JP2014012647A - シクロヘキサシラン類の製造方法 - Google Patents
シクロヘキサシラン類の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014012647A JP2014012647A JP2012150907A JP2012150907A JP2014012647A JP 2014012647 A JP2014012647 A JP 2014012647A JP 2012150907 A JP2012150907 A JP 2012150907A JP 2012150907 A JP2012150907 A JP 2012150907A JP 2014012647 A JP2014012647 A JP 2014012647A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cyclohexasilane
- organic
- reducing agent
- group
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】式(i)または環状シラン・ジアンモニウム塩で示される環状シラン・ジアニオン塩と、アルミニウム系還元剤またはホウ素系還元剤とを反応させるシクロヘキサシランの製造方法。
(式(i)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R1〜R4は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
【選択図】なし
Description
(式(i)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R1〜R4は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
(式(ii)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R5〜R8は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
(式(i)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R1〜R4は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
(式(ii)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R5〜R8は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
(式(iii)中、Rはアルキル基またはアリール基を表し、aは0〜6までの整数を表す。)
(式(i)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R1〜R4は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
(式(ii)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R5〜R8は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
アルミニウム系還元剤としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム等の金属水素化物等が挙げられる。これらアルミニウム系還元剤は1種のみを用いてもよいし2種以上を併用してもよい。
ホウ素系還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム等の金属水素化物が挙げられる。これらホウ素系還元剤は1種のみを用いてもよいし2種以上を併用してもよい。
グリニャール試薬としては、臭化メチルマグネシウムの如きハロゲン化アルキルマグネシウムや臭化フェニルマグネシウムの如きハロゲン化アリールマグネシウム等が挙げられる。これらグリニャール試薬は1種のみを用いてもよいし2種以上を併用してもよい。
有機リチウム試薬としては、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物やフェニルリチウム等のアリールリチウム化合物が挙げられる。これら有機リチウム試薬は1種のみを用いてもよいし2種以上を併用してもよい。
また環状シラン・ジアニオン塩を溶質とする溶液または分散液と、還元剤を溶質とする溶液または分散液とは、溶媒量がほぼ同量となるように各溶液または分散液の溶質濃度を設定することが好ましい。
前記還元反応は、通常、例えば窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスの雰囲気下で行うことが好ましい。
(式(iii)中、Rはアルキル基またはアリール基を表し、aは0〜6までの整数を表わす。)
前記一般式(iii)において、aは0〜6までの整数を表すが、好ましくは1以上であり、好ましくは5以下、より好ましくは4以下、さらに好ましくは3以下である。
温度計、コンデンサー、滴下ロートおよび攪拌装置を備えた300mL四つ口フラスコ内を窒素ガスで置換した後、N,N,N’,N’−テトラエチルエチレンジアミン6.6g(20mmol)とテトラフェニルホスホニウムクロリド10.0g(26mmol)と、ジクロロメタン100mLとを入れ、溶液を調製した。続いて、フラスコ内の溶液を攪拌しながら、25℃条件下において滴下ロートより、トリクロロシラン10.8g(78mmol)をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温で24時間攪拌して反応させ、その後、得られた反応混合物にヘキサン(20mL)を添加し、室温で3日間放置し、析出した白色固体を濾別した。この白色固体をIRにより分析したところ、テトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩([Ph4P+]2[Si6Cl14 2-])であることが確認できた。
温度計、コンデンサー、滴下ロートおよび攪拌装置を備えた300mL四つ口フラスコ内を窒素ガスで置換した後、テトラブチルアンモニウムクロリド10.4g(0.037mol)と、1,2−ジメトキシエタン2.90g(0.032mol)と、ジイソプロピルエチルアミン12.5g(0.097mol)と、1,2−ジクロロエタン100mLとを入れ、溶液を調製した。続いて、フラスコ内の溶液を攪拌しながら、25℃条件下において滴下ロートより、トリクロロシラン25.8g(0.191mol)をゆっくりと滴下した。滴下終了後、そのまま2時間攪拌し、引き続き50℃で8時間加熱攪拌することにより反応させた。反応後、得られた固体を濾過および精製して、ドデカクロロジヒドロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩([Bu4N+]2[Si6H2Cl12 2-])、トリデカクロロヒドロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩([Bu4N+]2[Si6HCl13 2-])、テトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩([Bu4N+]2[Si6Cl14 2-])の混合物を90質量%の含有率で含む白色固体を得た。
滴下ロートおよび攪拌装置を備えた100mL三つ口フラスコに、製造例1で得られた白色固体2.80gを入れて減圧乾燥させた。次いで、フラスコ内をアルゴンガスで置換した後、溶媒としてシクロペンチルメチルエーテル30mLを加えた。続いてフラスコ内の懸濁液を攪拌しながら、25℃条件下において滴下ロートより、還元剤として水素化リチウムアルミニウムのジエチルエーテル溶液(濃度:約1.0mol/L)10mLを徐々に滴下し、次いで25℃で5時間攪拌することにより反応させた。この反応中、シランガスが発生することはなかった。反応後、反応液を窒素ガス雰囲気下において濾過し、生成した塩を取り除いた。得られた濾液から減圧下で溶媒を留去して、シクロヘキサシランの無色透明液体を収率90%以上で得た。
滴下ロートおよび攪拌装置を備えた100mL三つ口フラスコに、製造例2で得られた白色固体2.80gを入れて減圧乾燥させた。次いで、フラスコ内をアルゴンガスで置換した後、溶媒としてシクロペンチルメチルエーテル30mLを加えた。続いてフラスコ内の懸濁液を攪拌しながら、25℃条件下において滴下ロートより、還元剤として水素化リチウムアルミニウムのジエチルエーテル溶液(濃度:約1.0mol/L)10mLを徐々に滴下し、次いで25℃で5時間攪拌することにより反応させた。この反応中、シランガスが発生することはなかった。反応後、反応液を窒素ガス雰囲気下において濾過し、生成した塩を取り除いた。得られた濾液から減圧下で溶媒を留去して、シクロヘキサシランの無色透明液体を収率90%以上で得た。
温度計、滴下ロートおよび攪拌装置を備えた300mL三つ口フラスコに、製造例1で得られた白色固体12.9gを入れて減圧乾燥させた。次いで、フラスコ内を窒素ガスで置換した後、溶媒としてテトラヒドロフラン100mLを加えた。続いて、フラスコ内の懸濁液を攪拌しながら、25℃条件下において滴下ロートより、臭化メチルマグネシウムのテトラヒドロフラン溶液(濃度:約1.0mol/L)130mLを徐々に滴下し、次いで25℃で24時間攪拌することにより反応させた。この反応中、有機モノシランが生成することはなかった。得られた反応混合物を加水分解させた後、ヘキサンとシクロペンチルメチルエーテルで生成物を抽出し、抽出液を減圧下で濃縮し、低温条件下(−30℃〜0℃)で再結晶化させて、ドデカメチルシクロヘキサシランの無色結晶を収率90%以上で得た。
Claims (3)
- 下記一般式(i)または下記一般式(ii)で示される環状シラン・ジアニオン塩と、アルミニウム系還元剤またはホウ素系還元剤とを反応させることを特徴とするシクロヘキサシランの製造方法。
(式(i)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R1〜R4は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
(式(ii)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R5〜R8は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。) - 下記一般式(i)または下記一般式(ii)で示される環状シラン・ジアニオン塩と、グリニャール試薬または有機リチウム試薬とを反応させることを特徴とする有機シクロヘキサシランの製造方法。
(式(i)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R1〜R4は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。)
(式(ii)中、Xはハロゲン元素を表し、aは0〜6までの整数を表し、R5〜R8は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。) - 下記一般式(iii)で示される有機シクロヘキサシラン。
(式(iii)中、Rはアルキル基またはアリール基を表し、aは0〜6までの整数を表す。)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012150907A JP6014392B2 (ja) | 2012-07-04 | 2012-07-04 | シクロヘキサシラン類の製造方法 |
US13/934,563 US20140012029A1 (en) | 2012-07-04 | 2013-07-03 | Method for producing cyclohexasilane |
TW102123761A TW201418270A (zh) | 2012-07-04 | 2013-07-03 | 環狀矽烷化合物或其鹽之製造方法及環己矽烷類之製造方法 |
KR1020130078312A KR20140005114A (ko) | 2012-07-04 | 2013-07-04 | 환상 실란 화합물 또는 그 염의 제조방법 및 사이클로헥사실란류의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012150907A JP6014392B2 (ja) | 2012-07-04 | 2012-07-04 | シクロヘキサシラン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014012647A true JP2014012647A (ja) | 2014-01-23 |
JP6014392B2 JP6014392B2 (ja) | 2016-10-25 |
Family
ID=50108615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012150907A Expired - Fee Related JP6014392B2 (ja) | 2012-07-04 | 2012-07-04 | シクロヘキサシラン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6014392B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017095324A (ja) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | 株式会社日本触媒 | 環状水素化シラン化合物の製造方法 |
US10544171B2 (en) | 2018-03-13 | 2020-01-28 | Nippon Shokubai Co., Ltd | Process for producing cyclic hydrogenated silane compound |
JP2020147463A (ja) * | 2019-03-13 | 2020-09-17 | 株式会社日本触媒 | 環状水素化シラン化合物の製造方法 |
JP7445677B2 (ja) | 2019-03-29 | 2024-03-07 | ザ コアテック グループ インク. | シクロシランの製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5424874A (en) * | 1977-07-22 | 1979-02-24 | Toshiba Silicone | Production of dodecamethylcyclohexasilane |
JPS54130541A (en) * | 1978-03-31 | 1979-10-09 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | Preparation of dodecamethylcyclohexasilane |
JPH11171528A (ja) * | 1997-08-27 | 1999-06-29 | Dow Corning Corp | テトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオン含有化合物 |
JP2001253706A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-18 | Jsr Corp | シリルシクロペンタシランおよびその用途 |
WO2011094191A1 (en) * | 2010-01-28 | 2011-08-04 | Ndsu Research Foundation | Method of producing cyclohexasilane compounds |
-
2012
- 2012-07-04 JP JP2012150907A patent/JP6014392B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5424874A (en) * | 1977-07-22 | 1979-02-24 | Toshiba Silicone | Production of dodecamethylcyclohexasilane |
JPS54130541A (en) * | 1978-03-31 | 1979-10-09 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | Preparation of dodecamethylcyclohexasilane |
JPH11171528A (ja) * | 1997-08-27 | 1999-06-29 | Dow Corning Corp | テトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオン含有化合物 |
JP2001253706A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-18 | Jsr Corp | シリルシクロペンタシランおよびその用途 |
WO2011094191A1 (en) * | 2010-01-28 | 2011-08-04 | Ndsu Research Foundation | Method of producing cyclohexasilane compounds |
JP2013518109A (ja) * | 2010-01-28 | 2013-05-20 | エヌディーエスユー リサーチ ファウンデーション | シクロヘキサシラン化合物を生成する方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017095324A (ja) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | 株式会社日本触媒 | 環状水素化シラン化合物の製造方法 |
US10544171B2 (en) | 2018-03-13 | 2020-01-28 | Nippon Shokubai Co., Ltd | Process for producing cyclic hydrogenated silane compound |
JP2020147463A (ja) * | 2019-03-13 | 2020-09-17 | 株式会社日本触媒 | 環状水素化シラン化合物の製造方法 |
JP7229817B2 (ja) | 2019-03-13 | 2023-02-28 | 株式会社日本触媒 | 環状水素化シラン化合物の製造方法 |
JP7445677B2 (ja) | 2019-03-29 | 2024-03-07 | ザ コアテック グループ インク. | シクロシランの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6014392B2 (ja) | 2016-10-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5808646B2 (ja) | 環状シラン中間体の製造方法および環状水素化シランもしくは環状有機シランの製造方法 | |
KR101818272B1 (ko) | 시클로헥사실란 화합물의 제조 방법 | |
JP6349246B2 (ja) | 環状シラン中性錯体の製造方法および環状水素化シランもしくは環状有機シランの製造方法 | |
JP6014392B2 (ja) | シクロヘキサシラン類の製造方法 | |
JP6588315B2 (ja) | 環状水素化シラン化合物の製造方法 | |
TW201902905A (zh) | 新穎的氯矽烷基芳基鍺烷、其製備方法及用途 | |
JP6346555B2 (ja) | 環状ハロシラン中性錯体 | |
US9682866B2 (en) | Neutral complex of cyclic silane, manufacturing method therefor, and method for manufacturing cyclic hydrogenated silane or cyclic organic silane | |
US20140012029A1 (en) | Method for producing cyclohexasilane | |
KR20120074237A (ko) | 정제 아미노실란의 제조 방법 | |
JP6954773B2 (ja) | 水素化シランおよびアルミニウム含有残渣の失活処理方法 | |
JP2020079219A (ja) | テトラアルケニルシランの製造方法 | |
JP5942027B2 (ja) | 環状シラン中間体の製造方法および環状水素化シランもしくは環状有機シランの製造方法 | |
JP6147625B2 (ja) | シクロヘキサシランの製造方法 | |
JP7229817B2 (ja) | 環状水素化シラン化合物の製造方法 | |
US10544171B2 (en) | Process for producing cyclic hydrogenated silane compound | |
JP2020147476A (ja) | 環状ハロシラン化合物の製造方法 | |
KR20140005114A (ko) | 환상 실란 화합물 또는 그 염의 제조방법 및 사이클로헥사실란류의 제조방법 | |
JP6588320B2 (ja) | 環状ハロシラン化合物およびその製造方法、ならびに環状シラン化合物の製造方法 | |
JP6063310B2 (ja) | 環状シランの製造方法 | |
TWI775922B (zh) | 氫化矽烷組合物 | |
JP3584174B2 (ja) | 有機ホウ素化合物の製造法 | |
JP4891536B2 (ja) | アミノアリール基含有有機ケイ素化合物の製造方法、並びに、その中間体の製造方法 | |
JP6664917B2 (ja) | 環状ハロシラン化合物およびその製造方法、取扱方法、ならびに環状シラン化合物の製造方法 | |
JP2615803B2 (ja) | モノシランの製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160426 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160818 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160926 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6014392 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |