JP2013526770A5 - - Google Patents

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Claims (17)

  1. 半導体デバイスであって、
    その上に回路配路を備えた表面と、前記回路配路に電気的に接続される複数の導電性パッドを含む裏面とを含む第1の基板
    前記複数の導電性パッドに電気的に接続され、前記第1の基板に取り付けられる第1の半導体ダイ
    その上に回路配路複数の導電性パッドを備えた表面を含む第2の基板であって、前記第2の基板の前記表面上の前記回路配路が、前記第2の基板の前記表面上の前記複数の導電性パッドに電気的に接続される、前記第2の基板
    前記第2の基板に電気的に接続されかつ取り付けられ、その中に複数の基板貫通ビア(TSV)を含む、第2の半導体ダイと、
    前記TSVを介して前記第2の半導体ダイに電気的に接続され、かつ前記第2の半導体ダイに取り付けられる、第3の半導体ダイ
    前記第1の基板の前記裏面上の前記複数の導電性パッドを、前記第2の基板の前記表面上の前記複数の導電性パッドに電気的に接続する複数の導体
    前記第1の半導体ダイを前記第2の半導体ダイに電気的に接続する第1の接続タイプ
    前記第3の半導体ダイを前記第2の半導体ダイに電気的に接続する第2の接続タイプ
    を含み、
    前記第1の接続タイプが前記第2のタイプとは異なる、半導体デバイス。
  2. 請求項1に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の半導体ダイが第1のメモリタイプを含む第1のメモリダイであり、前記第2の半導体ダイがロジックダイであり、前記第3の半導体ダイが、前記第1のメモリタイプとは異なる第2のメモリタイプを含む第2のメモリダイである、半導体デバイス。
  3. 請求項1に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の半導体ダイが、データ幅速度を含むシリアル入力/出力(I/O)データアーキテクチャを含む第1のメモリダイであり、前記第2の半導体ダイがマイクロプロセッサであり、前記第3の半導体ダイが、前記第1の半導体ダイより遅い速度前記第1の半導体ダイより広いデータ幅を含むデータアーキテクチャを含む第2のメモリダイである、半導体デバイス。
  4. 請求項1に記載の半導体デバイスであって、
    前記第2の基板の裏面上ボールグリッドアレイ(BGA)を更に含み、前記BGAがレシービング基板に接続されるように、データを前記第1の半導体ダイ前記第2の半導体ダイ前記第3の半導体ダイから前記レシービング基板に搬送するように適合される、半導体デバイス。
  5. 請求項1に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の半導体ダイを前記第1の基板の前記表面上の前記回路配路に電気的に接続する複数のボンドワイヤを更に含む、半導体デバイス。
  6. 請求項1に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の基板の前記裏面上の前記複数の導電性パッドを前記第2の基板の前記表面上の前記複数の導電性パッドに電気的に接続する複数の導体が、複数のリフローされたボールグリッドアレイ(BGA)構造である、半導体デバイス。
  7. 請求項1に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の半導体ダイが、複数のボンドワイヤで前記第1の基板の前記表面上の前記回路配路に電気的に接続され、前記第2の半導体ダイが、複数の導電性ピラーで前記第2の基板の前記回路配路に電気的に接続される、半導体デバイス。
  8. 請求項1に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の接続タイプが、前記第1の基板上の前記回路配路前記第1の基板の前記裏面上の前記複数の導電性パッド前記第2の基板の前記表面上の前記導電性パッド前記第2の基板の前記表面上の前記回路配路を含み、かつ
    前記第2の接続タイプが前記複数のTSVを含む、半導体デバイス。
  9. 半導体デバイスであって、
    第1の基板の表面上の第1の回路配路に電気的に接続される第1の半導体ダイ
    第2の基板の表面上の第2の回路配路に電気的に接続される第2の半導体ダイ
    前記第2の半導体ダイの裏側で複数の基板貫通ビアを介して前記第2の半導体ダイに電気的に接続される第3の半導体ダイ
    を含み、
    前記第1の半導体ダイが、前記第1の基板の前記表面上の前記第1の回路配路を介して延在するデータ経路を介して、前記第2の基板の前記表面上の前記第2の回路配路を介して前記第2の半導体ダイに電気的に接続される、半導体デバイス。
  10. 請求項9に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の基板の裏面上の導電性パッド
    前記第2の基板の前記表面上の導電性パッド
    前記第1の基板前記裏面上の前記導電性パッドを、前記第2の基板の前記表面上の前記導電性パッドに電気的に接続する電気的接続
    を更に含み、
    前記データ経路が、前記第1の基板の前記裏面上の前記導電性パッドを、前記第2の基板の前記表面上の前記導電性パッドに電気的に接続する電気的接続を介して更に延在する、半導体デバイス。
  11. 請求項10に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の半導体ダイ前記第2の半導体ダイ前記第3の半導体ダイを、レシービング基板に電気的に接続するよう適合される、前記第2の基板の裏面上の複数のボールグリッドアレイ(BGA)接続を更に含む、半導体デバイス。
  12. 請求項11に記載の半導体デバイスであって、
    前記第1の基板が印刷回路基板であり、前記第2の基板が印刷回路基板である、半導体デバイス。
  13. 半導体デバイスを形成するための方法であって、
    第1の半導体ダイを第1の基板の表面に物理的に取り付けること
    前記第1の半導体ダイを前記第1の基板の前記表面上の回路配路に電気的に接続することであって、前記回路配路が、前記第1の基板の裏面上の複数の導電性パッドと電気的に接続される、前記接続すること
    第2の半導体ダイを第2の基板の表面に物理的に取り付けること
    前記第2の半導体ダイを前記第2の基板の前記表面上の回路配路に電気的に接続することであって、前記第2の基板の前記表面上の前記回路配路が、前記第2の基板の表面上の複数の導電性パッドと電気的に接続される、前記接続すること
    第3の半導体ダイを前記第2の半導体ダイに物理的に取り付けること
    前記第2の半導体ダイ内の複数の基板貫通ビア(TSV)を介して前記第3の半導体ダイを前記第2の半導体ダイを電気的に取り付けること
    前記第1の基板の前記裏面上の前記複数の導電性パッドを、前記第2の基板の前記表面上の前記複数の導電性パッドに電気的に接続すること
    を含む、方法。
  14. 請求項13に記載の方法であって、
    データ幅と速度とを含むシリアル入力/出力(I/O)データアーキテクチャを含む第1のメモリダイである前記第1の半導体ダイを提供することと、
    マイクロプロセッサである前記第2の半導体ダイを提供することと、
    前記第1の半導体ダイよりも遅い速度と前記第1の半導体ダイよりも広いデータ幅とを含むデータアーキテクチャを含む第2のメモリダイである前記第3の半導体ダイを提供することと、
    を更に含む、方法。
  15. 請求項13に記載の方法であって、
    前記第2の基板の裏面上のボールグリッドアレイ(BGA)をレシービング基板に取り付けて前記第1の半導体ダイと前記第2の半導体ダイと前記第3の半導体ダイとを前記レシービング基板に電気的に接続することを更に含む、方法。
  16. 請求項15に記載の方法であって、
    複数のボンドワイヤを前記第1の半導体ダイと前記第1の基板の表面上の前記回路配路とに取り付けて前記第1の半導体ダイを前記第1の基板の裏面上のパッドに電気的に接続することを更に含む、方法。
  17. 請求項1に記載の方法であって、
    前記第1の半導体ダイを前記第1の基板の表面に物理的に取り付けることが、前記第1の半導体ダイを第1の印刷回路基板の前記表面に物理的に取り付けることを含み、
    前記第2の半導体ダイを前記第2の基板の表面に物理的に取り付けることが、前記第2の半導体ダイを第2の印刷回路基板の前記表面に物理的に取り付けることを含む、方法。
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