JP6043583B2 - 焦点位置検出装置、検査装置、焦点位置検出方法および検査方法 - Google Patents
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Description
前記光源の光を試料へ照射する第1のレンズと、
前記第1のレンズを経て前記試料を透過または反射した光を結像する第2のレンズと、
前記第2のレンズで結像された光から前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る画像センサと、
前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変する駆動部と、
前記駆動部により前記第1のレンズと前記試料との距離が変化するごとに、前記画像センサから前記試料の光学画像を取得し、当該取得された光学画像の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該階調値の標準偏差が最大となるときの前記試料の像面の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する焦点位置検出部とを有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする焦点位置検出装置に関する。
前記光源の光を試料へ照射する第1のレンズと、
前記第1のレンズを経て前記試料を透過または反射した光を結像する第2のレンズと、
前記第2のレンズで結像された光から前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る
第1の画像センサと、
前記第2のレンズと前記第1の画像センサの間に配置され、前記第2のレンズを透過し
た光を分割する光路分割部と、
前記光路分割部により分割された光から、前記パターンの前ピンと後ピンの各像情報を
得る第2の画像センサと、
前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変する駆動部と、
前記駆動部により前記第1のレンズと前記試料との距離が変化するごとに、前記第2の画像センサにより前記パターンの前ピン側と後ピン側の各像情報を取得して、当該各像情報の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該前ピン側における階調値の標準偏差と後ピン側における階調値の標準偏差が同じになるときの前記第1の画像センサにおける前記試料の像面の基準の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する焦点位置検出部とを有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする焦点位置検出装置に関する。
前記光源の光を試料へ照射する第1のレンズと、
前記第1のレンズを経て前記試料を透過または反射した光を結像する第2のレンズと、
前記第2のレンズで結像された光から前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る画像センサと、
前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変する駆動部と、
前記駆動部により前記第1のレンズと前記試料との距離が変化するごとに、前記画像センサから前記試料の光学画像を取得し、当該取得された光学画像の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該階調値の標準偏差が最大となるときの前記試料の像面の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する焦点位置検出部と、
前記最適な焦点位置で得られた光学画像について、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める画像処理部と、
前記平均階調値および前記階調値のばらつきの少なくとも一方に基づいて、前記試料の欠陥検出を行う欠陥検出部とを有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする検査装置に関する。
前記光源の光を試料へ照射する第1のレンズと、
前記第1のレンズを経て前記試料を透過または反射した光を結像する第2のレンズと、
前記第2のレンズで結像された光から前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る第1の画像センサと、
前記第2のレンズと前記第1の画像センサの間に配置され、前記第2のレンズを透過した光を分割する光路分割部と、
前記光路分割部により分割された光から、前記パターンの前ピンと後ピンの各像情報を得る第2の画像センサと、
前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変する駆動部と、
前記駆動部により前記第1のレンズと前記試料との距離が変化するごとに、前記第2の画像センサにより前記パターンの前ピン側と後ピン側の各像情報を取得して、当該各像情報の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該前ピン側における階調値の標準偏差と後ピン側における階調値の標準偏差が同じになるときの前記第1の画像センサにおける前記試料の像面の基準の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する焦点位置検出部と、
前記最適な焦点位置で得られた光学画像について、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める画像処理部と、
前記平均階調値および前記階調値のばらつきの少なくとも一方に基づいて、前記試料の欠陥検出を行う欠陥検出部とを有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする検査装置に関する。
前記取得された光学画像の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該階調値の標準偏差が最大となるときの前記試料の像面の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する工程と、
前記最適な焦点位置に基づいて、前記試料を載置するテーブルの高さを調整する工程とを有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする焦点位置検出方法に関する。
前記第2のレンズを透過した光の一部を取り出し、第2の画像センサに入射させて前記パターンの前ピンと後ピンの各像情報を得る行為を、前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変するごとに行って、前記得られた各像情報の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該前ピン側における階調値の標準偏差と後ピン側における階調値の標準偏差が同じになるときの前記第1の画像センサにおける前記試料の像面の基準の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する工程と、
前記最適な焦点位置に基づいて、前記試料を載置するテーブルの高さを調整する工程とを有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする焦点位置検出方法に関する。
前記最適な焦点位置に基づいて、前記試料を載置するテーブルの高さを調整する工程と、
前記最適な焦点位置で得られた光学画像について、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める工程と、
前記平均階調値および前記階調値のばらつきの少なくとも一方に基づいて、前記試料の欠陥検出を行う工程とを有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする検査方法に関する。
前記第2のレンズを透過した光の一部を取り出し、第2の画像センサに入射させて前記パターンの前ピンと後ピンの各像情報を得る行為を、前記第1のレンズと前記試料の距離との距離一定の間隔でステップ的に可変するごとに行って、前記得られた各像情報の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該前ピン側における階調値の標準偏差と後ピン側における階調値の標準偏差が同じになるときの前記第1の画像センサにおける前記試料の像面の基準の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する工程と、
前記最適な焦点位置に基づいて、前記試料を載置するテーブルの高さを調整する工程と、
前記最適な焦点位置で得られた光学画像について、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める工程と、
前記平均階調値および前記階調値のばらつきの少なくとも一方に基づいて、前記試料の欠陥検出を行う工程とを有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とする検査方法に関する。
図1は、本実施の形態における焦点位置検出装置の構成を示す図である。
図6は、本実施の形態における焦点位置検出装置の構成を示す図である。
図10は、本実施の形態における検査装置100の構成を示す図である。この図に示すように、検査装置100は、光学画像取得部Aと制御部Bを有する。尚、図10において、図1と同じ符号を付した部分は、同じものであることを示している。
2,102 Zテーブル
3,103 XYテーブル
4,104 光学系
5,105 光源
6,8,9,11,11’,106,108,109,120 レンズ
7,107,124 ミラー
10,110,123,121 ハーフミラー
12,122,125 画像センサ
13,126 センサデータ入力回路
14,127 焦点位置検出回路
15,128 制御回路
15’ Zテーブル制御回路
16,129 Zテーブル駆動装置
16’,17 モータ
201,202,203,204 フレーム
100 検査装置
107 位置回路
108 画像処理回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
113 オートローダ制御回路
114 XYテーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 フレキシブルディスク装置
117 ディスプレイ
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
130 オートローダ
131 展開回路
132 参照回路
133 比較回路
134 欠陥検出回路
Claims (10)
- 所定の波長の光を出射する光源と、
前記光源の光を試料へ照射する第1のレンズと、
前記第1のレンズを経て前記試料を透過または反射した光を結像する第2のレンズと、
前記第2のレンズで結像された光から前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る画像センサと、
前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変する駆動部と、
前記駆動部により前記第1のレンズと前記試料との距離が変化するごとに、前記画像センサから前記試料の光学画像を取得し、当該取得された光学画像の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該階調値の標準偏差が最大となるときの前記試料の像面の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する焦点位置検出部と
を有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする焦点位置検出装置。 - 所定の波長の光を出射する光源と、
前記光源の光を試料へ照射する第1のレンズと、
前記第1のレンズを経て前記試料を透過または反射した光を結像する第2のレンズと、
前記第2のレンズで結像された光から前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る第1の画像センサと、
前記第2のレンズと前記第1の画像センサの間に配置され、前記第2のレンズを透過した光を分割する光路分割部と、
前記光路分割部により分割された光から、前記パターンの前ピンと後ピンの各像情報を得る第2の画像センサと、
前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変する駆動部と、
前記駆動部により前記第1のレンズと前記試料との距離が変化するごとに、前記第2の画像センサにより前記パターンの前ピン側と後ピン側の各像情報を取得して、当該各像情報の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該前ピン側における階調値の標準偏差と後ピン側における階調値の標準偏差が同じになるときの前記第1の画像センサにおける前記試料の像面の基準の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する焦点位置検出部と
を有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする焦点位置検出装置。 - 前記駆動部は、
前記試料が載置されるテーブルと、
前記焦点位置検出部で検出された最適な焦点位置に基づいて、前記テーブルの高さを調節する制御部と
を有することを特徴とする請求項1または2に記載の焦点位置検出装置。 - 所定の波長の光を出射する光源と、
前記光源の光を試料へ照射する第1のレンズと、
前記第1のレンズを経て前記試料を透過または反射した光を結像する第2のレンズと、
前記第2のレンズで結像された光から前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る画像センサと、
前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変する駆動部と、
前記駆動部により前記第1のレンズと前記試料との距離が変化するごとに、前記画像センサから前記試料の光学画像を取得し、当該取得された光学画像の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該階調値の標準偏差が最大となるときの前記試料の像面の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する焦点位置検出部と、
前記最適な焦点位置で得られた光学画像について、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める画像処理部と、
前記平均階調値および前記階調値のばらつきの少なくとも一方に基づいて、前記試料の欠陥検出を行う欠陥検出部と
を有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする検査装置。 - 所定の波長の光を出射する光源と、
前記光源の光を試料へ照射する第1のレンズと、
前記第1のレンズを経て前記試料を透過または反射した光を結像する第2のレンズと、
前記第2のレンズで結像された光から前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る第1の画像センサと、
前記第2のレンズと前記第1の画像センサの間に配置され、前記第2のレンズを透過した光を分割する光路分割部と、
前記光路分割部により分割された光から、前記パターンの前ピンと後ピンの各像情報を得る第2の画像センサと、
前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変する駆動部と、
前記駆動部により前記第1のレンズと前記試料との距離が変化するごとに、前記第2の画像センサにより前記パターンの前ピン側と後ピン側の各像情報を取得して、当該各像情報の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該前ピン側における階調値の標準偏差と後ピン側における階調値の標準偏差が同じになるときの前記第1の画像センサにおける前記試料の像面の基準の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する焦点位置検出部と、
前記最適な焦点位置で得られた光学画像について、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める画像処理部と、
前記平均階調値および前記階調値のばらつきの少なくとも一方に基づいて、前記試料の欠陥検出を行う欠陥検出部と
を有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする検査装置。 - 前記駆動部は、
前記試料が載置されるテーブルと、
前記焦点位置検出部で検出された最適な焦点位置に基づいて、前記テーブルの高さを調節する制御部と
を有することを特徴とする請求項4または5に記載の検査装置。 - 所定の波長の光を第1のレンズを介して試料に照射し、前記試料を透過または反射した光を第2のレンズを介して画像センサに結像して、前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る行為を、前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変するごとに行って、前記パターンの光学画像を複数得る工程と、
前記取得された光学画像の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該階調値の標準偏差が最大となるときの前記試料の像面の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する工程と、
前記最適な焦点位置に基づいて、前記試料を載置するテーブルの高さを調整する工程と
を有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする焦点位置検出方法。 - 所定の波長の光を第1のレンズを介して試料に照射し、前記試料を透過または反射した光を第2のレンズを介して第1の画像センサに結像して、前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る工程と、
前記第2のレンズを透過した光の一部を取り出し、第2の画像センサに入射させて前記パターンの前ピン側と後ピン側の各像情報を得る行為を、前記第1のレンズと前記試料との距離を一定の間隔でステップ的に可変するごとに行って、前記得られた各像情報の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該前ピン側における階調値の標準偏差と後ピン側における階調値の標準偏差が同じになるときの前記第1の画像センサにおける前記試料の像面の基準の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する工程と、
前記最適な焦点位置に基づいて、前記試料を載置するテーブルの高さを調整する工程と
を有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする焦点位置検出方法。 - 所定の波長の光を第1のレンズを介して試料に照射し、前記試料を透過または反射した光を第2のレンズを介して画像センサに結像して、前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る行為を、前記第1のレンズと前記試料の距離を一定の間隔でステップ的に可変するごとに行って、前記パターンの光学画像を複数得る工程と、
前記取得された光学画像の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該階調値の標準偏差が最大となるときの前記試料の像面の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する工程と、
前記最適な焦点位置に基づいて、前記試料を載置するテーブルの高さを調整する工程と、
前記最適な焦点位置で得られた光学画像について、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める工程と、
前記平均階調値および前記階調値のばらつきの少なくとも一方に基づいて、前記試料の欠陥検出を行う工程と
を有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする検査方法。 - 所定の波長の光を第1のレンズを介して試料に照射し、前記試料を透過または反射した光を第2のレンズを介して第1の画像センサに結像して、前記試料に形成されたパターンの光学画像を得る工程と、
前記第2のレンズを透過した光の一部を取り出し、第2の画像センサに入射させて前記パターンの前ピンと後ピンの各像情報を得る行為を、前記第1のレンズと前記試料との距離一定の間隔でステップ的に可変するごとに行って、前記得られた各像情報の各々について濃淡のばらつきを示す階調値の標準偏差を求め、当該前ピン側における階調値の標準偏差と後ピン側における階調値の標準偏差が同じになるときの前記第1の画像センサにおける前記試料の像面の基準の焦点位置から所定のオフセット量ずらした位置を検査に最適な焦点位置として検出する工程と、
前記最適な焦点位置に基づいて、前記試料を載置するテーブルの高さを調整する工程と、
前記最適な焦点位置で得られた光学画像について、所定の単位領域毎の平均階調値および前記単位領域における階調値のばらつきの少なくとも一方を求める工程と、
前記平均階調値および前記階調値のばらつきの少なくとも一方に基づいて、前記試料の欠陥検出を行う工程と
を有し、
前記試料として、前記光源の波長と前記第2のレンズの開口数によって定まる解像限界以下の周期の繰り返しパターンを有する試料を対象とすることを特徴とする検査方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012234122A JP6043583B2 (ja) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | 焦点位置検出装置、検査装置、焦点位置検出方法および検査方法 |
US14/059,847 US9557277B2 (en) | 2012-10-23 | 2013-10-22 | Inspection apparatus and inspection method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012234122A JP6043583B2 (ja) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | 焦点位置検出装置、検査装置、焦点位置検出方法および検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014085217A JP2014085217A (ja) | 2014-05-12 |
JP6043583B2 true JP6043583B2 (ja) | 2016-12-14 |
Family
ID=50484991
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012234122A Active JP6043583B2 (ja) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | 焦点位置検出装置、検査装置、焦点位置検出方法および検査方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9557277B2 (ja) |
JP (1) | JP6043583B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6220521B2 (ja) | 2013-01-18 | 2017-10-25 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置 |
JP6047418B2 (ja) | 2013-02-18 | 2016-12-21 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査方法および検査装置 |
JP6251559B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-12-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 試料支持装置 |
KR101643357B1 (ko) | 2013-08-26 | 2016-07-27 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 촬상 장치, 검사 장치 및 검사 방법 |
JP6364193B2 (ja) | 2014-01-23 | 2018-07-25 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 焦点位置調整方法および検査方法 |
TWI518312B (zh) * | 2014-01-27 | 2016-01-21 | 林紫綺 | 光學偵測杯底之檢驗方法 |
JP6499898B2 (ja) | 2014-05-14 | 2019-04-10 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査方法、テンプレート基板およびフォーカスオフセット方法 |
JP6446297B2 (ja) * | 2015-03-09 | 2018-12-26 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置 |
JP6633918B2 (ja) * | 2016-01-18 | 2020-01-22 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査装置 |
CN116482939A (zh) * | 2017-12-22 | 2023-07-25 | Asml荷兰有限公司 | 涉及光学像差的图案化过程改进 |
JP2024000809A (ja) * | 2022-06-21 | 2024-01-09 | キオクシア株式会社 | 検査装置、テンプレートの製造方法、及び検査方法 |
Family Cites Families (20)
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---|---|---|---|---|
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JP6251559B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-12-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 試料支持装置 |
-
2012
- 2012-10-23 JP JP2012234122A patent/JP6043583B2/ja active Active
-
2013
- 2013-10-22 US US14/059,847 patent/US9557277B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9557277B2 (en) | 2017-01-31 |
JP2014085217A (ja) | 2014-05-12 |
US20140111636A1 (en) | 2014-04-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150818 |
|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
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|
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