JP2014006223A - 検査方法および検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターンが設けられたメサ部を有する試料をZテーブルの上に載置し、光学系を介してメサ部に光を照射するとともにメサ部で反射した光を受光して、メサ部の高さを測定する。メサ部の周縁部の高さから、メサ部における高さマップを作成し、メサ部の高さの測定値の目標値からのずれと、メサ部に照射される光の焦点位置の経時的な変動量とに基づいて、高さマップから求められるメサ部の高さを補正する。補正されたメサ部の高さに基づいてZテーブルの位置を制御しながら、パターンの光学画像を得る。光学画像を基準画像と比較して、これらの差分値が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定する。
【選択図】図14
Description
光学系を介して前記メサ部に光を照射するとともに前記メサ部で反射した光を受光して、前記メサ部の高さを測定する工程と、
前記メサ部の周縁部の高さから、前記メサ部における高さマップを作成する工程と、
前記メサ部の高さの測定値の目標値からのずれと、前記メサ部に照射される光の焦点位置の経時的な変動量とに基づいて、前記高さマップから求められる前記メサ部の高さを補正する工程と、
前記補正されたメサ部の高さに基づいて前記テーブルの位置を制御しながら、前記パターンの光学画像を得る工程と、
前記光学画像を基準画像と比較して、これらの差分値が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定する工程とを有することを特徴とする検査方法に関する。
光学系を介して前記メサ部に光を照射するとともに前記メサ部で反射した光を受光して、前記メサ部の高さを測定する工程と、
前記メサ部の周縁部の高さから、前記メサ部における高さマップを作成する工程と、
前記メサ部の高さの測定値の目標値からのずれと、前記メサ部に照射される光の焦点位置の経時的な変動量とに基づいて、前記高さマップから求められる前記メサ部の高さを補正する工程と、
前記補正されたメサ部の高さに基づいて前記テーブルの位置を制御しながら、前記パターンの光学画像を得る工程と、
前記光学画像を基準画像と比較して、これらの差分値が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定する工程とを有することを特徴とする検査装置に関する。
光学系を介して前記メサ部に光を照射するとともに前記メサ部で反射した光を受光して、前記メサ部の高さを測定する工程と、
前記メサ部の周縁部の高さから、前記パターンが設けられた面の水平面からの傾き量を求める工程と、
前記傾き量に基づいて前記テーブルを調整し、前記パターンが設けられた面が水平となるように前記試料を傾かせる工程と、
前記メサ部に照射される光の焦点位置の経時的な変動量を求める工程と、
前記変動量に基づいて前記テーブルの位置を制御しながら、前記パターンの光学画像を得る工程と、
前記光学画像を基準画像と比較して、これらの差分値が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定する工程とを有することを特徴とする検査方法に関する。
前記試料を傾かせる工程は、前記3点の支持部材の高さを調整して行われることが好ましい。
光学系を介して前記メサ部に光を照射するとともに前記メサ部で反射した光を受光することにより、前記メサ部の周縁部の高さを測定して、前記パターンが設けられた面の水平面からの傾き量を求める工程と、
前記傾き量に基づいて前記テーブルを調整し、前記パターンが設けられた面が水平となるように前記試料を傾かせる工程と、
前記パターンが設けられた領域を短冊状の複数のフレームに分割し、これらのフレームに順に前記光を照射し反射した光を受光することにより前記メサ部の高さを測定しながら、前記パターンの光学画像を得る工程と、
前記光学画像を基準画像と比較して、これらの差分値が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定する工程とを有し、
前記光学画像を得る工程では、前記フレームの1つにおける前記メサ部の高さの測定値が所定値以上変動している場合に、前記測定値を補正し、この補正値に基づいて前記テーブルの位置を調整した後、次のフレームにおける前記メサ部の高さを測定することを特徴とする検査方法に関する。
前記試料を傾かせる工程は、前記3点の支持部材の高さを調整して行われることが好ましい。
光学系を介して前記メサ部に光を照射するとともに前記メサ部で反射した光を受光して、前記メサ部の高さを測定する工程と、
前記メサ部の周縁部の高さから、前記メサ部における高さマップを作成する工程と、
前記メサ部の高さの測定値の目標値からのずれと、前記メサ部に照射される光の焦点位置の気圧による変動量とに基づいて、前記高さマップから求められる前記メサ部の高さを補正する工程と、
前記補正されたメサ部の高さに基づいて前記テーブルの位置を制御しながら、前記パターンの光学画像を得る工程と、
前記光学画像を基準画像と比較して、これらの差分値が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定する工程とを有することを特徴とする検査方法に関する。
図1は、本実施の形態におけるオートフォーカス装置の構成を示す図である。
図8において、S1の光学画像取得工程では、図6の光学画像取得部Aが、試料1の光学画像(測定データ)を取得する。ここで、光学画像は、設計パターンに含まれる図形データに基づく図形が描画された試料1の画像である。光学画像の具体的な取得方法の一例を、図1および図6を用いて説明する。
図8において、S2は記憶工程である。図6において、試料1のパターン形成時に用いた設計パターンデータは、記憶装置(記憶部)の一例である磁気ディスク装置109に記憶される。
図8のS3は展開工程である。この工程においては、図6の展開回路111が、磁気ディスク装置109から制御計算機110を通して設計パターンデータを読み出し、読み出された試料1の設計パターンデータを2値ないしは多値のイメージデータ(設計画像データ)に変換する。そして、このイメージデータは参照回路112に送られる。
図8のS4はフィルタ処理工程である。この工程では、図6の参照回路112によって、送られてきた図形のイメージデータである設計画像データに適切なフィルタ処理が施される。
図8のS5は比較工程である。図6において、センサ回路106からの光学画像データは、比較回路108へ送られる。また、設計パターンデータも、展開回路111および参照回路112により参照画像データに変換されて比較回路108に送られる。
図10は、本実施の形態におけるオートフォーカス装置の構成を示す図である。このオートフォーカス装置は、検査対象面に段差部を有する試料、例えば、ナノインプリント技術で用いられるテンプレートなどの検査に好適である。
1a メサ部
2 Zテーブル
3 XYテーブル
4 光学系
5 第1の光源
6,8,104 レンズ
7,10,11 ミラー
9 第2の光源
12 高さ測定部
13,25 高さ補正部
14,24 高さ制御部
15,27 Zテーブル駆動装置
16 気圧計
201,202,203,204 検査フレーム
21 制御CPU
22 信号切替部
23 Zマップ作成部
26 レーザ干渉計
100 検査装置
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
111 展開回路
112 参照回路
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 フレキシブルディスク装置
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
130 オートローダ
201 CADデータ
202 設計中間データ
203 フォーマットデータ
205 検査結果
207 欠陥情報リスト
500 レビュー装置
600 修正装置
Claims (6)
- パターンが設けられたメサ部を有する試料をテーブルの上に載置する工程と、
光学系を介して前記メサ部に光を照射するとともに前記メサ部で反射した光を受光して、前記メサ部の高さを測定する工程と、
前記メサ部の周縁部の高さから、前記メサ部における高さマップを作成する工程と、
前記メサ部の高さの測定値の目標値からのずれと、前記メサ部に照射される光の焦点位置の経時的な変動量とに基づいて、前記高さマップから求められる前記メサ部の高さを補正する工程と、
前記補正されたメサ部の高さに基づいて前記テーブルの位置を制御しながら、前記パターンの光学画像を得る工程と、
前記光学画像を基準画像と比較して、これらの差分値が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定する工程とを有することを特徴とする検査方法。 - 前記パターンの光学画像を得ながら測定した前記メサ部の高さに基づいて、前記光の焦点位置の経時的な変動量を求めることを特徴とする請求項1に記載の検査方法。
- 前記光の焦点位置の経時的な変動量を気圧の変化から求めることを特徴とする請求項1または2に記載の検査方法。
- パターンが設けられたメサ部を有する試料をテーブルの上に載置する工程と、
光学系を介して前記メサ部に光を照射するとともに前記メサ部で反射した光を受光して、前記メサ部の高さを測定する工程と、
前記メサ部の周縁部の高さから、前記メサ部における高さマップを作成する工程と、
前記メサ部の高さの測定値の目標値からのずれと、前記メサ部に照射される光の焦点位置の経時的な変動量とに基づいて、前記高さマップから求められる前記メサ部の高さを補正する工程と、
前記補正されたメサ部の高さに基づいて前記テーブルの位置を制御しながら、前記パターンの光学画像を得る工程と、
前記光学画像を基準画像と比較して、これらの差分値が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定する工程とを有することを特徴とする検査装置。 - 前記パターンの光学画像を得ながら測定した前記メサ部の高さに基づいて、前記光の焦点位置の経時的な変動量を求めることを特徴とする請求項4に記載の検査装置。
- 前記光の焦点位置の経時的な変動量を気圧の変化から求めることを特徴とする請求項4または5に記載の検査装置。
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