JP2014081604A - ドライフィルムレジストシート及び製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、印刷回路基板のドライフィルムの硬化度を向上させることができるドライフィルムレジストシート及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明の一実施形態は、ベースフィルムと、上記ベースフィルム上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー及び光開始剤を含む第1のドライフィルムレジスト層と、上記第1のドライフィルムレジスト層上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー、光開始剤及び熱開始剤を含む第2のドライフィルムレジスト層と、を含むドライフィルムレジストシートを提供する。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の一実施形態は、ベースフィルムと、上記ベースフィルム上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー及び光開始剤を含む第1のドライフィルムレジスト層と、上記第1のドライフィルムレジスト層上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー、光開始剤及び熱開始剤を含む第2のドライフィルムレジスト層と、を含むドライフィルムレジストシートを提供する。
【選択図】図1
Description
本発明は、印刷回路基板のドライフィルムの硬化度を向上させることができるドライフィルムレジストシート及びその製造方法に関する。
最近、電子製品は多機能化及び高速化が急速に進行されている。このような傾向に対応するために、半導体チップ等の発熱素子及び発熱素子と主基板を連結させる発熱素子実装の印刷回路基板も非常に急速に発展している。
このような傾向は印刷回路基板の高速化及び高密度化と密接に連関しており、これらを満たすために印刷回路基板の軽薄短小化、微細回路化、高信頼性、高速信号伝達構造と関連した性能改善及び発展が多く必要とされている。
なお、印刷回路基板上へのドライフィルムレジストシートを用いた回路形成工程は次の通りである。基板洗浄→ラミネーション→露光→現像→エッチング→剥離工程の後に銅配線形成工程を経て微細回路を形成するが、剥離後にドライフィルムの一部の成分が銅箔の表面に残渣の形態を残して工程及び製品の不良をもたらす。
これにより、ドライフィルム自体を大気と窒素雰囲気でUV硬化した場合、ドライフィルムの厚さによる硬化度の偏差を測定すると、ドライフィルムの支持体のある上端と保護層が存在する下端の硬化度が偏差をなし、即ち、ドライフィルムの上部の硬化度に比べて下部の硬化度が平均20〜30%程度と硬化度が低い現象を示すため、剥離端に残渣部分を残す原因を提供する問題が発生する。
本発明は、このような下部領域の未硬化問題を解決するためのもので、より詳細には、硬化度を向上するためにドライフィルムを二つの層からなる複合層の構造に改良してドライフィルムの下部の硬化度を向上及び改善しようとするものである。
本発明の目的は、印刷回路基板のドライフィルムの硬化度を向上させることができるドライフィルムレジストシート及びその製造方法を提供することである。
本発明の一実施形態は、ベースフィルムと、上記ベースフィルム上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー及び光開始剤を含む第1のドライフィルムレジスト層と、上記第1のドライフィルムレジスト層上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー、光開始剤及び熱開始剤を含む第2のドライフィルムレジスト層と、を含むドライフィルムレジストシートを提供する。
上記第2のドライフィルムレジスト層は上部に保護フィルムをさらに含むことができる。
上記保護フィルムはポリエチレン(PE)であることができる。
上記ベースフィルムはポリエチレンテレフタレート(PET)であることができる。
上記結合剤高分子はスチレン(styrene)、メチルメタクリレート(methymethacrylate)、アクリル酸(acrylic acid)、エチルアクリレート(ethyl acrylate)、ブチルアクリレート(butyl acrylate)及びフェノキシジエチレングリコールアクリレート(phenoxy diethylene glycol acrylate)で構成される群から選択される2以上の組合物であることができる。
多官能性モノマーは多価アルコール(polyhydric alcohol)、アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステル((meth)acrylic esters)で構成される群から選択されることができる。
上記多官能性モノマーはテトラエチレングリコールジアクリレート(tetraethyleneglycol diacrylate(TEGDA))又はトリメチロールプロパントリアクリレート(trimethylolpropane triacrylate)(TMPTA)であることができる。
上記光開始剤は2−ターシャリ−ブチルアントラキノン(2−tert−butylanthraquinone)(2−TBAQ)又はベンゾフェノン(benzophenone)(BP)であることができる。
上記熱開始剤はアゾビスイソブチロニトリル(azobis isobutyronitrile)(AIBN)であることができる。
熱開始剤はドライフィルムレジストシートに対して0.05〜5重量%で含まれることができる。
上記第1のドライフィルムレジスト層及び第2のドライフィルムレジスト層は熱重合禁止剤をさらに含むことができる。
上記熱重合禁止剤は2−2'−メチレン−ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)(2−2'−methylene−bis(4−ethyl−6−t−butylphenol))であることができる。
上記第1のドライフィルムレジスト層及び第2のドライフィルムレジスト層は可塑剤をさらに含むことができる。
上記可塑剤はp−トルエンスルホンアミド(p−toluenesulfonamide)であることができる。
上記第1のドライフィルムレジスト層及び第2のドライフィルムレジスト層は感光増進剤をさらに含むことができる。
上記感光増進剤は4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(4,4'−bis(dimethylamino)benzophenone)であることができる。
本発明の他の実施形態は、ベースフィルムを準備する段階と、上記ベースフィルム上に結合剤高分子、多官能性モノマー及び光開始剤を含む第1のドライフィルムレジスト層を形成する段階と、上記第1のドライフィルムレジスト層上に結合剤高分子、多官能性モノマー、光開始剤及び熱開始剤を含む第2のドライフィルムレジスト層を形成する段階と、を含むドライフィルムレジストシートの製造方法を提供する。
上記第2のドライフィルムレジスト層は上部に保護フィルムを形成する段階をさらに含むことができる。
上記保護フィルムはポリエチレン(PE)であることができる。
上記ベースフィルムはポリエチレンテレフタレート(PET)であることができる。
上記結合剤高分子はスチレン、メチルメタクリレート、アクリル酸、エチルアクリレート、ブチルアクリレート及びフェノキシジエチレングリコールアクリレートで構成される群から選択される2以上の組合物であることができる。
上記多官能性モノマーは多価アルコール、アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルで構成される群から選択されることができる。
上記多官能性モノマーはテトラエチレングリコールジアクリレート(TEGDA)又はトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)であることができる。
上記光開始剤は2−ターシャリ−ブチルアントラキノン(2−TBAQ)又はベンゾフェノン(BP)であることができる。
上記熱開始剤はアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)であることができる。
上記熱開始剤はドライフィルムレジストシートに対して0.05〜5重量%で含まれることができる。
上記第1のドライフィルムレジスト層及び第2のドライフィルムレジスト層は熱重合禁止剤をさらに含むことができる。
上記熱重合禁止剤は2−2'−メチレン−ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)であることができる。
上記第1のドライフィルムレジスト層及び第2のドライフィルムレジスト層は可塑剤をさらに含むことができる。
上記可塑剤はp−トルエンスルホンアミドであることができる。
上記第1のドライフィルムレジスト層及び第2のドライフィルムレジスト層は感光増進剤をさらに含むことができる。
上記感光増進剤は4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンであることができる。
本発明によると、ドライフィルムの下部層である第2のドライフィルムレジスト層に熱開始剤を含ませて下部の硬化度を向上及び改善することによりドライフィルムレジストシート全体の硬化度の偏差を改善することができる。
以下では、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
一般に多層印刷回路基板の微細回路を形成するための材料としてドライフィルムレジストシート10を用いているが、ドライフィルムレジストシート10は、光照射によって重合が起こり、現像液に不溶性の作用基を有するネガティブフォトレジスト(negative photoresist)である。
印刷回路基板用の光源の場合は主に450‐300nmのi−ライン(i−line)、g−ライン(g−line)の領域帯で光重合が起こるシステムを採用しており、光硬化メカニズムは光開始剤から重合を開始してフリーラジカルの活性中間体を形成した後に単量体と反応して連鎖成長の段階を経て3次元の架橋結合をする。
一般的なドライフィルムレジストシート10に含まれる組成成分の構成は次の通りである。
結合剤高分子は、一般に50%以上用いられ、柔軟性、引張強度、耐薬品性の性質を決めるマトリックス樹脂である。
次に多い部分を占める材料は二重結合を含むモノマーである。これは感度、解像度、硬化密度などに影響を与え、一つのモノマーのみを用いる場合は特性発現が困難となるため、通常は二つ以上のモノマーを用いる。特に、架橋化の効率を増大するために、通常、多官能性モノマーを用いる。
また、光照射によって直接活性中間体を生成するための物質として光開始剤を含むが、光開始剤は、紫外線照射時に開始剤の活性ラジカルを発生させて二重結合を有している多官能性モノマーのラジカル重合を起こす。
その他の添加剤としては重合促進剤、熱重合禁止剤、接着性付与剤、光発色剤及び染料及び可塑剤があり、これらを定義すると、次の通りである。
重合促進剤は光開始剤と相互作用して感度、硬化速度に影響を及ぼし、塗膜の厚さが薄いときに効果がある。重合促進剤としては芳香族アミンが一般に多く用いられる。
一般に光によって開始反応が起こる物質は熱エネルギーによっても開始反応が起こる可能性があるため、熱重合禁止剤は、ドライフィルムレジストシートの製造、保存、運送、未塗布時に熱による重合を防止してドライフィルムレジストシートの特性を安定させる目的として用いられる。熱重合禁止剤は、生成されたラジカルと反応して反応速度を減少させて重合を禁止させる。
上記接着性付与剤は銅箔との接着性を強くするために添加される。
上記光発色剤及び染料は、露光によって未露光部分との色の差異を発生させて検査を容易にし、作業の効率性を増大させる。
また、可塑剤は、塗布時の流動性及び硬化レジストの可塑性を付与する役割をする。
従来では、印刷回路基板上へのドライフィルムレジストシート10を用いた回路形成工程において、ドライフィルムレジストシート10自体を大気と窒素雰囲気でUV硬化した場合、ドライフィルムレジストシート10の厚さによる硬化度の偏差を測定すると、ドライフィルムレジストシート10の支持体のある上端と保護層のある下端の硬化度が偏差をなすようになるため、製品の不良をもたらす問題が発生した。
上記硬化度の測定原理では硬化反応への参与度が低いC=Oストレッチングピーク(stretching peak)を参考に硬化の前後にアクリル(acryl)のC=C−H結合ピークの強度(intensity)を用いて硬化度を計算する。硬化度の計算式は次の通りである。
上記の硬化度の計算式による硬化度の測定結果、ドライフィルムレジストシート10の上部の硬化度は80〜90%であったのに対し、下部の硬化度は55〜65%であった。即ち、ドライフィルムレジストシート10の上部の硬化度に比べて下部の硬化度は平均20〜30%程度と低い現象を示したため、剥離工程で残渣部分を残す原因となる問題が発生した。
したがって、本願発明では、ドライフィルムレジストシート10の下部領域の未硬化問題を解決して硬化度を向上するために、熱開始剤を一定量添加し、ドライフィルムレジストシート10の上部と下部を二つの層で構成した。
図1は、本発明の実施形態によるドライフィルムレジストシート10の側面図である。
図1は、ベースフィルム1と、上記ベースフィルム1上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー及び光開始剤を含む第1のドライフィルムレジスト層2と、上記第1のドライフィルムレジスト層2上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー、光開始剤及び熱開始剤を含む第2のドライフィルムレジスト層3と、を含むドライフィルムレジストシート10を提供する。
ここで、下部の第2のドライフィルムレジスト層3は上部の第1のドライフィルムレジスト層2に熱開始剤を添加して構成される。熱開始剤としては、比較的少ない熱エネルギーを加えても開始反応を起こすアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)が好ましいが、これに限定されるものではない。
図2は、本発明の実施形態によるドライフィルムレジストシート10の形成構造のフローチャートを示したものである。
図2は、ベースフィルム1を準備する段階と、上記ベースフィルム1上に結合剤高分子、多官能性モノマー及び光開始剤を含む第1のドライフィルムレジスト層2を形成する段階と、上記第1のドライフィルムレジスト層2上に結合剤高分子、多官能性モノマー、光開始剤及び熱開始剤を含む第2のドライフィルムレジスト層3を形成する段階と、を含むドライフィルムレジストシート10の製造方法を提供する。
一般に、ドライフィルムレジストシート10はベースフィルム1の支持体上に感光液を塗布し乾燥した後に保護フィルム4を接合させて製造する。即ち、ベースフィルム1の上に第1のドライフィルムレジスト層2をキャスティングし乾燥し、その上に第2のドライフィルムレジスト層3をキャスティングし乾燥した後、保護フィルム4を接合させて製造する。
また、本願発明のドライフィルムレジストシート10の上記の硬化度の計算式による硬化度の測定結果、ドライフィルムレジストシート10の上部の硬化度は83%、下部の硬化度は81%であった。即ち、ドライフィルムレジストシート10を上部と下部の二つの層で構成した結果、上部と下部の硬化度がほぼ同じ値を示すため、ドライフィルムレジストシート10全体の硬化度の偏差を改善することができる。
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有する者には明らかである。
1 ベースフィルム
2 第1のドライフィルムレジスト層
3 第2のドライフィルムレジスト層
4 保護フィルム
10 ドライフィルムレジストシート
2 第1のドライフィルムレジスト層
3 第2のドライフィルムレジスト層
4 保護フィルム
10 ドライフィルムレジストシート
Claims (32)
- ベースフィルムと、
前記ベースフィルム上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー及び光開始剤を含む第1のドライフィルムレジスト層と、
前記第1のドライフィルムレジスト層上に形成された結合剤高分子、多官能性モノマー、光開始剤及び熱開始剤を含む第2のドライフィルムレジスト層と、
を含む、ドライフィルムレジストシート。 - 前記第2のドライフィルムレジスト層上に形成される保護フィルムをさらに含む、請求項1に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記保護フィルムはポリエチレン(PE)である、請求項2に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記ベースフィルムはポリエチレンテレフタレート(PET)である、請求項1から3の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記結合剤高分子はスチレン(styrene)、メチルメタクリレート(methymethacrylate)、アクリル酸(acrylic acid)、エチルアクリレート(ethyl acrylate)、ブチルアクリレート(butyl acrylate)及びフェノキシジエチレングリコールアクリレート(phenoxy diethylene glycol acrylate)で構成される群から選択される2以上の組合物である、請求項1から4の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記多官能性モノマーは多価アルコール(polyhydric alcohol)、アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステル((meth)acrylic esters)で構成される群から選択される、請求項1から5の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記多官能性モノマーはテトラエチレングリコールジアクリレート(tetraethyleneglycol diacrylate(TEGDA))又はトリメチロールプロパントリアクリレート(trimethylolpropane triacrylate)(TMPTA)である、請求項6に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記光開始剤は2−ターシャリ−ブチルアントラキノン(2−tert−butylanthraquinone)(2−TBAQ)又はベンゾフェノン(benzophenone)(BP)である、請求項1から7の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記熱開始剤はアゾビスイソブチロニトリル(azobis isobutyronitrile)(AIBN)である、請求項1から8の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記熱開始剤はドライフィルムレジストシートに対して0.05〜5重量%で含まれる、請求項1から9の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記第1のドライフィルムレジスト層及び前記第2のドライフィルムレジスト層は熱重合禁止剤をさらに含む、請求項1から10の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記熱重合禁止剤は2−2'−メチレン−ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)(2−2'−methylene−bis(4−ethyl−6−t−butylphenol))である、請求項11に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記第1のドライフィルムレジスト層及び前記第2のドライフィルムレジスト層は可塑剤をさらに含む、請求項1から12の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記可塑剤はp−トルエンスルホンアミド(p−toluenesulfonamide)である、請求項13に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記第1のドライフィルムレジスト層及び前記第2のドライフィルムレジスト層は感光増進剤をさらに含む、請求項1から14の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシート。
- 前記感光増進剤は4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(4,4'−bis(dimethylamino)benzophenone)である、請求項15に記載のドライフィルムレジストシート。
- ベースフィルムを準備する段階と、
前記ベースフィルム上に結合剤高分子、多官能性モノマー及び光開始剤を含む第1のドライフィルムレジスト層を形成する段階と、
前記第1のドライフィルムレジスト層上に結合剤高分子、多官能性モノマー、光開始剤及び熱開始剤を含む第2のドライフィルムレジスト層を形成する段階と、
を含む、ドライフィルムレジストシートの製造方法。 - 前記第2のドライフィルムレジスト層上に保護フィルムを形成する段階をさらに含む、請求項17に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記保護フィルムはポリエチレン(PE)である、請求項18に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記ベースフィルムはポリエチレンテレフタレート(PET)である、請求項17から19の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記結合剤高分子はスチレン、メチルメタクリレート、アクリル酸、エチルアクリレート、ブチルアクリレート及びフェノキシジエチレングリコールアクリレートで構成される群から選択される2以上の組合物である、請求項17から20の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記多官能性モノマーは多価アルコール、アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルで構成される群から選択される、請求項17から21の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記多官能性モノマーはテトラエチレングリコールジアクリレート(TEGDA)又はトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)である、請求項22に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記光開始剤は2−ターシャリ−ブチルアントラキノン(2−TBAQ)又はベンゾフェノン(BP)である、請求項17から23の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記熱開始剤はアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)である、請求項17から24の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記熱開始剤はドライフィルムレジストシートに対して0.05〜5重量%で含まれる、請求項17から25の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記第1のドライフィルムレジスト層及び前記第2のドライフィルムレジスト層は熱重合禁止剤をさらに含む、請求項17から26の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記熱重合禁止剤は2−2'−メチレン−ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)である、請求項27に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記第1のドライフィルムレジスト層及び前記第2のドライフィルムレジスト層は可塑剤をさらに含む、請求項17から28の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記可塑剤はp−トルエンスルホンアミドである、請求項29に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記第1のドライフィルムレジスト層及び前記第2のドライフィルムレジスト層は感光増進剤をさらに含む、請求項17から30の何れか1項に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
- 前記感光増進剤は4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンである、請求項31に記載のドライフィルムレジストシートの製造方法。
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