JP2014053592A5 - 洗浄液生成装置及び基板洗浄装置 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 51
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 7
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 14
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 230000002378 acidificating Effects 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
Description
本発明の実施形態は、洗浄液生成装置及び基板洗浄装置に関する。
本発明が解決しようとする課題は、洗浄性能を向上させることができる洗浄液生成装置及び基板洗浄装置を提供することである。
実施形態に係る洗浄液生成装置は、酸性又はアルカリ性の液体に過酸化水素水を混合して混合液を生成し、その生成した混合液の圧力を前記過酸化水素水が分解して生じた酸素ガス又は反応熱により発生した蒸気により高める密閉構造の混合部と、前記混合部に前記液体を供給する第１の供給部であって、前記液体が流れる方向を前記混合部側への一方向にして逆流を防止する逆止弁を介して接続された第１の供給部と、前記混合部に前記過酸化水素水を供給する第２の供給部であって、前記過酸化水素水が流れる方向を前記混合部側への一方向にして逆流を防止する逆止弁を介して接続された第２の供給部と、前記混合部の流出側に接続され、前記混合液が通過する貫通孔を有し、前記混合部によって圧力の高められた前記混合液を前記貫通孔に通して、前記混合部により高められた前記混合液の圧力を開放し、前記混合液中に複数の微小気泡を発生させる気泡発生部と、この気泡発生部により発生した前記複数の微小気泡を含む混合液を吐出する吐出配管と、を有し、前記気泡発生部に設けられる前記貫通孔は、前記吐出配管の内径よりも細く、かつ、前記混合部の配管の内径よりも細いことを特徴とする。
実施形態に係る基板洗浄装置は、酸性又はアルカリ性の液体に過酸化水素水を混合して混合液を生成し、その生成した混合液の圧力を前記過酸化水素水が分解して生じた酸素ガス又は反応熱により発生した蒸気により高める密閉構造の混合部と、前記混合部に前記液体を供給する第１の供給部であって、前記液体が流れる方向を前記混合部側への一方向にして逆流を防止する逆止弁を介して接続された第１の供給部と、前記混合部に前記過酸化水素水を供給する第２の供給部であって、前記過酸化水素水が流れる方向を前記混合部側への一方向にして逆流を防止する逆止弁を介して接続された第２の供給部と、前記混合部の流出口側に接続され、前記混合液が通過する貫通孔を有し、前記混合部によって圧力の高められた前記混合液を前記貫通孔を通して、前記混合部の圧力を開放し、前記混合液中に複数の微小気泡を発生させる気泡発生部と、この気泡発生部により発生した前記複数の微小気泡を含む混合液を吐出する吐出配管と、前記気泡発生部により発生した前記複数の微小気泡を含む混合液を前記吐出配管から吐出することにより基板を洗浄する洗浄部と、を備え、前記気泡発生部に設けられる前記貫通孔は、前記吐出配管の内径よりも細く、かつ、前記混合部の配管の内径よりも細いことを特徴とする。
Claims (10)
- 酸性又はアルカリ性の液体に過酸化水素水を混合して混合液を生成し、その生成した混合液の圧力を前記過酸化水素水が分解して生じた酸素ガス又は反応熱により発生した蒸気により高める密閉構造の混合部と、
前記混合部に前記液体を供給する第１の供給部であって、前記液体が流れる方向を前記混合部側への一方向にして逆流を防止する逆止弁を介して接続された第１の供給部と、
前記混合部に前記過酸化水素水を供給する第２の供給部であって、前記過酸化水素水が流れる方向を前記混合部側への一方向にして逆流を防止する逆止弁を介して接続された第２の供給部と、
前記混合部の流出側に接続され、前記混合液が通過する貫通孔を有し、前記混合部によって圧力の高められた前記混合液を前記貫通孔に通して、前記混合部により高められた前記混合液の圧力を開放し、前記混合液中に複数の微小気泡を発生させる気泡発生部と、
この気泡発生部により発生した前記複数の微小気泡を含む混合液を吐出する吐出配管と、
を有し、
前記気泡発生部に設けられる前記貫通孔は、前記吐出配管の内径よりも細く、かつ、前記混合部の配管の内径よりも細いことを特徴とする洗浄液生成装置。 - 前記液体を加熱する加熱部をさらに備え、
前記混合部は、前記加熱部により加熱された前記液体と前記過酸化水素水とを混合することを特徴とする請求項１に記載の洗浄液生成装置。 - 前記混合部の配管の内径は、前記第１の供給配管の内径及び前記第２の供給配管の内径よりも大きくなっていることを特徴とする請求項１または２に記載の洗浄液生成装置。
- 前記混合部は、前記液体と前記過酸化水素水とを攪拌する攪拌構造を有していることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の洗浄液生成装置。
- 前記気泡発生部は、
前記貫通孔の開口度を調整する調整機構を具備していることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の洗浄液生成装置。 - 前記混合部内の前記混合液の温度及び圧力の両方又はどちらか一方を検出する検出部と、
前記検出部により検出された前記温度及び圧力の両方又はどちらか一方に基づいて、前記調整機構により前記貫通孔の開口度を制御する制御部と、
をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の洗浄液生成装置。 - 前記吐出配管は、４５度以上の屈曲部を少なくとも一個有していることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の洗浄液生成装置。
- 前記吐出配管の途中に設けられた網部材と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか一項に記載の洗浄液生成装置。 - 前記混合部はセラミック材料により形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれか一項に記載の洗浄液生成装置。
- 酸性又はアルカリ性の液体に過酸化水素水を混合して混合液を生成し、その生成した混合液の圧力を前記過酸化水素水が分解して生じた酸素ガス又は反応熱により発生した蒸気により高める密閉構造の混合部と、
前記混合部に前記液体を供給する第１の供給部であって、前記液体が流れる方向を前記混合部側への一方向にして逆流を防止する逆止弁を介して接続された第１の供給部と、
前記混合部に前記過酸化水素水を供給する第２の供給部であって、前記過酸化水素水が流れる方向を前記混合部側への一方向にして逆流を防止する逆止弁を介して接続された第２の供給部と、
前記混合部の流出口側に接続され、前記混合液が通過する貫通孔を有し、前記混合部によって圧力の高められた前記混合液を前記貫通孔を通して、前記混合部の圧力を開放し、前記混合液中に複数の微小気泡を発生させる気泡発生部と、
この気泡発生部により発生した前記複数の微小気泡を含む混合液を吐出する吐出配管と、
前記気泡発生部により発生した前記複数の微小気泡を含む混合液を前記吐出配管から吐出することにより基板を洗浄する洗浄部と、を備え、
前記気泡発生部に設けられる前記貫通孔は、前記吐出配管の内径よりも細く、かつ、前記混合部の配管の内径よりも細いことを特徴とする基板洗浄装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013119525A JP6232212B2 (ja) | 2012-08-09 | 2013-06-06 | 洗浄液生成装置及び基板洗浄装置 |
| TW102128106A TWI510613B (zh) | 2012-08-09 | 2013-08-06 | A cleaning liquid generating device, and a substrate cleaning device |
| CN201310341712.5A CN103579053B (zh) | 2012-08-09 | 2013-08-07 | 清洗液生成装置及方法、基板清洗装置及方法 |
| US13/961,216 US20140041694A1 (en) | 2012-08-09 | 2013-08-07 | Cleaning solution producing apparatus, cleaning solution producing method, and substrate cleaning apparatus |
| KR1020130093672A KR101552765B1 (ko) | 2012-08-09 | 2013-08-07 | 세정액 생성 장치 및 기판 세정 장치 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012177122 | 2012-08-09 | ||
| JP2012177122 | 2012-08-09 | ||
| JP2013119525A JP6232212B2 (ja) | 2012-08-09 | 2013-06-06 | 洗浄液生成装置及び基板洗浄装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014053592A JP2014053592A (ja) | 2014-03-20 |
| JP2014053592A5 true JP2014053592A5 (ja) | 2016-07-21 |
| JP6232212B2 JP6232212B2 (ja) | 2017-11-15 |
Family
ID=50050543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013119525A Active JP6232212B2 (ja) | 2012-08-09 | 2013-06-06 | 洗浄液生成装置及び基板洗浄装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20140041694A1 (ja) |
| JP (1) | JP6232212B2 (ja) |
| KR (1) | KR101552765B1 (ja) |
| CN (1) | CN103579053B (ja) |
| TW (1) | TWI510613B (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6587865B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2019-10-09 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| WO2016088731A1 (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-09 | シグマテクノロジー有限会社 | マイクロ・ナノバブルによる洗浄方法及び洗浄装置 |
| KR101685159B1 (ko) | 2016-03-18 | 2016-12-12 | 파인비전(주) | 웨이퍼 세정액 공급장치 |
| KR101835986B1 (ko) * | 2016-07-25 | 2018-03-07 | 시오 컴퍼니 리미티드 | 유체 공급관 |
| US10758875B2 (en) * | 2016-12-30 | 2020-09-01 | Semes Co., Ltd. | Liquid supply unit, substrate treating apparatus, and method for removing bubbles |
| KR101838429B1 (ko) * | 2017-01-09 | 2018-03-13 | 시오 컴퍼니 리미티드 | 유체 공급관 |
| CN107282498A (zh) * | 2017-07-11 | 2017-10-24 | 河南师范大学 | 一种动物标本制作清洗装置 |
| CN109300800A (zh) * | 2017-07-24 | 2019-02-01 | 长鑫存储技术有限公司 | 基板处理装置及基板处理方法 |
| KR20190019229A (ko) * | 2017-08-16 | 2019-02-27 | 세메스 주식회사 | 세정액 공급 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 세정액 공급 방법 |
| JP6653692B2 (ja) * | 2017-11-20 | 2020-02-26 | 大同メタル工業株式会社 | 洗浄装置 |
| GB2573012A (en) * | 2018-04-20 | 2019-10-23 | Zeeko Innovations Ltd | Fluid jet processing |
| KR102461911B1 (ko) * | 2018-07-13 | 2022-10-31 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 제네레이터, 이를 포함하는 세정수 처리 장치, 반도체 세정 장치 및 세정수 처리 방법 |
| KR102074221B1 (ko) * | 2018-09-10 | 2020-02-06 | (주)신우에이엔티 | 나노 버블을 이용한 기판 세정 시스템 |
| US11571719B2 (en) * | 2019-10-04 | 2023-02-07 | Ebara Corporation | Nozzle and a substrate cleaning device |
| US11282696B2 (en) | 2019-11-22 | 2022-03-22 | Dangsheng Ni | Method and device for wet processing integrated circuit substrates using a mixture of chemical steam vapors and chemical gases |
| JP2022090170A (ja) * | 2020-12-07 | 2022-06-17 | Ｋｙｂ株式会社 | 気泡含有液体製造装置 |
| CN113319042B (zh) * | 2021-05-28 | 2022-05-27 | 佛山市顺德区小众迷你家具有限公司 | 一种金属加工设备 |
| CN114381344A (zh) * | 2022-01-25 | 2022-04-22 | 陕西科技大学 | 一种微泡促溶清洗液及其应用 |
| CN117443197B (zh) * | 2023-12-22 | 2024-03-29 | 天津工业大学 | 利用臭氧微纳米气泡离线清洗mbr中空纤维膜的方法 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61192328A (ja) * | 1985-02-20 | 1986-08-26 | Jinzo Nagahiro | 微細気泡発生装置 |
| US4817652A (en) * | 1987-03-26 | 1989-04-04 | Regents Of The University Of Minnesota | System for surface and fluid cleaning |
| JPH0629270A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-02-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体基板洗浄方法 |
| DE69402666T2 (de) * | 1993-09-28 | 1997-10-30 | Dow Corning Toray Silicone | Verfahren zum mischen eines Gases in einer hoch-viskose Flüssigkeit |
| KR100373307B1 (ko) | 1995-12-29 | 2003-05-09 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의세정방법 |
| US6013156A (en) * | 1998-03-03 | 2000-01-11 | Advanced Micro Devices, Inc. | Bubble monitor for semiconductor manufacturing |
| US6090217A (en) * | 1998-12-09 | 2000-07-18 | Kittle; Paul A. | Surface treatment of semiconductor substrates |
| US6299697B1 (en) * | 1999-08-25 | 2001-10-09 | Shibaura Mechatronics Corporation | Method and apparatus for processing substrate |
| JP2001129495A (ja) * | 1999-08-25 | 2001-05-15 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理方法及びその装置 |
| JP2005093926A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Trecenti Technologies Inc | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP2005183937A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-07-07 | Nec Electronics Corp | 半導体装置の製造方法およびレジスト除去用洗浄装置 |
| JP4672487B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2011-04-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | レジスト除去方法およびレジスト除去装置 |
| JP2008080230A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP5127325B2 (ja) * | 2007-07-03 | 2013-01-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| US8307907B2 (en) * | 2008-02-28 | 2012-11-13 | Hale Products, Inc. | Hybrid foam proportioning system |
| JP2012040448A (ja) * | 2008-11-14 | 2012-03-01 | Yasutaka Sakamoto | マイクロバブル発生装置 |
| JP4413266B1 (ja) * | 2008-12-15 | 2010-02-10 | アクアサイエンス株式会社 | 対象物洗浄方法及び対象物洗浄システム |
| JP2010201397A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Shibaura Mechatronics Corp | 微小気泡発生装置及び微小気泡発生方法 |
| KR101068872B1 (ko) * | 2010-03-12 | 2011-09-30 | 세메스 주식회사 | 약액 공급 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
| US8500104B2 (en) * | 2010-06-07 | 2013-08-06 | James Richard Spears | Pressurized liquid stream with dissolved gas |
| JP2012015293A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| JP2012143708A (ja) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄方法 |
| US8925766B2 (en) * | 2012-01-05 | 2015-01-06 | Gojo Industries, Inc. | Peroxide powered product dispensing system |
-
2013
- 2013-06-06 JP JP2013119525A patent/JP6232212B2/ja active Active
- 2013-08-06 TW TW102128106A patent/TWI510613B/zh active
- 2013-08-07 KR KR1020130093672A patent/KR101552765B1/ko active IP Right Grant
- 2013-08-07 US US13/961,216 patent/US20140041694A1/en not_active Abandoned
- 2013-08-07 CN CN201310341712.5A patent/CN103579053B/zh active Active
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