外の熱硬化性化合物（Ｈ）を含有する、請求項１〜１９のいずれかに記載のインクジェット用インク。
21. さらに、難燃剤（Ｉ）を含有する、請求項１〜２０のいずれかに記載のインクジェット用インク。
22. ２５℃における粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓである、請求項１〜２１のいずれかに記載のインクジェット用インク。
23. 請求項１〜２２のいずれかに記載のインクジェット用インクの架橋重合体からなる表面撥水性硬化膜。
24. （工程１）請求項１〜２２のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット法で基板に塗布し、基板上に塗膜を形成する工程、および
    （工程２）工程１で得られた塗膜に紫外線を照射する工程
    を含む表面撥水性硬化膜の製造方法。
25. 基板と、該基板上に形成された請求項２３に記載の表面撥水性硬化膜と、該表面撥水性硬化膜上に形成されたマイクロレンズとを有するマイクロレンズ付き基板。
26. （工程１）請求項１〜２２のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット法で基板に塗布し、基板上に塗膜を形成する工程、
    （工程２）工程１で得られた塗膜に紫外線を照射し表面撥水性硬化膜を形成する工程、および
    （工程３）工程２で得られた表面撥水性硬化膜の上に、マイクロレンズ形成用組成物をインクジェット法で塗布し、ドットパターンを形成する工程
    を含むマイクロレンズ付き基板の製造方法。
27. 請求項２５に記載のマイクロレンズ付き基板を有する光学部品。
28. 請求項２７に記載の光学部品を搭載した液晶ディスプレイ。