JP2013526021A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013526021A5
JP2013526021A5 JP2013505163A JP2013505163A JP2013526021A5 JP 2013526021 A5 JP2013526021 A5 JP 2013526021A5 JP 2013505163 A JP2013505163 A JP 2013505163A JP 2013505163 A JP2013505163 A JP 2013505163A JP 2013526021 A5 JP2013526021 A5 JP 2013526021A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
chuck
bending plate
debonding
edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013505163A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013526021A (ja
JP5868947B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US13/087,137 external-priority patent/US8551291B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2013526021A publication Critical patent/JP2013526021A/ja
Publication of JP2013526021A5 publication Critical patent/JP2013526021A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5868947B2 publication Critical patent/JP5868947B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (30)

  1. 一時的にボンディングされたウエハ対をデボンディングするデボンディング装置において、
    チャック、及び一時的にボンディングされたウエハ対の第1ウエハをチャックの上面と当接して保持するように構成された第1ウエハホルダーを含むチャックアセンブリと、
    屈曲板、及び一時的にボンディングされたウエハ対の第2ウエハを屈曲板の第1面と当接して保持するように構成された第2ウエハホルダーを含むと共に、屈曲板が、チャックの上面より上方に配置された屈曲板アセンブリと、
    チャックの第1縁部の近くに配置されていると共に、屈曲板の第1縁部を押上げ及び上昇させる押上げ手段を含むコンタクトローラと、
    屈曲板上を水平に移動する移動手段、及び屈去板に下方力を印加する印加手段を含む抵抗ローラと
    を備え、
    抵抗ローラが、屈曲板に下方力を印加すると同時に屈曲板の第1縁部から離隔するように水平に移動する間に、コンタクトローラが、屈曲板の第1縁部を押上げ及び上昇させることにより、一時的にボンディングされたウエハ対が、リリース層に沿って離層して、第1ウエハと第2ウエハが互いに分離されるデボンディング装置。
  2. 離層プロセス中に分離されたウエハの間の角度を一定に維持する維持手段を更に備える請求項1に記載のデボンディング装置。
  3. 前記維持手段が、抵抗ローラの下方力を屈曲板の第1縁部に対するコンタクトローラの押上げ力と最初に釣合わせる釣合手段と、その後、抵抗ローラが水平に移動中に抵抗ローラの下方力を減少させる減少手段とを備える請求項2に記載のデボンディング装置。
  4. 屈曲板が、ヒンジに接続された第2縁部を備えて、第2縁部が、屈曲板の前記第1縁部と正反対であり、屈曲板が、ヒンジの回りで振れると共に、チャックの上面の上方に配置される請求項1に記載のデボンディング装置。
  5. チャックの上面の平面に対して直角にコンタクトローラを移動させるデボンディングドライブモータを更に備える請求項4に記載のデボンディング装置。
  6. ウエハ対が、接着剤層とリリース層を介して第2ウエハに対してスタッキング及び一時的にボンディングされた第1ウエハを備え、第1ウエハの非ボンディング面がチャックの上面と当接するように、ウエハ対が、チャック上に載置され、
    屈曲板が、ヒンジの回りで振れると共に、チャックの上方に配置されて、屈曲板の第1面が第2ウエハの非ボンディング面と当接し、
    第2ウエハが、第2ウエハホルダーを介して屈曲板によって保持されると共に、第1ウエハが、第1ウエハホルダーを介してチャックによって保持される間、コンタクトローラが、屈曲板の第2縁部に当接して第2縁部を押上げるまで、コンタクトローラが上方に駆動される請求項4に記載のデボンディング装置。
  7. ヒンジモータを更に備え、ヒンジがヒンジモータによって駆動される請求項4に記載のデボンディング装置。
  8. 第1ウエハホルダーと第2ウエハホルダーが、夫々、チャックと屈曲板に真空を引く請求項1に記載のデボンディング装置。
  9. ウエハ対が、更に、テープフレームを備え、チャックに引かれた真空でテープフレームを保持することにより、第1ウエハが、チャックによって保持される請求項6に記載のデボンディング装置。
  10. チャックアセンブリ、屈曲板アセンブリとヒンジを支持する支持板を更に備える請求項5に記載のデボンディング装置。
  11. 支持板、コンタクトローラ、ヒンジモータとデボンディングドライブモータを支持するベースプレートを更に備える請求項10に記載のデボンディング装置。
  12. チャックアセンブリが、チャックの上面に載置されたウエハを昇降させるように構成されたリフトピンアセンブリを更に備える請求項1に記載のデボンディング装置。
  13. 屈曲板が、夫々、200mmと300mmの直径を有するウエハを保持するように構成されると共に独立制御される2個の同心真空ゾーンを更に備える請求項1に記載のデボンディング装置。
  14. 同心真空ゾーンが、Oリングと吸引カップのいずれかで封止される請求項13に記載のデボンディング装置。
  15. チャックが、多孔性セラミック材料から成る真空チャックを備える請求項1に記載のデボンディング装置。
  16. 屈曲板の偶発的な後方振れを防止するためのアンチバックラッシュギアドライブを更に備える請求項1に記載のデボンディング装置。
  17. 一時的にボンディングされたウエハ対をデボンディングする方法において、
    チャックアセンブリ、屈曲板アセンブリ、コンタクトローラと抵抗ローラを備えるデボンディング装置であって、チャックアセンブリが、チャック、及びウエハをチャックの上面と当接して保持するように構成された第1ウエハホルダーを含み、屈曲板アセンブリが、屈曲板、及びウエハを屈曲板の第1面と当接して保持するように構成された第2ウエハホルダーを含み、コンタクトローラが、チャックの第1縁部の近くに配置されていると共に、屈曲板の第1縁部を押上げ及び上昇させる押上げ手段を含み、抵抗ローラが、屈曲板上を水平に移動する移動手段、及び屈去板に下方力を印加する印加手段を含むデボンディング装置を提供するステップと、
    接着剤層とリリース層を介して第2ウエハに対してスタッキング及び一時的にボンディングされた第1ウエハを備える一時的にボンディングされたウエハ対を提供するステップと、
    第1ウエハの非ボンディング面がチャックの上面と当接するように、ウエハ対をチャック上に載置するステップと、
    屈曲板の第1面が第2ウエハの非ボンディング面と当接するように、屈曲板をチャックの上方に配置するステップと、
    第2ウエハが、第2ウエハホルダーを介して屈曲板によって保持されると共に、第1ウエハが、第1ウエハホルダーを介してチャックによって保持される間、コンタクトローラが、屈曲板の第1縁部に当接するまで、コンタクトローラを上方に駆動するステップと、
    抵抗ローラで屈曲板に下方力を印加すると同時に屈曲板の第1縁部から離隔するように抵抗ローラを水平に移動させる間に、コンタクトローラで屈曲板の第1縁部を押上げることにより、一時的にボンディングされたウエハ対をリリース層に沿って離層して、第1ウエハと第2ウエハを互いに分離するステップと
    を備える方法。
  18. 抵抗ローラの下方力を屈曲板の第1縁部に対するコンタクトローラの押上げ力と最初に釣合わせ、その後、抵抗ローラが水平に移動中に抵抗ローラの下方力を減少させることにより、離層プロセス中に分離されたウエハの間の角度を一定に維持するステップを更に備える請求項17に記載の方法。
  19. 屈曲板が、ヒンジに接続された第2縁部を備えて、第2縁部が、屈曲板の前記第1縁部と正反対であり、屈曲板が、ヒンジの回りで振れると共に、チャックの上面の上方に配置される請求項17に記載の方法。
  20. デボンディング装置が、チャックの上面の平面に対して直角にコンタクトローラを移動させるデボンディングドライブモータを更に備える請求項19に記載の方法。
  21. デボンディング装置が、ヒンジモータを更に備え、ヒンジがヒンジモータによって駆動される請求項20に記載の方法。
  22. 第1ウエハホルダーと第2ウエハホルダーが、夫々、チャックと屈曲板に真空を引く請求項17に記載の方法。
  23. ウエハ対が、更に、テープフレームを備え、チャックに引かれた真空でテープフレームを保持することにより、第1ウエハが、チャックによって保持される請求項17に記載の方法。
  24. デボンディング装置が、チャックアセンブリ、屈曲板アセンブリとヒンジを支持する支持板を更に備える請求項21に記載の方法。
  25. デボンディング装置が、支持板、コンタクトローラ、ヒンジモータとデボンディングドライブモータを支持するベースプレートを更に備える請求項24に記載の方法。
  26. チャックアセンブリが、チャックの上面に載置されたウエハを昇降させるように構成されたリフトピンアセンブリを更に備える請求項17に記載の方法。
  27. 屈曲板が、夫々、200mmと300mmの直径を有するウエハを保持するように構成されると共に独立制御される2個の同心真空ゾーンを更に備える請求項17に記載の方法。
  28. 同心真空ゾーンが、Oリングと吸引カップのいずれかで封止される請求項27に記載の方法。
  29. チャックが、多孔性セラミック材料から成る真空チャックを備える請求項17に記載の方法。
  30. デボンディング装置が、屈曲板の偶発的な後方振れを防止するためのアンチバックラッシュギアドライブを更に備える請求項17に記載の方法。
JP2013505163A 2010-04-16 2011-04-15 一時的にボンディングされたウエハをデボンディングするための改善された装置と方法 Active JP5868947B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US32488810P 2010-04-16 2010-04-16
US61/324,888 2010-04-16
US13/087,137 2011-04-14
US13/087,137 US8551291B2 (en) 2010-04-15 2011-04-14 Debonding equipment and methods for debonding temporary bonded wafers
PCT/US2011/032607 WO2011130586A2 (en) 2010-04-16 2011-04-15 Improved debonding equipment and methods for debonding temporary bonded wafers

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016001072A Division JP6162829B2 (ja) 2010-04-16 2016-01-06 一時的にボンディングされたウエハをデボンディングするための改善された装置と方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013526021A JP2013526021A (ja) 2013-06-20
JP2013526021A5 true JP2013526021A5 (ja) 2014-04-10
JP5868947B2 JP5868947B2 (ja) 2016-02-24

Family

ID=81075156

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013505163A Active JP5868947B2 (ja) 2010-04-16 2011-04-15 一時的にボンディングされたウエハをデボンディングするための改善された装置と方法
JP2016001072A Expired - Fee Related JP6162829B2 (ja) 2010-04-16 2016-01-06 一時的にボンディングされたウエハをデボンディングするための改善された装置と方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016001072A Expired - Fee Related JP6162829B2 (ja) 2010-04-16 2016-01-06 一時的にボンディングされたウエハをデボンディングするための改善された装置と方法

Country Status (4)

Country Link
US (2) US8366873B2 (ja)
EP (2) EP2559057B1 (ja)
JP (2) JP5868947B2 (ja)
WO (1) WO2011130586A2 (ja)

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8950459B2 (en) 2009-04-16 2015-02-10 Suss Microtec Lithography Gmbh Debonding temporarily bonded semiconductor wafers
DE102009018156A1 (de) * 2009-04-21 2010-11-18 Ev Group Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Trennen eines Substrats von einem Trägersubstrat
JP5374462B2 (ja) * 2010-08-23 2013-12-25 東京エレクトロン株式会社 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
US8845859B2 (en) * 2011-03-15 2014-09-30 Sunedison Semiconductor Limited (Uen201334164H) Systems and methods for cleaving a bonded wafer pair
US9296193B2 (en) 2011-04-11 2016-03-29 Ev Group E. Thallner Gmbh Bendable carrier mount, device and method for releasing a carrier substrate
US8945329B2 (en) * 2011-06-24 2015-02-03 Ibiden Co., Ltd. Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board
US8261804B1 (en) * 2011-10-28 2012-09-11 Meicer Semiconductor Inc. IC layers separator
JP5913053B2 (ja) * 2011-12-08 2016-04-27 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
US9806054B2 (en) 2011-12-22 2017-10-31 Ev Group E. Thallner Gmbh Flexible substrate holder, device and method for detaching a first substrate
JP2013147621A (ja) * 2012-01-23 2013-08-01 Nitto Denko Corp 貼り合わされた2枚の板の分離方法
US8696864B2 (en) * 2012-01-26 2014-04-15 Promerus, Llc Room temperature debonding composition, method and stack
JP5687647B2 (ja) * 2012-03-14 2015-03-18 株式会社東芝 半導体装置の製造方法、半導体製造装置
JP5591859B2 (ja) * 2012-03-23 2014-09-17 株式会社東芝 基板の分離方法及び分離装置
US8697542B2 (en) 2012-04-12 2014-04-15 The Research Foundation Of State University Of New York Method for thin die-to-wafer bonding
US9111982B2 (en) 2012-04-25 2015-08-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Wafer assembly with carrier wafer
US9882007B2 (en) * 2012-07-03 2018-01-30 Rfhic Corporation Handle for semiconductor-on-diamond wafers and method of manufacture
JP5806185B2 (ja) * 2012-09-07 2015-11-10 東京エレクトロン株式会社 剥離システム
JP5870000B2 (ja) * 2012-09-19 2016-02-24 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法
US10000675B2 (en) * 2013-03-03 2018-06-19 John Cleaon Moore Temporary adhesive with tunable adhesion force sufficient for processing thin solid materials
JP5909453B2 (ja) * 2013-03-07 2016-04-26 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法
KR102070087B1 (ko) * 2013-04-29 2020-01-30 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조방법
US9269603B2 (en) * 2013-05-09 2016-02-23 Globalfoundries Inc. Temporary liquid thermal interface material for surface tension adhesion and thermal control
TWI545019B (zh) * 2013-10-28 2016-08-11 鴻海精密工業股份有限公司 撕膜機構
US9523158B2 (en) * 2014-02-07 2016-12-20 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for forming semiconductor
WO2016027186A1 (en) * 2014-08-19 2016-02-25 Koninklijke Philips N.V. Sapphire collector for reducing mechanical damage during die level laser lift-off
KR102305505B1 (ko) 2014-09-29 2021-09-24 삼성전자주식회사 웨이퍼 서포팅 시스템 디본딩 이니시에이터 및 웨이퍼 서포팅 시스템 디본딩 방법
EP3295479B1 (en) * 2015-05-13 2018-09-26 Lumileds Holding B.V. Sapphire collector for reducing mechanical damage during die level laser lift-off
CN104979262B (zh) * 2015-05-14 2020-09-22 浙江中纳晶微电子科技有限公司 一种晶圆分离的方法
US20170001427A1 (en) * 2015-07-02 2017-01-05 Apple Inc. Electronic Devices With Moisture And Light Curable Adhesive
TWI701708B (zh) * 2016-02-24 2020-08-11 德商蘇士微科技印刷術股份有限公司 半導體接合設備及相關技術
USD815159S1 (en) * 2016-05-16 2018-04-10 Cost Effective Equipment Llc Mechanical debonder
US10155369B2 (en) * 2016-11-29 2018-12-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Wafer debonding system and method
CN106783699A (zh) * 2017-03-03 2017-05-31 爱立发自动化设备(上海)有限公司 一种晶圆与玻璃分离装置及方法
CN109560004A (zh) * 2017-09-26 2019-04-02 天津环鑫科技发展有限公司 一种自动圆形硅片插片机构
US10170443B1 (en) * 2017-11-28 2019-01-01 International Business Machines Corporation Debonding chips from wafer
CN108155270B (zh) * 2017-12-13 2019-09-20 北京创昱科技有限公司 一种薄膜与晶片的分离装置和分离方法
US11648738B2 (en) 2018-10-15 2023-05-16 General Electric Company Systems and methods of automated film removal
CN109273389B (zh) * 2018-11-01 2024-06-14 苏州展德自动化设备有限公司 晶圆保护纸自动剥离设备
WO2020101000A1 (ja) 2018-11-14 2020-05-22 デンカ株式会社 組成物
WO2020140034A1 (en) * 2018-12-28 2020-07-02 Didi Research America, Llc System and methods for microfabrication
JP7146354B2 (ja) * 2019-01-22 2022-10-04 株式会社ディスコ キャリア板の除去方法
KR102640172B1 (ko) 2019-07-03 2024-02-23 삼성전자주식회사 기판 처리 장치 및 이의 구동 방법
CN115551962A (zh) 2020-05-21 2022-12-30 电化株式会社 组合物
CN112216632B (zh) * 2020-09-24 2024-04-19 广东海信宽带科技有限公司 一种ld芯片共晶焊接台
CN117242146A (zh) 2021-04-26 2023-12-15 电化株式会社 组合物
TWI812550B (zh) * 2022-11-24 2023-08-11 天虹科技股份有限公司 鍵合基板的分離方法

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4046985A (en) * 1974-11-25 1977-09-06 International Business Machines Corporation Semiconductor wafer alignment apparatus
JP3318615B2 (ja) * 1994-02-09 2002-08-26 明治機械株式会社 研磨機におけるワ−クの取外し方法
JPH0964152A (ja) * 1995-08-24 1997-03-07 Mimasu Handotai Kogyo Kk ウェーハ単離装置
KR0165467B1 (ko) * 1995-10-31 1999-02-01 김광호 웨이퍼 디본더 및 이를 이용한 웨이퍼 디본딩법
JPH10244545A (ja) * 1997-03-04 1998-09-14 Canon Inc 離型方法及び離型装置
CA2232796C (en) * 1997-03-26 2002-01-22 Canon Kabushiki Kaisha Thin film forming process
US6540861B2 (en) * 1998-04-01 2003-04-01 Canon Kabushiki Kaisha Member separating apparatus and processing apparatus
US6221740B1 (en) * 1999-08-10 2001-04-24 Silicon Genesis Corporation Substrate cleaving tool and method
DE10008111A1 (de) * 2000-02-22 2001-08-23 Krauss Maffei Kunststofftech Vorrichtung zum Vakuumpressen von DVD-Substraten
WO2002056352A1 (fr) * 2001-01-15 2002-07-18 Lintec Corporation Appareil d'assemblage et procede d'assemblage
JP2002237515A (ja) * 2001-02-07 2002-08-23 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 薄葉化半導体基板の剥離装置および剥離法
DE10128924A1 (de) 2001-06-15 2003-01-23 Philips Corp Intellectual Pty Verfahren zum Umsetzen eines im wesentlichen scheibenförmigen Werkstücks sowie Vorrichtung zum Durchführen dieses Verfahrens
JP3737059B2 (ja) * 2002-03-14 2006-01-18 芝浦メカトロニクス株式会社 基板貼り合わせ装置および基板貼り合わせ方法
JP4565804B2 (ja) * 2002-06-03 2010-10-20 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 被研削基材を含む積層体、その製造方法並びに積層体を用いた極薄基材の製造方法及びそのための装置
US7187162B2 (en) * 2002-12-16 2007-03-06 S.O.I.Tec Silicon On Insulator Technologies S.A. Tools and methods for disuniting semiconductor wafers
JP4614626B2 (ja) * 2003-02-05 2011-01-19 東京エレクトロン株式会社 薄肉半導体チップの製造方法
JP2005039114A (ja) * 2003-07-17 2005-02-10 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウェーハ移し替え装置
FR2860178B1 (fr) * 2003-09-30 2005-11-04 Commissariat Energie Atomique Procede de separation de plaques collees entre elles pour constituer une structure empilee.
US20050150597A1 (en) * 2004-01-09 2005-07-14 Silicon Genesis Corporation Apparatus and method for controlled cleaving
JP2006021849A (ja) * 2004-07-06 2006-01-26 Central Glass Co Ltd 薄板ガラスの搬送装置及び搬送方法
US7541264B2 (en) 2005-03-01 2009-06-02 Dow Corning Corporation Temporary wafer bonding method for semiconductor processing
JP4666514B2 (ja) * 2006-07-20 2011-04-06 リンテック株式会社 シート剥離装置及び剥離方法
JP4822989B2 (ja) 2006-09-07 2011-11-24 日東電工株式会社 基板貼合せ方法およびこれを用いた装置
US20080200011A1 (en) 2006-10-06 2008-08-21 Pillalamarri Sunil K High-temperature, spin-on, bonding compositions for temporary wafer bonding using sliding approach
US20080302481A1 (en) 2007-06-07 2008-12-11 Tru-Si Technologies, Inc. Method and apparatus for debonding of structures which are bonded together, including (but not limited to) debonding of semiconductor wafers from carriers when the bonding is effected by double-sided adhesive tape
JP4729003B2 (ja) * 2007-06-08 2011-07-20 リンテック株式会社 脆質部材の処理方法
JP4733074B2 (ja) 2007-06-11 2011-07-27 リンテック株式会社 分離装置及び分離方法
KR100891384B1 (ko) * 2007-06-14 2009-04-02 삼성모바일디스플레이주식회사 플렉서블 기판 접합 및 탈착장치
WO2009003029A2 (en) 2007-06-25 2008-12-31 Brewer Science Inc. High-temperature spin-on temporary bonding compositions
CN101861650A (zh) 2007-08-10 2010-10-13 阿雷光电公司 具有沟道隔离的背照式薄型光电二极管阵列
US20090174018A1 (en) 2008-01-09 2009-07-09 Micron Technology, Inc. Construction methods for backside illuminated image sensors
CN101925996B (zh) 2008-01-24 2013-03-20 布鲁尔科技公司 将器件晶片可逆地安装在载体基片上的方法
DE102008018536B4 (de) * 2008-04-12 2020-08-13 Erich Thallner Vorrichtung und Verfahren zum Aufbringen und/oder Ablösen eines Wafers auf einen/von einem Träger
US7960840B2 (en) 2008-05-12 2011-06-14 Texas Instruments Incorporated Double wafer carrier process for creating integrated circuit die with through-silicon vias and micro-electro-mechanical systems protected by a hermetic cavity created at the wafer level
JP4740298B2 (ja) * 2008-09-04 2011-08-03 リンテック株式会社 シート剥離装置及び剥離方法
WO2010121068A2 (en) * 2009-04-16 2010-10-21 Suss Microtec, Inc. Improved apparatus for temporary wafer bonding and debonding
US8435804B2 (en) * 2010-12-29 2013-05-07 Gtat Corporation Method and apparatus for forming a thin lamina
US8657994B2 (en) * 2011-04-01 2014-02-25 Alta Devices, Inc. System and method for improved epitaxial lift off

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013526021A5 (ja)
JP6022425B2 (ja) ワークを湾曲状に貼合する貼合装置、および貼合方法
JP5273791B2 (ja) 基板への接着テープ貼り付け装置
TW200913815A (en) Adhesive chuck and substrate bonding apparatus
TW200832607A (en) Method for lamination substrate and apparatus using the method
EP2575163A3 (en) Improved debonding equipment and methods for debonding temporary bonded wafers
KR101731537B1 (ko) 임시 접합 웨이퍼 디본딩장치 및 방법
KR101397094B1 (ko) 라미네이팅 장치 및 라미네이팅 방법
TW201317116A (zh) 貼合裝置及貼合方法
TW201509680A (zh) 剝離裝置及剝離方法
KR101029354B1 (ko) 터치 패널용 강화유리 접착 지그
JP5572039B2 (ja) ウエーハの剥離方法及びその装置
JP2012069768A (ja) 両面粘着テープ剥離方法および両面粘着テープ剥離装置
TW201730082A (zh) 平板玻璃的製造方法及製造裝置
KR101259424B1 (ko) 시트 라미네이팅 방법 및 장치
WO2017202097A1 (zh) 支撑设备及支撑方法
JP6320211B2 (ja) 貼合装置
JP6933788B2 (ja) 基板への接着テープ貼り付け装置及び貼り付け方法
JP2015035524A (ja) シート貼付装置及びシート貼付方法
KR20120087462A (ko) 기판합착장치 및 기판합착방법
KR101281664B1 (ko) 리프트 핀을 구비하는 기판 처리장치
KR101288864B1 (ko) 기판합착장치
JP5373008B2 (ja) 基板貼合せ方法
KR20200041003A (ko) 진공흡착 가압패드를 구비한 라미네이팅 장치 및 이를 이용한 라미네이팅 방법
KR20140120785A (ko) 고형 박판 분리 장치