JP5699504B2 - インクジェット用光硬化性インク組成物 - Google Patents
インクジェット用光硬化性インク組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5699504B2 JP5699504B2 JP2010210777A JP2010210777A JP5699504B2 JP 5699504 B2 JP5699504 B2 JP 5699504B2 JP 2010210777 A JP2010210777 A JP 2010210777A JP 2010210777 A JP2010210777 A JP 2010210777A JP 5699504 B2 JP5699504 B2 JP 5699504B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink composition
- compound
- type
- photocurable ink
- inkjet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 CC(C(N1*C(O)=O)=O)=CC1=O Chemical compound CC(C(N1*C(O)=O)=O)=CC1=O 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
- C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3415—Five-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
- C09D11/36—Inkjet printing inks based on non-aqueous solvents
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
Description
そこで従来、これらの問題の改善を目的として、感光性カバーレイを導体面に塗布し保護層を形成する方法が提案されてきた(例えば、特開昭45−115541号公報(特許文献1)、特開昭51−40922号公報(特許文献2)、特開2004−156012号公報(特許文献3))を参照)。
さらに本発明は、水や有機溶媒の添加を必要とせず、材料設計が容易であり、環境負荷も少ないインクジェット用光硬化性インクを提供することをも目的としている。
さらに、本発明はこのようなインクジェット用光硬化性インク組成物のほか、該組成物から得られた硬化膜を有する電子回路基板などを提供する。
すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。
25℃における粘度が200mPa・s以下であることを特徴とするインクジェット用光硬化性インク組成物:
[3]前記一般式(1)において、Rが、任意の連続しない−CH2−がエーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合またはカルボニルで置き換えられていてもよい炭素数1〜50のアルキレン、炭素数3〜50のシクロアルキレンまたは炭素数6〜50のアリーレンであることを特徴とする[1]または[2]に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
[5]前記化合物(B)が、オキシラニルおよび/またはオキセタニルを有することを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
[7]前記化合物(B)が、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、水添ビスフェノールA型、水添ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、ビスフェノールAノボラック型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型、脂環型、複素環型、ジシクロペンタジエン型、またはナフタレン型の構造からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を有するエポキシ化合物であることを特徴とする[6]に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
[9]前記化合物(C)が、(メタ)アクリロイルを有することを特徴とする[8]に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
[11]さらに難燃剤(E)を含むことを特徴とする[1]〜[10]のいずれかに記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
[13]基板表面に回路が形成され、該基板および回路上の少なくとも一部に、[1]〜[12]のいずれかに記載のインクジェット用光硬化性インク組成物を硬化させて得られる硬化膜が形成されてなることを特徴とする電子回路基板。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物(以下単に「本発明のインク組成物」ともいう)は、上述のように、上記一般式(1)で表される化合物(A)(以下単に「化合物(A)」ともいう)と、オキシラニル、オキセタニル、アルコキシシリルおよび水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する化合物(B)と(以下単に「化合物(B)」ともいう)を含む。
前記化合物(A)は、下記一般式(1)で表され、それ自身が炭素−炭素二重結合部分で光重合して、化合物(A)に由来する構造単位が鎖状に結合した硬化物を形成し、また後述する化合物(B)と反応して、剛直な構造を形成し、耐熱性および耐めっき性に優れた硬化物を形成する。
本発明のインク組成物から得られる硬化物の耐熱性、耐めっき性および基板との密着性の特性のバランスの観点から、Rは炭素数1〜50のアルキレンであることがより好ましい。
また、化合物(A)は、下記一般式で表される化合物(a1)と、シトラコン酸無水物とを反応させることによって得ることができる。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、上記化合物(B)を含む。
化合物(B)は、オキシラニル、オキセタニル、アルコキシシリルおよび水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有していれば特に限定されない。
本発明のインク組成物においては、化合物(B)が有する上記の官能基が化合物(A)のカルボキシル基と反応し、硬化物を形成する。
エピクロンN−660、同N−665、同N−670、同N−673、同N−695(商品名;DIC(株)製)、EOCN−1020、EOCN−102S、EOCN−104S(商品名;日本化薬(株)製)等のクレゾールノボラック型エポキシ化合物;
エピクロン830(商品名;DIC(株)製)、JER807(商品名;三菱化学(株)製)、エポトートYDF−170(商品名;東都化成(株)製)、および、YDF−175、YDF−2001、YDF−2004、アラルダイドXPY306(商品名;BASFジャパン(株)製)等のビスフェノールF型エポキシ化合物;
エポトートST−2004、同ST−2007、同ST−3000(商品名;東都化成(株)製)等の水添ビスフェノールA型エポキシ化合物;
セロキサイド2021(商品名;ダイセル化学工業(株)製)、および、アラルダイドCY175、同CY179(商品名;BASFジャパン(株)製)等の脂環型エポキシ化合物;
YL−933(商品名;三菱化学(株)製)、および、EPPN−501、EPPN−502(商品名;ダウケミカル日本(株)製)、テクモアVG3101L(三井化学(株)製)等のトリスフェノールメタン型エポキシ化合物;
YL−6056、YX−4000、YL−6121(商品名;三菱化学(株)製)等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ化合物又はそれらの混合物;
EBPS−200(商品名;日本化薬(株)製)、EPX−30(商品名;(株)ADEKA製))およびEXA−1514(商品名;DIC(株)製)等のビスフェノールS型エポキシ化合物;
JER157S(商品名;三菱化学(株)製)等のビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物;
YL−931(商品名;三菱化学(株)製)およびアラルダイド163(商品名;BASFジャパン(株)製)等のテトラフェノールエタン型エポキシ化合物;
アラルダイドPT810(商品名;BASFジャパン(株)製)およびTEPIC(商品名;日産化学工業(株)製)等の複素環型エポキシ化合物;
HP−4032、EXA−4750、EXA−4700(商品名;DIC(株)製)等のナフタレン型エポキシ化合物;
HP−7200、HP−7200H、HP−7200HH(商品名;DIC(株)製)等のジシクロペンタジエン型エポキシ化合物が挙げられる。
以上説明した化合物(B)は、本発明のインク組成物において、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、上述のように、化合物(C)を含んでもよい。
本発明のインク組成物に化合物(C)を含有させると、該インク組成物の光硬化性が高められ、またインク組成物の粘度が低下し、インク組成物のジェッティング性が向上する。そのため、化合物(C)は本発明のインク組成物における光硬化性希釈モノマーとして使用することができる。
また、前記重合性基について、光重合性の観点から、前記3つの重合性基の中でも、(メタ)アクリロイルが特に好ましい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、光硬化性をさらに向上するために、光重合開始剤(D)を含んでもよい。光重合開始剤(D)は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されないが、アルキルフェノン系、アシルフォスフィンオキサイド系またはチタノセン系光重合化合物が好ましく、その中でも特にアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤が、光硬化性の観点から好ましい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、難燃剤(E)を含んでもよい。本明細書において、難燃剤(E)とは難燃性を付与できる化合物であれば特に限定されないが、低有毒性、低公害性、安全性の観点から、有機リン系難燃剤を難燃剤(E)として用いることが好ましい。また、難燃剤の中には(メタ)アクリロイルを有するものも存在するが、このような難燃剤は、本明細書においては、上記化合物(C)ではなく難燃剤(E)に該当するものとする。
本発明のインク組成物において、前記難燃剤(E)の含有量が、該インク組成物総量の5〜25重量%であると、該インク組成物から得られる硬化膜の耐めっき性および耐熱性とジェッティング性とのバランスが良く、かつ難燃性に優れるため好ましく、より好ましくは7〜20重量%であり、さらに好ましくは10〜20重量%であり、特に好ましくは12〜20重量%である。
上述のように、本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、化合物(A)以外のエポキシ硬化剤、メラミン樹脂およびフェノール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物(F)を含んでもよい。
本発明のインク組成物が、化合物(B)などとしてエポキシ化合物を含んでいる場合、前記インク組成物から得られる硬化膜の耐めっきおよび耐熱性をより向上させるために、さらに化合物(A)以外のエポキシ硬化剤を前記インク組成物に含有させてもよい。
前記エポキシ硬化剤の具体例としては、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、無水フタル酸、トリメリット酸無水物、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン(ポリアミド樹脂)、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、m−キシレンジアミン、m−フェニレンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N−アミノエチルピペラジン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサクロルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸およびメチル−3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸が挙げられる。
本発明のインク組成物におけるエポキシ硬化剤の含有量は、該インク組成物総量の0.5〜50重量%であると、該インク組成物から得られる硬化膜の耐めっき性および耐熱性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは0.5〜40重量%であり、さらに好ましくは0.5〜30重量%である。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物には、耐めっき性および耐熱性を向上させるために、メラミン樹脂を含有させてもよい。
メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造された樹脂であれば、特に限定されないが、その具体例としては、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、エーテル化メチロールベンゾグアナミン、及びそれらの縮合物を挙げることができる。これらの中でも、エーテル化メチロールメラミンを含有させると、本発明のインク組成物から耐めっき性が良好な硬化膜が得られるので、好ましい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、該インク組成物から得られる硬化膜の耐めっき性および耐熱性を向上させるために、フェノール樹脂を含んでもよい。
前記フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体(水素添加物を含む)、又はビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体(水素添加物を含む)などが好ましく用いられる。
同じく、前記アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒドおよびアセトアルデヒドなどが挙げられる。
本発明のインク組成物において、前記フェノール樹脂は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、各種特性をさらに向上させるために、着色剤、溶媒、界面活性剤および重合禁止剤などを含んでもよい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、例えば、基板上に該インク組成物から硬化膜を形成し、その硬化膜の状態を検査する際に、基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、染料および顔料が好ましい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、溶媒(水や有機溶媒)を含まなくとも十分なジェッティング性を有しているため、材料設計が容易で、環境負荷の小さいインク組成物であるが、ジェッティング性をさらに向上させるために、溶媒を含んでもよい。
これらの溶媒は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、下地基板への濡れ性や、前記インク組成物から得られる硬化膜の膜面均一性を向上させるために、界面活性剤を含んでもよい。本発明においては、前記界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤などが用いられる。
前記アクリル系界面活性剤の具体例としては、Byk−354、同358及び同361(商品名;ビックケミー・ジャパン(株)製)が挙げられ、
前記フッ素系界面活性剤の具体例としては、DFX−18、フタージェント250および同251(商品名;(株)ネオス製)、ならびにメガファックF−477、同479、同553、同554、RS−72−K、RS−211(商品名;DIC(株)製)が挙げられる。
本発明のインク組成物においては、前記界面活性剤は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。
本発明のインク組成物において、前記重合禁止剤は、1種単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物の粘度は、E型粘度計を用いて25℃で測定され、200mPa・s以下である。そのため、本発明のインク組成物は、溶媒を含まなくとも、優れたジェッティング性を有している。なお、必要に応じて前記インク組成物が溶媒を含んでもよいことは、前述のとおりである。
本発明のインク組成物の粘度は、ジェッティング性の観点から、好ましくは2〜200mPa・sであり。より好ましくは10〜180mPa・sであり、さらに好ましくは20〜150mPa・sである。
一方インクジェットヘッドを加温しない場合、インク組成物の粘度は、溶媒の量がインク組成物総量の60重量%以下になるように、溶媒を加えて調整することができる。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。特に、本発明のインク組成物は、前記(A)、(B)成分および必要に応じて上記の(C)〜(F)成分やその他の成分を混合し、得られた溶液をろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。
本発明のインクジェット用インクは、−20〜25℃で保存すると、保存中の粘度変化(増加)が小さく、保存安定性が良好である。
本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物は、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インク組成物に力学的エネルギーを作用させてインク組成物をインクジェットヘッドから吐出(塗布)する方法(いわゆるピエゾ方式)、及びインク組成物に熱エネルギーを作用させてインク組成物を吐出する方法(いわゆるバブルジェット(登録商標)方式)がある。
上述した本発明のインクジェット用光硬化性インク組成物を、インクジェット法により基板表面に塗布した後に、該インク組成物に紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることで、硬化膜が得られる。
[合成例]
50mLナス型フラスコ中に、β−アラニン0.15mol(13.29g)(東京化成工業(株)製)およびシトラコン酸無水物0.15mol(16.72g)(東京化成工業(株)製)を加え、150℃で3時間攪拌した。攪拌後、50mLナス型フラスコ中にトルエンを加え、反応で生じた水を除きながら1時間還流した。
水を取り除いた後に、ロータリーエバポレーターを用いて反応液からトルエンを除去することにより、下記式で表される化合物(以下「化合物A1」という)27.37gを得た。
[比較合成例]
N,N−ジメチルホルムアミド320ml中に、マレイン酸無水物1.0mol(98.1g)(東京化成工業(株)製)およびp−アミノ安息香酸1.0mol(137.1g)(東京化成工業(株)製)を溶解し、窒素雰囲気下、得られた溶液を室温で5時間攪拌した。攪拌後、前記溶液を大量の水に加え、反応生成物を沈殿させた。この沈殿物をろ過、乾燥し、水にて再結晶し精製した。
次に、実施例1〜4及び比較例1〜6にて作製したインクジェット用光硬化性インク組成物及びそれを使用して得られた硬化膜パターン形成基板について説明する。
化合物(A)として上記合成例で合成した化合物A1、化合物(B)としてビスフェノールA型エポキシ化合物であるエピコート828(商品名; 三菱化学(株) 製)、化合物(C)として、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(商品名:東京化成(株)製、以下HEMA)、光重合開始剤(D)として2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるDAROCUR TPO(商品名;BASFジャパン(株)製)、重合禁止剤としてフェノチアジンを下記組成割合にて混合、溶解した後、得られた組成物を1μmのPTFE製のメンブレンフィルターでろ過し、インクジェット用光硬化性インク組成物1を調製した。
(A) 化合物A1 0.6000g
(B) エピコート828 0.6000g
(C) HEMA 0.8000g
(D) TPO 0.1000g
その他 フェノチアジン 0.0010g
E型粘度計(東機産業(株)製 TV−22、以下同じ)を用い、25℃における前記インク組成物1の粘度を測定した結果、粘度は111mPa・sであった。
実施例1において、化合物(C)としてさらにジプロピレングリコールジアクリレートであるSR508(商品名;サートマージャパン(株)製)を加えて、下記組成割合とした以外は実施例1と同様の方法でインクジェット用光硬化性インク組成物2を調製した。
(A) 化合物A1 0.6000g
(B) エピコート828 0.6000g
(C) HEMA 0.8000g
(C) SR508 0.4000g
(D) TPO 0.1200g
その他 フェノチアジン 0.0012g
E型粘度計を用い、25℃における前記インク組成物2の粘度を測定した結果、粘度は85mPa・sであった。
実施例1において、難燃剤(E)として縮合9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10オキシドであるHFA−3003(昭和電工(株)製)を加えて、下記組成割合とした以外は実施例1と同様の方法でインクジェット用光硬化性インク組成物3を調製した。
(A) 化合物A1 0.6000g
(B) エピコート828 0.6000g
(C) HEMA 0.8000g
(D) TPO 0.1200g
(E) HFA−3003 0.4000g
その他 フェノチアジン 0.0012g
E型粘度計を用い、25℃における前記インク組成物3の粘度を測定した結果、粘度は135mPa・sであった。
実施例1において、化合物(F)としてメチロールメラミン樹脂であるニカラックMW−30(商品名;(株)三和ケミカル製)を加えて、下記組成割合とした以外は実施例1と同様の方法でインクジェット用インク4を調製した。
(A) 化合物A1 0.6000g
(B) エピコート828 0.6000g
(C) HEMA 0.8000g
(D) TPO 0.1200g
(F) ニカラックMW−30 0.4000g
その他 フェノチアジン 0.0012g
E型粘度計を用い、25℃におけるインク組成物4の粘度を測定した結果、粘度は125mPa・sであった。
実施例1において、化合物A1を使用せず、下記組成割合とした以外は実施例1と同様の方法でインクジェット用光硬化性インク組成物5を調製した。
(B) エピコート828 0.6000g
(C) HEMA 0.8000g
(D) TPO 0.0700g
その他 フェノチアジン 0.0007g
E型粘度計を用い、25℃におけるインク組成物5の粘度を測定した結果、粘度は61mPa・sであった。
実施例1において、エピコート828を使用せず、下記組成割合とした以外は実施例1と同様の方法でインクジェット用光硬化性インク組成物6を調製した。
(A) 化合物A1 0.6000g
(C) HEMA 0.8000g
(D) TPO 0.0700g
その他 フェノチアジン 0.0007g
E型粘度計を用い、25℃におけるインク組成物6の粘度を測定した結果、粘度は73mPa・sであった。
実施例1において、各成分の配合割合を下記組成割合とした以外は実施例1と同様の方法でインクジェット用光硬化性インク組成物7を調製した。
(A) 化合物A1 0.6000g
(B) エピコート828 0.6000g
(C) HEMA 0.2000g
(D) TPO 0.0700g
その他 フェノチアジン 0.0007g
E型粘度計を用い、25℃におけるインク組成物7の粘度を測定した結果、粘度は255mPa・sであった。
実施例1において、化合物A1の代わりとして2−メタクリロイロキシエチルフタル酸であるCB−1(商品名;新中村化学工業(株)製)を使用し、下記組成割合とした以外は実施例1と同様の方法でインクジェット用光硬化性インク組成物8を調製した。
CB−1 0.6000g
(B) エピコート828 0.6000g
(C) HEMA 0.8000g
(D) TPO 0.1200g
その他 フェノチアジン 0.0012g
E型粘度計を用い、25℃におけるインク組成物8の粘度を測定した結果、粘度は89mPa・sであった。
実施例1において、化合物A1の代わりとして上記比較合成例で合成した化合物MIを使用したが、MIが他の成分に溶解せず、インク組成物を得ることはできなかったため、後述するその後の試験は中断した。
実施例1において、化合物A1の代わりとしてN−シクロヘキシルマレイミドであるイミレックス−C(商品名;(株)日本触媒製)を使用し、下記組成割合とした以外は実施例1と同様の方法でインクジェット用光硬化性インク組成物10を調製した。
イミレックス−C 0.6000g
(B) エピコート828 0.6000g
(C) HEMA 0.8000g
(D) TPO 0.1200g
その他 フェノチアジン 0.0012g
E型粘度計を用い、25℃におけるインク組成物10の粘度を測定した結果、粘度は92mPa・sであった。
前記の硬化膜パターン形成基板の作製時、および作製後に、インクジェット用光硬化性インク組成物のジェッティング性および光硬化性、ならびに硬化膜の耐めっき性、基板との密着性、難燃性および耐熱性を評価した。各試験方法は以下のとおりで、評価結果を後記の表1に示す。
各実施例及び比較例で得られた(比較例5を除く)基板上のパターンの乱れ、印刷のかすれを観察して、インク組成物のジェッティング性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
○:パターンの乱れ、印刷のかすれが全くない
△:パターンの乱れ、印刷のかすれが僅かに発生
×:パターンの乱れ、印刷のかすれが多い。
各実施例及び比較例で得られた基板(1〜6、8、10)をUV露光(500mJ/cm2)した後表面を指触し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。なお、UV露光に使用した光源はハリソン東芝ライティング(株)社製のメタルハライドランプMJ−1500Lであり、露光量はウシオ電機(株)製の受光器UVD−365PDを取り付けた積算光量計UIT−201で測定した。
◎:硬化膜表面に指触跡が全く残らない
○:硬化膜表面に指触跡がほんの僅か残る
△:硬化膜表面に指触跡が完全に残る
×:全く硬化しない。
各実施例及び比較例で得られた(比較例3および5を除く)硬化膜パターン形成基板を30℃のパラジウム水溶液(商品名:KAT−450、Pd濃度12mg/L、上村工業(株)製)に1分浸漬して水洗した後に、80℃の無電解ニッケルめっき液(商品名:ニムデンNPR−4、Ni濃度4.5g/L、上村工業(株)製)中に30分浸漬させて水洗を行った後に、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。
その後、続いて80℃の無電解金めっき液(商品名:ゴブライトTAM−55、Au濃度1g/L、上村工業(株)製)中に硬化膜パターン形成基板を10分浸漬させて水洗した後に、同様の観察を行った。評価基準は以下のとおりである。
◎:硬化膜にふくれや剥がれ、変色が全く見られない
○:硬化膜に若干変色が見られるものの、ふくれや剥れが全くない
△:硬化膜に多くのふくれや剥がれ、変色が見られる
×:硬化膜は完全に剥がれた。
各実施例及び比較例で得られた(比較例3および5を除く)硬化膜パターン形成基板について、硬化膜の銅張積層板との密着性を評価するために、碁盤目法(JIS K 5400(1990))を実施し、硬化膜の剥離が生じたか否かを調べた。当該試験は、温度25℃、湿度65%の条件下で行った。評価基準は以下のとおりである。
◎:100個中1個も剥がれなかった
○:100個中1〜20個が剥がれた
△:100個中21〜50個が剥がれた
×:100個中51〜100個が剥がれた。
インクジェット用光硬化性インク組成物から得られる硬化膜の難燃性の評価をするために、ポリイミドフィルム(厚さ50μm)であるカプトン200H(東レ・デュポン(株)製)上に、各実施例および比較例で得られた(比較例3および5を除く)インク組成物をアプリケーターで膜厚25μmとなるように表面に塗布し、波長365nmの紫外線を500mJ/cm2の露光量で照射して、200℃で30分間焼成し、硬化膜を作成した。
◎評価には該当せず、炎を離してから10秒以内に消炎し、高さ125mmまで炎が達しない場合を「○」とし、
○評価に該当せず、炎を離してから消炎までに10秒〜1分間かかる、あるいは高さ125mmまで炎が達した場合を「△」とし、
△評価に該当せず、炎を離して1分経過しても消炎しない、あるいは1分経過しても消炎せず、かつ高さ125mmまで炎が達した場合を「×」とした。
なお、当該評価はUL−94の薄肉材料の垂直燃焼試験に準じて評価し、「◎」または「○」の場合はVTM−0に相当する。
各実施例及び比較例(比較例3および5を除く)で得られた基板の硬化膜をそれぞれ10mgずつ削り取り、それについて、TG/DTA装置(TG/DTA6200 エスアイアイ・ナノテクノロジー(株) 製)にて熱重量の測定を行った。耐熱性の評価結果は、5%重量減時の温度で示した。
なお、前記硬化膜をカバーレイフィルムとして使用する場合、5%重量減時温度が300℃以上となるだけの耐熱性が求められる。
以上の評価試験の結果を表1に示す。
一方、基板5、6、8、10から得られた硬化膜では、5%重量減時温度が300℃に達することができなかった。
Claims (12)
- 前記一般式(1)において、Rが、炭素数1〜50の二価の有機基であることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- 前記一般式(1)において、Rが、任意の連続しない−CH2−がエーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合またはカルボニルで置き換えられていてもよい炭素数1〜50のアルキレン、炭素数3〜50のシクロアルキレンまたは炭素数6〜50のアリーレンであることを特徴とする請求項1または2に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- 前記一般式(1)において、Rが、炭素数1〜50のアルキレンであることを特徴とする請求項3に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- 前記化合物(B)が、オキシラニルを有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- 前記化合物(B)が、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、水添ビスフェノールA型、水添ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、ビスフェノールAノボラック型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型、脂環型、複素環型、ジシクロペンタジエン型、またはナフタレン型の構造からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を有するエポキシ化合物であることを特徴とする請求項5に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- さらに、前記化合物(B)以外の、(メタ)アクリロイル、アリルおよびビニルからなる群より選ばれる少なくとも1種の重合性基を有する化合物(C)を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- 前記化合物(C)が、(メタ)アクリロイルを有することを特徴とする請求項7に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- さらに光重合開始剤(D)を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- さらに難燃剤(E)を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- さらに、前記化合物(A)以外のエポキシ硬化剤、メラミン樹脂およびフェノール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物(F)を含むことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物。
- 基板表面に回路が形成され、該基板および回路上の少なくとも一部に、請求項1〜11のいずれか1項に記載のインクジェット用光硬化性インク組成物を硬化させて得られる硬化膜が形成されてなることを特徴とする電子回路基板。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010210777A JP5699504B2 (ja) | 2010-09-21 | 2010-09-21 | インクジェット用光硬化性インク組成物 |
TW100133443A TWI506098B (zh) | 2010-09-21 | 2011-09-16 | 噴墨用光硬化性墨水組成物 |
KR20110094410A KR20120030962A (ko) | 2010-09-21 | 2011-09-20 | 잉크젯용 광경화성 잉크 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010210777A JP5699504B2 (ja) | 2010-09-21 | 2010-09-21 | インクジェット用光硬化性インク組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012067151A JP2012067151A (ja) | 2012-04-05 |
JP5699504B2 true JP5699504B2 (ja) | 2015-04-15 |
Family
ID=46134739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010210777A Expired - Fee Related JP5699504B2 (ja) | 2010-09-21 | 2010-09-21 | インクジェット用光硬化性インク組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5699504B2 (ja) |
KR (1) | KR20120030962A (ja) |
TW (1) | TWI506098B (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012201830A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Fujifilm Corp | インク組成物及び画像形成方法。 |
JP2014169379A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Fujifilm Corp | 加飾シートの製造方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法、及び、インモールド成形品 |
KR101813845B1 (ko) * | 2015-02-12 | 2017-12-29 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 잉크젯용 경화성 조성물 및 전자 부품의 제조 방법 |
EP3320014B1 (de) * | 2015-07-09 | 2022-04-06 | Basf Se | Härtbare zusammensetzungen |
JP6587697B2 (ja) * | 2016-01-29 | 2019-10-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 |
KR102125596B1 (ko) * | 2016-04-08 | 2020-06-22 | 주식회사 엘지화학 | 3d 프린팅 지지체용 잉크 조성물 |
JP6944775B2 (ja) * | 2016-10-14 | 2021-10-06 | 東京インキ株式会社 | インクジェットインクおよび当該インクジェットインクを用いた印刷物の製造方法 |
JP7011055B2 (ja) | 2017-10-27 | 2022-01-26 | サムスン エスディアイ カンパニー,リミテッド | 量子ドット含有組成物、量子ドット製造方法およびカラーフィルタ |
EP3498788B1 (en) | 2017-12-18 | 2023-05-03 | Agfa-Gevaert Nv | Solder mask inkjet inks for manufacturing printed circuit boards |
WO2019167976A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 株式会社大阪ソーダ | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ組成物 |
KR102296792B1 (ko) | 2019-02-01 | 2021-08-31 | 삼성에스디아이 주식회사 | 무용매형 경화성 조성물, 이를 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치 및 상기 경화막의 제조방법 |
KR102360987B1 (ko) | 2019-04-24 | 2022-02-08 | 삼성에스디아이 주식회사 | 양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 디스플레이 장치 |
KR102504790B1 (ko) | 2019-07-26 | 2023-02-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 양자점, 이를 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5309478B2 (ja) * | 2007-06-06 | 2013-10-09 | Jnc株式会社 | 難燃剤、およびこれを用いた硬化性組成物 |
JP2009102499A (ja) * | 2007-10-23 | 2009-05-14 | Canon Inc | 活性エネルギー線硬化型液体組成物及び液体カートリッジ |
JP2011001538A (ja) * | 2009-05-19 | 2011-01-06 | Chisso Corp | 撥液性を有する光硬化性インクジェット用インク |
-
2010
- 2010-09-21 JP JP2010210777A patent/JP5699504B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-09-16 TW TW100133443A patent/TWI506098B/zh not_active IP Right Cessation
- 2011-09-20 KR KR20110094410A patent/KR20120030962A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120030962A (ko) | 2012-03-29 |
TWI506098B (zh) | 2015-11-01 |
TW201213452A (en) | 2012-04-01 |
JP2012067151A (ja) | 2012-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5699504B2 (ja) | インクジェット用光硬化性インク組成物 | |
JP6028731B2 (ja) | 光硬化性インクジェットインクおよび電子回路基板 | |
JP2011256271A (ja) | 硬化性組成物およびその用途、ならびに新規化合物 | |
JP5477150B2 (ja) | インクジェット用インクおよびその用途 | |
JP2011021079A (ja) | インクジェット用インク | |
JP5927783B2 (ja) | 光硬化性インクジェットインク | |
TWI461446B (zh) | 噴墨用墨水 | |
JP6361664B2 (ja) | 光硬化性インクジェットインク | |
JP2013185040A (ja) | 光硬化性インクジェットインク | |
JP5974813B2 (ja) | 光硬化性インクジェットインクおよび該インクから得られる撥液性硬化膜 | |
JP2013023563A (ja) | インクジェット用インクおよびその硬化膜 | |
JP6094625B2 (ja) | 硬化膜 | |
JP5549555B2 (ja) | 硬化性組成物 | |
KR102156658B1 (ko) | 잉크젯 잉크, 마이크로 렌즈, 광학 부품 및 장치 | |
JP2014141568A (ja) | 光硬化性インクジェットインクおよびその用途 | |
JP2011057751A (ja) | 重合性組成物 | |
KR101896943B1 (ko) | 광경화성 조성물 | |
JP5573323B2 (ja) | 硬化性組成物およびその用途、ならびに硬化剤 | |
JP5531755B2 (ja) | コーティング組成物 | |
JP2014001321A (ja) | 光硬化性インクジェットインク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130417 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140320 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140507 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140624 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5699504 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |