JP2013527607A - 向上したデバイス特性を有するネイティブデバイスおよび製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
102 ゲート構造
104 側壁
106 MDDインプラント
108 酸化物絶縁層
110 高濃度ポケットインプラント
112 チャネル領域
114 トランジスタ
116 内側活性領域
118 マーカ領域
200 ネイティブデバイス
202 低濃度ポケットインプラント
204 内側マーカ領域
206 外側活性領域
208 ソース/ドレインインプラント
212 チャネル領域
300 ネイティブデバイス
302 MDDフォトレジスト
304 ポケット注入ベクトル
306 MDD注入ベクトル
Claims (26)
- ネイティブデバイスを製造するための方法であって、
内側マーカ領域の外縁から開始して、基板の上にゲート構造を形成するステップであって、前記ゲート構造は長手方向に延在する、ゲート構造を形成するステップと、
中程度ドープドレイン(MDD)注入を実行するステップであって、各注入は、前記ゲート構造に対して異なる向きを使用して実行される、中程度ドープドレイン(MDD)注入を実行するステップと、
ポケット注入を実行するステップであって、各注入は、前記ゲート構造に対して異なる向きを使用して実行され、さらに、前記ポケット注入の濃度は前記向きに基づいて変化する、ポケット注入を実行するステップと
を含む、方法。 - 前記ソース・ドレイン注入を実行するステップは、
前記ゲート構造の前記長手方向に実質的に平行な第1のセットの向きから前記MDD注入を実行するステップと、
前記ゲート構造の前記長手方向に実質的に垂直な第2のセットの向きから前記MDD注入を実行するステップと
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記ポケット注入を実行するステップは、
前記ゲート構造の前記長手方向に実質的に平行な第1のセットの向きから前記ポケット注入を実行するステップと、
前記ゲート構造の前記長手方向に実質的に垂直な第2のセットの向きから前記ポケット注入を実行するステップと
をさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 前記基板の上に、前記長手方向を横断する方向に前記ゲート構造から横方向に離間されるフォトレジストを形成するステップをさらに含む、請求項3に記載の方法。
- 前記フォトレジストの垂直な広がりは、その前記濃度を低減するために前記第1のセットの向きから実行される前記ポケット注入を遮る、請求項4に記載の方法。
- 前記MDD注入は、前記ゲート構造への第1の角度において実行され、前記ポケット注入は前記ゲート構造への第2の角度において実行され、前記第2の角度は前記第1の角度よりも大きい、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の角度および前記第2の角度は前記ゲート構造の垂直面から測定され、前記垂直面は前記基板に実質的に垂直である、請求項6に記載の方法。
- 前記第1の角度は0度と3度との間であり、前記第2の角度は15度と60度との間である、請求項7に記載の方法。
- 前記基板の上に、前記長手方向を横断する方向に前記ゲート構造から横方向に離間されるフォトレジストを形成するステップであって、前記フォトレジストの前記高さは前記長手方向に実質的に垂直な向きから実行される前記ポケット注入を阻害する、フォトレジストを形成するステップをさらに含む、請求項6に記載の方法。
- ネイティブデバイスとして製造されるトランジスタであって、
内側マーカ領域と、
前記内側マーカ領域を囲む外側活性領域と、
前記内側マーカ領域に結合されるゲート構造と、
前記外側活性領域内に配置される第1のソース/ドレインインプラントと、
前記外側活性領域内に配置される第2のソース/ドレインインプラントと
を備え、前記ゲート構造は前記第1のソース/ドレインインプラントと前記第2のソース/ドレインインプラントとの間に置かれる、トランジスタ。 - 前記ゲート構造の下に位置する酸化物層と、
それぞれ前記酸化物層と前記第1のソース/ドレインインプラントおよび前記第2のソース/ドレインインプラントとの間に位置する第1および第2の中程度ドープドレイン(MDD)インプラントと
をさらに備える、請求項10に記載のトランジスタ。 - 前記第1のMDDインプラントと前記第1のソース/ドレインインプラントとの間に位置する第1の低濃度ポケットインプラントと、
前記第2のMDDインプラントと前記第2のソース/ドレインインプラントとの間に位置する第2の低濃度ポケットインプラントと
をさらに備える、請求項11に記載のトランジスタ。 - 前記トランジスタはネイティブNMOSデバイスである、請求項10に記載のトランジスタ。
- 少なくとも1つの半導体ダイに組み込まれた、請求項10に記載のトランジスタ。
- 前記トランジスタが組み込まれたセットトップボックス、音楽プレーヤ、ビデオプレーヤ、エンターテインメントユニット、ナビゲーションデバイス、通信デバイス、携帯情報端末(PDA)、固定位置データユニット、およびコンピュータからなる群から選択されるデバイスをさらに備える、請求項10に記載のトランジスタ。
- ネイティブデバイスを製造するための方法であって、
内側マーカ領域の外縁から開始して、基板の上にゲート構造を形成するためのステップであって、前記ゲート構造は長手方向に延在する、ゲート構造を形成するためのステップと、
中程度ドープドレイン(MDD)注入を実行するためのステップであって、各注入は、前記ゲート構造に対して異なる向きを使用して実行される、中程度ドープドレイン(MDD)注入を実行するためのステップと、
ポケット注入を実行するためのステップであって、各注入は、前記ゲート構造に対して異なる向きを使用して実行され、さらに、前記ポケット注入の濃度は前記向きに基づいて変化する、ポケット注入を実行するためのステップとを含む、方法。 - 前記ソース/ドレインインプラントを実行するステップは、
前記ゲート構造の前記長手方向に実質的に平行な第1のセットの向きから前記MDD注入を実行するためのステップと、
前記ゲート構造の前記長手方向に実質的に垂直な第2のセットの向きから前記MDD注入を実行するためのステップとをさらに含む、請求項16に記載の方法。 - 前記ポケット注入を実行するステップは、
前記ゲート構造の前記長手方向に実質的に平行な第1のセットの向きから前記ポケット注入を実行するためのステップと、
前記ゲート構造の前記長手方向に実質的に垂直な第2のセットの向きから前記ポケット注入を実行するためのステップとをさらに含む、請求項17に記載の方法。 - 前記基板の上に、前記長手方向を横断する方向に前記ゲート構造から横方向に離間されるフォトレジストを形成するためのステップをさらに含む、請求項18に記載の方法。
- 前記基板の上に、前記長手方向を横断する方向に前記ゲート構造から横方向に離間されるフォトレジストを形成するためのステップであって、前記フォトレジストの前記高さは前記長手方向に実質的に垂直な向きから実行される前記ポケット注入を阻害する、フォトレジストを形成するためのステップをさらに含む、請求項19に記載の方法。
- ネイティブデバイスとして製造されるトランジスタであって、
ゲート接続を提供するための手段と、
ポケットインプラントを形成するための注入操作が阻害されるように、前記ゲート接続手段に極めて近接してフォトレジストを配置することを可能にするための第1の領域手段と、
前記第1の領域手段を囲むための第2の領域手段と、
前記第2の領域手段内に配置される第1のソース/ドレイン接続を提供するための手段と、
前記第2の領域手段内に配置される第2のソース/ドレイン接続を提供するための手段と
を備え、前記ゲート接続手段は前記第1のソース/ドレイン接続手段と前記第2のソース/ドレイン接続手段との間に置かれる、トランジスタ。 - 前記ゲート接続手段を絶縁するための手段と、
それぞれ前記絶縁手段と前記第1のソース/ドレイン接続手段および前記第2のソース/ドレイン接続手段との間に位置する、中程度ドープ区画を提供するための第1の手段および第2の手段と
をさらに備える、請求項21に記載のトランジスタ。 - 前記第1の中程度ドープ区画手段と前記第1のソース/ドレイン接続手段との間に位置する低濃度ポケット区画を提供するための第1の手段と、
前記第2の中程度ドープ区画手段と前記第2のソース/ドレイン接続手段との間に位置する低濃度ポケット区画を提供するための第2の手段と
をさらに備える、請求項22に記載のトランジスタ。 - 前記トランジスタはネイティブNMOSデバイスである、請求項21に記載のトランジスタ。
- 少なくとも1つの半導体ダイに組み込まれた、請求項21に記載のトランジスタ。
- 前記トランジスタが組み込まれたセットトップボックス、音楽プレーヤ、ビデオプレーヤ、エンターテインメントユニット、ナビゲーションデバイス、通信デバイス、携帯情報端末(PDA)、固定位置データユニット、およびコンピュータからなる群から選択されるデバイスをさらに備える、請求項21に記載のトランジスタ。
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