JP2013515006A - デオキシコール酸の調製のための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2009年12月18日に出願された米国仮特許出願第61/288,132号、2010年2月12日に出願された米国仮特許出願第61/303,816号、2010年5月25日に出願された英国出願第1008726.0号、および2010年5月26日に出願された米国仮特許出願第61/348,686号の利益を主張し、これらの出願のすべては、それらの全体が本明細書中に参考として援用される。
発明の分野
本発明は、デオキシコール酸およびその塩の合成、ならびにデオキシコール酸の合成に有用な中間体に関する。1つの実施形態において、本発明は、ヒドロコルチゾンから出発するデオキシコール酸またはその塩を調製するための合成方法を提供する。本発明は、12−ケトまたは12−α−ヒドロキシステロイドのような中間体、ならびにそれらの調製のための新規プロセスにも関する。本発明は、さらに、精製デオキシコール酸組成物、およびデオキシコール酸が少なくとも96%の純度を有する精製方法も提供する。
体脂肪の迅速除去は長年の理想であり、多くの物質がそのような効果を生じると主張されているが、ほとんどが効果を示していない。「メソセラピー」、または脂肪除去のための注射可能物質の使用は、安全性および有効性に関する懸念から医師に広く認められていないが、ホメオパシー的および美容的主張が1950年代からなされている。メソセラピーは、局所医療的および美容的症状の処置用の化合物の混合物を含有する皮膚注射可能物質を使用する方法として、ヨーロッパで最初に考案された。メソセラピーは慣習的に疼痛寛解に使用されていたが、その美容的適用、特に脂肪およびセルライト除去は、最近、米国で注目されている。局所的脂肪減少に関して報告されている1つのそのような処置(ブラジルで普及し、ホスファチジルコリンの注射を使用する)は、誤って、メソセラピーと同義と考えられていた。主張されている「脂肪分解」注射としてのその魅力にも関わらず、これらの美容的処置の安全性および有効性データがほとんど存在しない。参照:Rotunda,A.M.およびM.Kolodney,Dermatologic Surgery 32:,465−480(2006)(「Mesotherapy and Phosphatidylcholine Injections:Historical Clarification and Review」)。
本発明は、胆汁酸またはその塩の調製に有用な方法および組成物、ならびにそれによって調製された胆汁酸の精製方法を提供する。
該方法は、化合物4を、酸化条件下で、アルカリ次亜塩素酸塩およびt−アルキルハイドロジェンペルオキシドを含有する補助酸化剤混合物に接触させて、化合物3を得ることを含み;
ここで、Pgはヒドロキシル保護基であり、Rは水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり、R1は胆汁酸の17−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで前記側鎖のカルボキシル官能基はC1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され、R2は水素であり、またはR1およびR2はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成する]。
さらに、前記混合物を、有効量のクロム(VI)酸化剤で酸化して、化合物3を与えることを含み、ここで、Pgはヒドロキシル保護基であり、Rは水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり、R1は胆汁酸の17−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで、前記側鎖のカルボキシル官能基はC1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され、R2は水素であり、またはR1およびR2はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成する。
ここで、Pgはヒドロキシル保護基であり、R1は胆汁酸の17−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで前記側鎖のカルボキシル官能基はC1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され、R2は水素であり、またはR1およびR2はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成し;
前記プロセスは、下記を含む:
補助酸化剤の存在下に、式(R3)(R4)(R5)C−O−OH[ここで、R3、R4およびR5はそれぞれ独立にC1−C3アルキルである]のt−アルキルヒドロペルオキシドとの反応によって、化合物8の12位におけるアリル酸化を行って、化合物9、10および7:
必要に応じて、次に、化合物11bをクロム(VI)酸化剤でさらに酸化して、Δ−9,11−エン−12−オン化合物7を得る。
a) 適切に保護された11−β−ヒドロキシステロイドを選択し;
b) 該11−β−ヒドロキシステロイドを脱水して、前記ステロイド中にΔ−9,11−エン官能基を与え;
c) 補助酸化剤の存在下に、前記b)のステロイド生成物をt−アルキルヒドロペルオキシドと反応させることによって、12位におけるアリル酸化を行い;そして
d) Δ−9,11−エン官能基を水素化して、9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−ケトステロイドを得;そして、
e) 必要に応じて、前記d)で生成された9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−ケトステロイドの12−ケト官能基を、有効量の還元剤で還元して、9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−α−ヒドロキシステロイドを得る。
a) ヒドロコルチゾン:
b) 化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、式13の化合物:
を得;
e) 式13の化合物を、脱水条件下で接触させて、式12の化合物;
f) ヒドロキシル保護基を除去して、化合物14を得る。
a) ヒドロコルチゾン:
b) 化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物13:
を得;
e) 式13の化合物を、脱水条件下で接触させて、化合物12;
f) 化合物12を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物18:
a) 前記の手順に従って、化合物18を得;
b) 化合物18を、ルイス酸の存在下に、アルキルプロピオレートCH≡CC(O)OR’またはアルキルアクリレートCH2=CHC(O)OR’[ここでR’はアルキルである]と反応させて、化合物19:
を形成し;
h) 式19の化合物を、水素化条件下で、H2と反応させて、化合物20:
i) 化合物20を酸化剤と反応させて、化合物21:
j) 化合物21を、水素化条件下で、H2と反応させて、化合物22:
k) 化合物22を還元剤と反応させて、化合物23:
l) 化合物23を、脱保護および加水分解条件下で接触させて、デオキシコール酸またはその塩を形成する。
a) 化合物25:
b) 化合物26を、硫酸の存在下に、水が除去される条件下で脱水して、化合物27:
c) 化合物27を、−40℃〜−45℃の温度を包含する選択的還元条件下で、過剰のリチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドに接触させて、化合物28:
d) 化合物28を、ウィッティヒ反応条件下で、過剰のエチルトリアリールホスホニウムハライドに接触させて、化合物29:
e) 化合物29の
f) 化合物30を、アルキル化条件下で、過剰のC1−C2アルキルアルミニウムジクロリドの存在において、過剰のメチルアクリレートに接触させて、化合物31:
g) 化合物31を、高圧に維持されたオートクレーブを包含する水素化条件下で、不活性溶媒中で、水素ならびに白金および乾燥パラジウム炭素から選択される水素化触媒に接触させて、化合物32:
h) 不活性溶媒に溶解させた化合物32を、酸化条件下で第一酸化剤としての過剰のC4−C6t−アルキルヒドロペルオキシドおよび補助酸化剤としての過剰のNaOClを包含する補助酸化条件下で接触させ、必要に応じて、それに続いて、わずかに過剰のピリジニウムクロロクロメートでさらに酸化して、化合物24:
a) 化合物24:
b) 化合物33を、還元条件下で、リチウムトリ−t−アルコキシアルミニウムハイドライドと反応させて、化合物34:
c) 化合物34を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する。
(a) DCA溶液を形成する条件下で、約95%以下の純度を有するDCAを、ジクロロメタンを含む溶媒に接触させ;
(b) 工程(a)で得たDCA溶液からDCAを結晶化して、結晶性DCAを含有する溶液を得;
(c) 96%より高い純度を有する結晶性DCAを回収する。
(a) DCA溶液を形成する条件下で、約95%以下の純度を有するDCAを、ジクロロメタンおよびメタノールを含む溶媒に接触させ;
(b) 工程(1)で得たDCA溶液からDCAを結晶化して、結晶性DCAを含有する溶液を得;
(c) 結晶性DCAを回収し、回収した結晶性DCAに96%より高い純度を与えるのに充分な量のジクロロメタンを除去する。
本開示を通して、種々の刊行物、特許および公開特許明細書が、出典を明記することによって参照される。これらの刊行物、特許および公開特許明細書の開示は、本発明が関係している技術の現状をより充分に記載するために、参照により本開示に組み入れられる。
A. ヒドロコルチゾンからのDCAの合成
一実施形態において、本発明は、デオキシコール酸(DCA)または薬学的に許容されうるその塩を合成するための中間体である化合物14の合成を提供する。
スキーム1. ヒドロコルチゾンからの3α−ヒドロキシ−5β−アンドロスタ−9(11)−エン−17−オン(14)の合成
を、脱水条件に暴露して、化合物12:
a) ヒドロコルチゾン
b) 化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物13:
を得;
e) 化合物13を、脱水条件に付して、化合物12:
a〜e) 化合物12:
f) 化合物12を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物18:
g) 化合物18を、ルイス酸の存在下に、アルキルプロピオレートCH≡CC(O)ORまたはアルキルアクリレートCH2=CHC(O)OR[ここで、Rはアルキルである]と反応させて、化合物19:
を形成し;
h) 式19の化合物を、水素化条件下で、H2と反応させて、化合物20:
i) 化合物20を、酸化剤と反応させて、化合物21:
j) 化合物21を、水素化条件下で、H2と反応させて、化合物22:
k) 化合物22を、還元剤と反応させて、化合物23:
l) 化合物23を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する。
いくつかの実施形態において、水素化条件は、溶媒DMFを溶媒として含む。
他の実施形態において、本発明は、11−β−ヒドロキシ/11−ケトステロイドの、対応する12−α−ヒドロキシ/12−ケトステロイド(この化合物は、胆汁酸の合成に有用である)への効率的変換のための合成プロセスを提供する。該プロセスは、好ましくは、9−HAD、コルチゾンまたはヒドロコルチゾンのようなステロイドを使用し、該ステロイドは、米国仮特許出願第61/303,816号(出願日:2010年2月12日;発明の名称:「Preparation of Deoxycholic Acid and Intermediates Thereof」;該出願の全内容は参照により本明細書に組み入れられる)に記載されている方法によって、合成的に調製し、化合物4に変換してもよい。
ここで、Pgはヒドロキシル保護基であり、Rは水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり、R1は胆汁酸の17−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで前記側鎖のカルボキシル官能基はC1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され、R2は水素であり、またはR1およびR2はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基、例えばケタールを形成し;
前記プロセスは、下記を含む:
補助酸化剤の存在下に、式(R3)(R4)(R5)C−O−OH[ここで、R3、R4およびR5はそれぞれ独立にC1−C3アルキルである]のt−アルキルヒドロペルオキシドとの反応によって、化合物4の12位におけるアリル酸化を行って、化合物1、2および3:
そして、化合物1および/または2を、必要に応じて、さらに変換して、Δ−9,11−エン−12−オン化合物3を得る。
に変換する2段階プロセスに関し;
前記プロセスは、下記を含む:
先ず、前記混合物を水素化条件下で反応させ;そして
次に、それによって形成された生成物を、酸化条件下で反応させる。
を形成する。
a) 適切に保護された11−β−ヒドロキシステロイドを選択し;
b) 11−β−ヒドロキシステロイドを脱水して、前記ステロイド中にΔ−9,11−エン官能基を与え;
c) 補助酸化剤の存在下に、前記b)のステロイド生成物をアルキルヒドロペルオキシドと反応させることによって、12位におけるアリル酸化を行い;そして
d) Δ−9,11−エン官能基を水素化して、9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−ケトステロイドを得;そして、
e) 必要に応じて、前記d)で生成された9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−ケトステロイドの12−ケト官能基を、有効量の還元剤で還元して、9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−α−ヒドロキシステロイドを得る。
他の実施形態において、本発明は、化合物24:
a) 化合物25:
b) 化合物26を、硫酸の存在下に、水が除去される条件下で脱水して、化合物27:
c) 化合物27を、−40℃〜−45℃の温度を包含する選択的還元条件下で、過剰のリチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドに接触させて、化合物28:
d) 化合物28を、ウィッティヒ反応条件下で、過剰のエチルトリアリールホスホニウムハライドに接触させて、化合物29:
e) 化合物29の
f) 化合物30を、アルキル化条件下で、過剰のC1−C2アルキルアルミニウムジクロリドの存在において、過剰のメチルアクリレートに接触させて、化合物31:
g) 化合物31を、高圧に維持されたオートクレーブを包含する水素化条件下で、不活性溶媒中で、水素ならびに白金および乾燥パラジウム炭素から選択される水素化触媒に接触させて、化合物32;
h) 不活性溶媒に溶解させた化合物32を、酸化条件下で第一酸化剤としての過剰のC4−C6t−アルキルヒドロペルオキシドおよび補助酸化剤としての過剰のNaOClを包含する補助酸化条件下で接触させ、必要に応じて、それに続いて、わずかに過剰のピリジニウムクロロクロメートでさらに酸化して、化合物24:
a) 化合物25:
b) 化合物26を、硫酸の存在下に、水が除去される条件下で脱水して、化合物27:
c) 化合物27を、−40℃〜−45℃の温度を包含する選択的還元条件下で、過剰のリチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドに接触させて、化合物28:
d) 化合物28を、ウィッティヒ反応条件下で、過剰のエチルトリアリールホスホニウムハライドに接触させて、化合物29:
e) 化合物29の
f) 化合物30を、アルキル化条件下で、過剰のC1−C2アルキルアルミニウムジクロリドの存在において、過剰のメチルアクリレートに接触させて、化合物31:
g) 化合物31を、高圧に維持されたオートクレーブを包含する水素化条件下で、不活性溶媒中で、水素、ならびに白金および乾燥パラジウム炭素から成る群から選択される水素化触媒に接触させて、化合物32:
h) 不活性溶媒に溶解させた化合物32を、酸化条件下で第一酸化剤としての過剰のC4−C6t−アルキルヒドロペルオキシドおよび補助酸化剤としての過剰のNaOClを包含する補助酸化条件下で接触させ、必要に応じて、それに続いて、わずかに過剰のピリジニウムクロロクロメートでさらに酸化して、化合物24:
i) 必要に応じて、化合物24をメタノールで洗浄する。
工程a)は、アセトンを溶媒として含み;
工程b)は、ジクロロメタンを溶媒として含み;
工程c)は、不活性雰囲気において、無水テトラヒドロフランを溶媒として含み;
工程d)のウィッティヒ反応条件は、不活性雰囲気において、溶媒としての無水テトラヒドロフラン中に、カリウムt−ブトキシドを含み;
工程e)は、トリエチルアミンおよび4−ジメチルアミノピリジンを含み;
工程f)のC1−C2アルキルアルミニウムジクロリドは、0〜5℃における、不活性雰囲気中の、溶媒としての無水ジクロロメタン中の、エチルアルミニウムジクロリドを含み;
工程g)の水素化触媒は、溶媒としての酢酸エチル中の、乾燥パラジウム炭素を含み;そして、
工程h)のC4−C6t−アルキルヒドロペルオキシドは、5℃未満の温度における、溶媒としての水中の、t−ブチルヒドロペルオキシドを含む。
a) 化合物24:
b) 化合物33を、還元条件下で、リチウムトリ−t−アルコキシアルミニウムハイドライドと反応させて、化合物34:
c) 化合物34を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する。
他の態様において、本発明は、式1または5の化合物に関する:
Pgは、ヒドロキシル保護基であり;
Rは、水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり;
R1は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の17−側鎖であり、ここで、前記側鎖のカルボキシル官能基は、C1−C6アルキル基またはベンジル基で必要に応じてエステル化され;
R2は、水素であり;または
R1およびR2は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し;
R3、R4およびR5はそれぞれ独立に、C1−C3アルキルである]。
いくつかの実施形態において、式1の化合物は、化合物41である:
他の実施形態において、デオキシコール酸(DCA)または薬学的に許容されうるその塩を調製する方法を提供し、前記方法は下記を含む:
(1) 式53の化合物:
を形成し;そして
(2) 式54の化合物を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸または薬学的に許容されうるその塩を形成する。
9α−ヒドロキシアンドロスタ−4−エン−3,17−ジオン120:
式26の化合物:
式28の化合物:
式29の化合物:
を調製する方法を提供し、該方法は下記を含む:
式18の化合物:
式30の化合物:
を調製する方法を提供し、該方法は下記を含む:
式20の化合物:
式56の化合物:
を調製する方法を提供し、該方法は下記を含む:
式57の化合物:
式58の化合物:
(a) 式21の化合物:
(b) 式53の化合物と式59の化合物との混合物を、式57の化合物と式53の化合物との混合物を形成する条件下で、酸化剤に接触させて;そして、
(c) 式57の化合物と式53の化合物との混合物を、水素化条件下で、H2に接触させて、式53の化合物を形成する。
本発明の精製方法は、約95%以下の純度、ある場合には約80%以下の純度を有するデオキシコール酸(DCA)を使用する。これらの方法は、これらのDCA組成物の純度を、少なくとも約96%、または少なくも99%に高める。
(a) DCA溶液を形成する条件下で、約95%以下の純度を有するDCAを、ジクロロメタンを含む溶媒に接触させ;
(b) 工程(a)で得たDCA溶液からDCAを結晶化して、結晶性DCAを含有する溶液を得;
(c) 結晶性DCAを回収し、回収した結晶性DCAに96%より高い純度を与えるのに充分な量のジクロロメタンを除去する。
(a) DCA溶液を形成する条件下で、約95%以下の純度を有するDCAを、ジクロロメタンおよびメタノールを含む溶媒に接触させ;
(b) 工程(a)で得たDCA溶液からDCAを結晶化して、結晶性DCAを含有する溶液を得;
(c) 結晶性DCAを回収し、回収した結晶性DCAに96%より高い純度を与えるのに充分な量のジクロロメタンを除去する。
その組成物態様の1つにおいて、本発明は、合成デオキシコール酸(DCA)または薬学的に許容されうるその塩である化合物を提供し、該合成DCAまたは薬学的に許容されうるその塩は、少なくとも99%の純度を有する。
好ましくは少なくとも99%の純度を有する本発明のDCAまたは薬学的に許容されうるその塩または組成物は、例えば、米国特許第7,622,130号ならびに米国特許出願第2005−0267080 A1号および第2006−0127468 A1号(それらの全内容は参照により本明細書に組み入れられる)に記載されているように、種々の薬学的または美容的用途に有用である。
ヒドロコルチゾンからの3α−アセトキシ−5β−アンドロスタン−9,11−エン−17−オン(36)の合成
工程1
(Z)−3α−アセトキシ−5β−プレグナ−9(11),17(20)−ジエン(30)
DCAまたはその中間体の調製の間に分離される不純物
下記の化合物は、本明細書に記載されている合成の間に、不純物として回収された:
化合物79(120.0g)を、水中の70%t−ブチルヒドロペルオキシド((CH3)3C−O−OH)(35当量)および酢酸エチル中の10%次亜塩素酸ナトリウム(NaOCl)(7.0当量;7時間にわたって添加)を使用して0〜5℃で酸化した。ワークアップ後、有機層を亜硫酸ナトリウム、次にPCC(1.0当量)で処理して、185gの残渣を得た。残渣を20%の水性メタノール(2vol)でスラリー精製して、75.2g(60.6%収率)の純粋化合物80を得た。
清浄乾燥フラスコにおいて、CrO3(65g、599mmol)を、AcOH(975mL)中の化合物79(65g、139mmol)の溶液に、2回に分けて(40gおよび25g)添加した(注意:高発熱性;必要に応じて氷水冷却で50℃未満の温度に調節すべきである)。得られた混合物を30〜35℃で3時間加熱した。25〜35℃の、より低い温度を使用してもよい。TLCによって反応の完結が確認されたら(ヘキサン中30%のEtOAc、2%以下(NMT)の化合物79)、イソプロピルアルコール(108mL)を添加し、混合物を15分間撹拌し、次に、溶媒を60℃未満で真空蒸発させた。残留物質に、水(1200mL)およびMTBE(650mL)を添加した。2相を分離し、水性層をMTBE(2x650mL)で抽出した。集めた有機層を水(750mL)およびブライン溶液(332mL)で洗浄した。溶媒を、50℃未満において真空下に完全に除去した。残渣にメタノール(195mL)を添加し、溶媒を50℃未満での真空蒸留によって完全に除去した。メタノール(130mL)を再び添加し、混合物を10〜15℃に冷却し、10〜15℃で1時間撹拌し、濾過し、ケークを冷却(0〜5℃)メタノール(65mL)で洗浄した。白色固形物を、乾燥減量(LOD)が0.5%以下(NMT)になるまで、熱風乾燥機において50〜55℃で乾燥させて、化合物80を得た(36g、53.7%収率)。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=5.71 (s, 1H), 4.71−4.75 (m, 1H), 3.66 (s, 3H), 2.37−2.42 (m, 3H), 2.02−2.31 (m, 2H), 2.0 (s, 3H), 1.67−1.98 (m, 9H), 1.24−1.56 (m, 9H), 1.19 (s, 3H), 1.01−1.02 (d, J=6.5 Hz, 3H), 0.90 (s, 3H).
13C NMR (500 MHz, CDCl3): δ=204.9, 174.5, 170.4, 163.8, 123.6, 73.7, 53.4, 53.0, 51.3, 47.2, 41.7, 39.8, 37.7, 35.2, 35.0, 33.9, 31.4, 30.5, 29.6, 27.6, 27.3, 26.4, 26.1, 24.1, 21.2, 19.4, 10.6.
質量(m/z)=445.0 [M++1], 462.0 [M++18].
IR=3437, 3045, 2946, 2870, 1729, 1680, 1252, 1168, 1020, cm−1.
融点=137−139 oC (EtOAc/ヘキサン混合物から).
[α]D=+93 (c=CHCl3中1%)。
下記の表は、CrO3または(CH3)3C−O−OHおよびNaOClを酸化剤として使用して、化合物79から化合物80を調製した結果を示す。
** 化合物ピーク面積/既知対照標準のピーク面積の比率に基づく純度。
ペルオキシド化合物81の同定
純粋化合物80の濾過後に、濾過母液(不純物に富む;3.14分の滞留時間で約30%)を採集した。3.14分不純物を、カラムクロマトグラフィーによって分離して、100mgの純粋生成物を油状物として得た。図1〜3に示されているNMRおよび質量データは、不純物が12−t−ブチルペルオキシ化合物81であることを示した。
下記のスキーム2において、デオキシコール酸の全合成のためのスキームを示す。
スキーム2
溶媒の選択
いくつかの溶媒を、この工程の改変法において試験した:下記の実験を、前記の溶媒を使用して行い、結果を下記の表に示す。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物26のRf=0.48、および化合物25のRf=0.3。溶離剤は、DCM中30%のEtOAcであった。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=2.40−2.37 (m, 1H), 2.11−.2.02 (m, 2H), 1.91−1.31 (m, 19H), 0.96 (s, 3H), 0.84 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=221.0, 95.7, 80.1, 47.0, 43.6, 38.6, 38.5, 37.1, 35.9, 33.41, 32.9, 32.0, 27.9, 26.9, 21.5, 20.2, 20.0, 12.6.
質量(m/z)=305.0[M++1], 322.0 [M++18].
IR (KBr)=3443, 2938, 1722, 1449, 1331, 1138 cm−1.
融点= 213−216 oC (アセトンから).
[α]D=+116 (c=CHCl3中1%).
HPLC/RI 純度: 99.0%。
DCM(1815mL)中の化合物26(121g)の溶液に、硫酸(19.1mL)を、不活性雰囲気中において5〜10℃で15分間にわたって添加した。温度を25〜35℃に上げ、混合物を2時間撹拌した。この時点で、反応が完結したことを確認した(TLC、DCM中30%のEtOAc)。混合物を水(600mL)で洗浄し、次に、10%のNaHCO3水溶液(600mL)で洗浄した。有機層を、水(200mL)、次に飽和ブライン溶液(200mL)で再び洗浄した。次に、溶媒を真空蒸留して、化合物27(108.2g、95%)を灰色がかった白色の固形物として得た。粗生成物を、さらに精製せずに次の工程に使用した。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物27のRf=0.76、および化合物25のRf=0.44。溶離剤は、DCM中30%のEtOAcであった。
1H NMR (500MHz,CDCl3): δ=5.61 (s,1H ), 2.57−2.47(m, 2H), 2.42−2.24 (m, 4H), 2.20−2.05 (m, 3H), 1.99−1.86 (m, 2H), 1.85−1.84 (d, J=6 Hz 1H), 1.63−1.57 (m, 5H), 1.40−1.37(d, J=13.5 Hz, 1H) 1.28−1.25 (dd, J=4.0, 13.5 Hz, 1H), 1.17 (s, 3H) 0.85 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=221.3, 212.8, 140.1, 118.5, 48.5, 45.9, 44.3, 43.5, 39.0, 38.0, 37.3, 36.1, 35.8, 33.3, 28.8, 26.0, 25.5, 22.5, 13.9.
質量(m/z)=287 [M++1 ], 304 [ M++18 ].
IR (KBr) =3450, 2913, 1737, 1707,1413, 1403,1207 cm−1.
融点=143.4−145.9 oC (DCMから).
[α]D=+142 (c=CHCl3中1%).
HPLC/ RI 純度: 96.7%。
THF(1080mL)中の化合物27(108.0g)の溶液に、リチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライド(700mL)を、−40〜−45℃で不活性雰囲気下に添加した。得られた反応混合物を、−40〜−45℃で2時間撹拌した。TLC(DCM中30%のEtOAc)によって確認した反応の完結後に、反応混合物を2N HCl溶液の添加によってクエンチした。相を分離し、得られた水性層をジクロロメタン(648mL)で抽出した。有機画分を集め、水(648mL)、次に飽和ブライン溶液(540mL)で洗浄した。有機層を真空蒸発させて、化合物28を得、THF(540mL)に溶解させた。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物30のRf=0.5、および化合物29のRf=0.15。溶離剤=ヘキサン中10%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=5.38 ( s, 1H), 5.20−5.18 (d, J=6.5 Hz, 1H), 4.76−4.72 (m, 1H), 2.40−2.35 (m, 3H), 2.25−2.22 (m, 1H), 2.09−2.03 (m, 3H), 2.01 (s, 3H), 1.98−1.49 (m, 10H), 1.41−1.31 (m, 2H), 1.27−1.16 (m, 3H), 1.07 (s, 3H), 0.79 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=170.5, 150.0, 140.4, 119.6, 114.3, 74.7, 53.5, 42.0, 41.7, 39.6, 38.6, 35.6, 35.3, 33.8, 31.9, 29.5, 27.8, 26.7, 26.6, 25.5, 21.3, 16.9, 13.2
質量(m/z)=342.9 [M++1], 360 [M++18].
IR (CHCl3)=3440, 3035, 1730, 1451, 1367, 1258, 1028cm−1.
融点=93.9−97.8 oC.
[α]D=+109 (c=CHCl3中1%).
HPLC/ RI 純度: 96.0%。
DCM(560mL)中の化合物30(56g)の溶液に、メチルアクリレート(35.13mL)を、0〜5℃で不活性雰囲気下に撹拌しながら60分間にわたって添加し、溶液を0〜5℃に冷却し、エチルアルミニウムジクロリド(272.9mL;トルエン中1.8M)を60分間にわたって添加した。次に、温度を25〜35℃に上げ、混合物を約18時間撹拌した。この時点で、TLC(ヘキサン中10%のEtOAc)による分析によって反応が完結したことを確認し、従って、混合物を氷冷水(1120mL)に注いだ。相を分離し、水性層をDCM(2x255mL)で抽出した。有機層を集め、水(560mL)およびブライン溶液(560mL)で順次に洗浄し、有機層を真空蒸発させて、化合物84(66g)を油状物として得た。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物32のRf=0.32、および化合物84のRf=0.30。溶離剤=ヘキサン中10%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=5.31 (s, 1H), 4.73(m, 1H), 3.66 (s, 3H), 2.37−2.03 (m, 7H), 2.01 (s, 3H), 1.98−1.09(m, 18H), 1.06 (s, 3H), 0.92−0.91 (d, J=6.0 Hz, 3H), 0.59 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=174.6, 170.5, 139.8, 119.5, 74.8, 56.0, 53.3, 51.4, 41.9, 41.7, 40.9, 38.5, 36.4, 35.4, 35.2, 33.8, 31.0, 30.9, 29.5, 28.2, 27.8, 26.8, 26.7, 25.2, 21.4, 17.9, 11.5
質量(m/z)=448.2 [M++18].
IR (KBr)=3435, 3039, 2941, 1729, 1448, 1435, 1252, 1022 cm−1.
融点=122.1−123.9 oC.
[α]D=+56 (c=CHCl3中1%).
HPLC/ RI 純度: 93.0%。
エチルアルミニウムジクロリド(104.5mL、192mmol、トルエン中1.8M)を、DCM(100mL)中のメチルプロピオレート(13.58mL、153mmol)の溶液に、0℃で不活性雰囲気下に添加した。得られた溶液を15分間撹拌し、次に、化合物30(22g、64.3mmol)を添加した。0℃でさらに20分間撹拌した後、温度を25℃に上げ、さらに18時間その温度に維持した。この時点で、TLCによって反応が完結したことを確認し、混合物を冷却(0℃)水(200mL)に注いだ。相を分離し、水性層をDCM(150mL)で抽出した。有機層を集め、水(200mL)および飽和ブライン溶液(100mL)で順次に洗浄した。次に、それを無水Na2SO4(40g)上で乾燥し、濾過した。濾液を真空濃縮し、得られた固形物を、メタノール(280mL)中でのスラリー化によって精製して、化合物85(17.5g、68%)を白色固形物として得た。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、85のRf=0.32、および30のRf=0.5。
TLC移動相:ヘキサン中10%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=6.92−6.926 (q, J=7.5, 15.5 Hz, 1H), 5.80−5.83 ( d, J=16 Hz, 1H), 5.37−5.43 (m, 2H), 4.73−4.75 (m, 1H), 3.73 (s, 3H), 3.02−3.04 (t, J=6.5 Hz, 1H), 2.15−2.23 (m, 3H), 2.05−2.08 (m, 3H), 2.01 (s, 3H), 1.48−1.99 (m, 8H), 1.24−1.34 (m, 2H), 1.20−1.21 (d, J=5 Hz, 3H), 1.11−1.17 (m, 1H), 1.07 (s, 3H), 0.67 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ =170.5, 167.2, 155.0, 153.7, 141.6, 124.0, 118.8, 118.7, 74.6, 53.9, 51.3, 45.7, 41.7, 38.8, 37.1, 35.5, 35.3, 34.6, 33.7, 31.8, 29.5, 27.7, 26.5, 26.5, 21.3, 19.7, 15.7.
質量(m/z)=444.0 [M++18].
IR (KBr)=3443, 3030, 2930,1719,1650,1247, 1359, 1032, 1170 cm−1.
融点=114−116 oC (メタノールから)
[α]D=+102 (c=CHCl3中1%).
ELSD 純度: 99.7%, 滞留時間=19.57, (Inertsil ODS 3V 250 × 4.6 mm, 5um), ACN: 水中0.1% TFA (90:10)。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、32のRf=0.32、および85のRf=0.30。
TLC移動相:ヘキサン中10%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=5.31 (s, 1H), 4.73 (m, 1H), 3.66 (s, 3H), 2.03−2.37 (m, 7H), 2.01 (s, 3H), 1.09−1.98 (m, 18H), 1.06 (s, 3H), 0.91−0.92 (d, J=6.0 Hz, 3H), 0.59 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=174.6, 170.5, 139.8, 119.5, 74.8, 56.0, 53.3, 51.4, 41.9, 41.7, 40.9, 38.5, 36.4, 35.4, 35.2, 33.8, 31.0, 30.9, 29.5, 28.2, 27.8, 26.8, 26.7, 25.2, 21.4, 17.9, 11.5
質量(m/z)=448.2 [M++18].
IR (KBr)=3435, 3039, 2941, 1729, 1448, 1435, 1252, 1022 cm−1.
融点 =122.1−123.9 oC (EtOAcから).
[α]D=+56 (c=CHCl3中1%)
ELSD 純度: 97.7%: 滞留時間=14.57 (ZORBAX SB C−18 150 × 4.6 mm, 5um, ACN: 水中0.1% TFA (90:10)。
酢酸エチル(200mL)中の化合物32(20g)の溶液に、水(200mL)中の70%TBHPを添加し、反応溶液を0℃に冷却し、10%次亜塩素酸ナトリウムを0〜5℃で約6〜7時間にわたってゆっくり添加し、前記温度で2〜3時間撹拌した。TLC(溶離剤=ヘキサン中20%のEtOAc)によって化合物32の完全消失を確認した後、有機層を分離し、水性層を酢酸エチル(60mL)で抽出し、集めた有機層を水(2x400mL)で洗浄し、次に、20%亜硫酸ナトリウムゾル(220mL)で50〜55℃において2時間処理し、2層を分離し、有機層をピリジニウムクロロクロメート(10.9g)で6〜8時間にわたって25〜30℃で処理した。TLC(溶離剤=ヘキサン中20%のEtOAc)によってアリルアルコールの完全消失を確認した後、有機層を、熱水(4x500mL)、次に飽和ブライン溶液(100mL)で洗浄した。有機層を45〜50℃で真空蒸発させた。得られた粗物質を、20%水性メタノール(40mL)と共に5〜10℃において1時間撹拌することによって精製し、濾過し、ケークを20%水性メタノール(20mL)で洗浄し、次に、45〜50℃で真空乾燥して、化合物24(13g)を淡黄色固形物として得た。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物24のRf=0.28、および化合物32のRf=0.52。溶離剤=ヘキサン中20%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=5.71 (s, 1H), 4.75−4.71 (m, 1H), 3.66 (s, 3H), 2.42−2.37(m, 3H), 2.31−2.02(m, 2H), 2.0 (s, 3H), 1.98−1.67 (m, 9H), 1.56−1.24 (m, 9H), 1.19 (s, 3H), 1.02−1.01 (d, J=6.5 Hz, 3H), 0.90 (s, 3H).
13C NMR (500 MHz, CDCl3): δ=204.9, 174.5, 170.4, 163.8, 123.6, 73.7, 53.4, 53.0, 51.3, 47.2, 41.7, 39.8, 37.7, 35.2, 35.0, 33.9, 31.4, 30.5, 29.6, 27.6, 27.3, 26.4, 26.1, 24.1, 21.2, 19.4, 10.6.
質量(m/z)=445.0 [M++1], 462.0 [M++18].
IR=3437, 3045, 2946, 2870, 1729, 1680, 1252, 1168, 1020, cm−1.
融点=141〜142 oC.
[α]D=+102 (c=CHCl3中1%).
HPLC/ RI 純度: 96.2%。
10.0g規模の化合物24の水素化において、酢酸エチル(20部)中の乾燥10%Pd/C(15wt%)を添加し、約50psiの水素圧力を適用し、温度を70℃に上げた。70℃の温度に達した後、水素圧力の約60psiへの増加を観測し、これらの条件で60時間維持した。60時間後、0.6%の化合物24および2.75%のアリルアルコールが依然として観測され、従って、さらに12時間撹拌した(0.16%のアリルアルコールおよび0.05%の化合物24が観測された)。ワークアップ後、その反応は9.5gの残渣を生じた。
10%Pd/C(900mg)を、EtOAc(150mL)中の化合物24(2.0g、4.5mmol)の溶液に添加し、得られたスラリーを、Parr装置(50psi)において50℃で16時間水素化した。この時点で、TLCによって反応が完結したことを確認した。混合物をCelite(登録商標)の小プラグで濾過し、溶媒を真空除去して、化合物33(1.6g、80%収率)を白色固形物として得た。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、33のRf=0.36、および25のRf=0.32。
TLC移動相:ヘキサン中20%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ= 4.67−4.71 (m, 1H), 3.66 (s, 3H), 2.45−2.50 (t, J=15 Hz, 2H), 2.22−2.40 (m, 1H), 2.01 (s, 3H), 1.69−1.96 (m, 9H), 1.55 (s, 4H), 1.25−1.50 (m, 8H), 1.07−1.19 (m, 2H), 1.01 (s, 6H), 0.84−0.85 (d, J=7.0 Hz, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=214.4, 174.5, 170.4, 73.6, 58.5, 57.4, 51.3, 46.4, 43.9, 41.2, 38.0, 35.6, 35.5, 35.2, 34.8, 32.0, 31.2, 30.4, 27.4, 26.8, 26.2, 25.9, 24.2, 22.6, 21.2, 18.5,11.6,
質量(m/z)=447.0 [M++1], 464.0 [M++18].
IR (KBr)=3445, 2953, 2868, 1731, 1698, 1257, 1029 cm−1.
融点=142.2〜144.4oC(EtOAc/ヘキサン混合物から).
[α]D=+92 (c=CHCl3中1%).
ELSD 純度: 96.6%: 滞留時間=9.93 (Inertsil ODS 3V, 250 × 4.6 mm, 5um, ACN: 水中0.1% TFA(90:10)。
10%Pd/C(180mLの酢酸エチル中9g)のスラリーを、EtOAc(720mL)中の化合物24(36g、81mmol)の溶液に添加し、得られたスラリーを水素ガス(50psi)で45〜50℃において16時間処理した(合計1080mLの溶媒を使用しうる)。この時点で、HPLCにより反応が完結したことを確認した(1%以下(NMT)の化合物24)。混合物をCelite(登録商標)(10g)で濾過し、酢酸エチル(900mL)で洗浄した。濾液を、50℃未満での真空蒸留によって、その量の50%に濃縮した。濃縮溶液に、ピリジニウムクロロクロメート(20.8g)を25〜35℃で添加し、混合物を2時間にわたって25〜35℃で撹拌し、その時点で、HPLCによって反応の完結を確認した(アリルアルコール含有量は1%以下(NMT)である)。
方法A
リチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドのTHF溶液(1M、22.4mL、22.4mmol)を、THF(25mL)中の化合物33(2.5g、5.6mmol)の溶液に、周囲温度で滴下した。さらに4〜5時間撹拌した後、反応が完結したことをTLCによって確認した。反応を、HCl水溶液(1M、10mL)の添加によってクエンチし、混合物をEtOAc(30mL)で希釈した。相を分離し、有機相を、水(15mL)および飽和ブライン溶液(10mL)で順次に洗浄した。次に、有機相を無水Na2SO4(3g)上で乾燥させ、濾過した。濾液を真空濃縮し、得られた固形物を、カラムクロマトグラフィー[29mm(W)x500mm(L)、60〜120メッシュシリカ、50g]にかけ、EtOAc/ヘキサン(2:8)で溶離して、精製した[5mL画分、p−アニスアルデヒド黒焼きを用いるTLCによって監視]。生成物を含有する画分を集め、真空濃縮して、化合物34(2.3g、91%)を白色固形物として得た。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、34のRf=0.45、および33のRf=0.55。
TLC移動相:ヘキサン中30%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=4.68−4.73 (m, 1H), 3.98 (s, 1H), 3.66 (s, 3H), 2.34−2.40 (m, 1H), 2.21−2.26 (m, 1H), 2.01 (s, 3H), 1.75−1.89 (m, 6H), 1.39−1.68 (m, 16H), 1.00−1.38 (m, 3H), 0.96−0.97 (d, J=5.5 Hz, 3H), 0.93 (s, 3H), 0.68 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=174.5, 170.5, 74.1, 72.9, 51.3, 48.1, 47.2, 46.4, 41.7, 35.8, 34.9, 34.7, 34.0, 33.5, 32.0, 30.9, 30.8, 28.6, 27.3, 26.8, 26.3, 25.9, 23.4, 22.9, 21.3, 17.2, 12.6
質量(m/z)=449.0 [M++1], 466.0 [M++18].
IR (KBr)=3621, 2938, 2866, 1742, 1730, 1262, 1162, 1041, cm−1.
融点=104.2〜107.7oC(EtOAcから).
[α]D=+56 (c=CHCl3中1%).
ELSD 純度: 97.0%: 滞留時間=12.75 (Inertsil ODS 3V, 250 × 4.6 mm, 5um, ACN:水 (60:40)。
リチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドのTHF溶液(1M、107.6mL、107.6mmol)を、1時間にわたって、乾燥THF(300mL)中の化合物33(30.0g、67mmol)の溶液に、0〜5℃で添加した。さらに4時間にわたって5〜10℃で撹拌した後、HPLCによって反応が完結したことを確認した(1%以下(NMT)の化合物33)。反応を0〜5℃に冷却し、4N HCl(473mL)を添加することによってクエンチした。相を分離した。水性層をDCM(2x225mL)で抽出し、集めた有機相を、水(300mL)および飽和ブライン溶液(300mL)で順次に洗浄した。次に、有機相を、50℃未満での真空蒸留によって濃縮乾固した。メタノール(150mL)を残渣に添加し、50℃未満での真空蒸留によって、濃縮乾固した。次に、水(450mL)を残渣に添加し、混合物を15〜20分間撹拌し、濾過し、ケークを水(240mL)で洗浄した。白色固形物を、熱風乾燥機において35〜40℃で6時間乾燥させて、化合物34(30g、99.6%)を得た。
方法A
H2O(2.0mL)中のLiOH(187mg、4.4mmol)の溶液を、THF(8mL)およびMeOH(8mL)中の化合物34(500mg、1.11mmol)の溶液に添加した。得られた混合物を、3〜4時間にわたって50℃で撹拌した。TLCによって出発物質の完全消失を確認したら、反応混合物を真空濃縮した。水(10mL)および3N HCl(1mL)の混合物を合わし、0℃に冷却し、次に、粗生成物に添加した。1時間にわたって0℃で撹拌した後、沈殿した固形物を濾過し、次に、水(10mL)およびヘキサン(20mL)で洗浄した。室温で真空乾燥して、デオキシコール酸(DCA、400mg、91%収率)を白色固形物として得た。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、DCAのRf=0.32、および2.1aのRf=0.82。
TLC移動相:DCM中10%のメタノール。
1H NMR (500 MHz, DMSO): δ=11.92 (s, 1H), 4.44 (s, 1H), 4.19 (s, 1H), 3.77 (s, 1H), 3.35−3.36 (m, 1H), 2.19−2.21 (m, 1H), 2.08−2.10 (m, 1H), 1.73−1.80 (m, 4H), 1.43−1.63 (m, 6H), 1.15−1.35 (m, 12H), 0.98−1.05 (m, 2H), 0.89−0.90 (d, J=6.0 Hz, 3H), 0.83 (s, 3H), 0.58 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, DMSO): δ =174.8, 71.0, 69.9, 47.4, 46.1, 46.0, 41.6, 36.3, 35.6, 35.1, 34.9, 33.8, 32.9, 30.8, 30.7, 30.2, 28.6, 27.1, 27.0, 26.1, 23.5, 23.0, 16.9, 12.4.
質量(m/z)=393 [M+,+1].
IR=3363, 2933, 2863, 1694, 1453, 1372, 1042,cm−1.
融点=171.4〜173.6oC(エタノールから); 174−176 oC (Alfa Aesar) および 171−174 oC (Aldrich)
[α]D=+47 (c=EtOH中1%), +54o (c=エタノール中2%) [Alfa Aesar]
ELSD 純度: 99.7%: 滞留時間=5.25 (Inertsil ODS 3V, 250 × 4.6 mm, 5um, ACN:水中0.1% TFA (90:10)。
H2O(54mL)中のNaOH(40g、270mmol)の20%溶液を、THF(120mL)およびMeOH(120mL)中の化合物34(30g、67mmol)の溶液に、0〜5℃で添加した。得られた混合物を4時間にわたって25〜35℃で撹拌した。HPLCによって反応の完結を確認したら(0.5%以下(NMT)の化合物34および中間体)、溶媒を50℃未満での真空蒸留によって除去した。残渣を水(300mL)に溶解し、DCM(2x150mL)で洗浄した。水性層のpHを、2N HCl(約173mL)で1〜2に調節した。固形物を濾過し、水(3L)で充分に洗浄し、湿分が2%未満になるまで、熱風乾燥機によって70〜75℃で乾燥させて、デオキシコール酸(DCA、26g、99%収率)を白色固形物として得た。
デオキシコール酸(DCA)精製
1.溶媒選択
2つの溶媒系を、DCAのさらなる精製に関して調査した:
・EtOAc中10%のヘキサン
・DCM
下記の実験を行い、実験結果を下記の表に示す。
種々の溶媒量を使用して実験を行い、実験結果を下記の表に示す。
分離温度を変化させることによって下記の実験を行い、結果を下記の表に示す。
この工程の最終精製手順を下記に示す:
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、DCAのRf=0.32、および化合物34のRf=0.82。
溶離剤=DCM中10%のメタノール。
1H NMR (500 MHz, DMSO): δ=11.92(s, 1H),4.44(s, 1H), 4.19(s, 1H), 3.77 (s, 1H), 3.36−3.35 (m, 1H), 2.21−2.19 (m, 1H), 2.10−2.08 (m, 1H), 1.80−1.73 (m, 4H), 1.63−1.43(m, 6H), 1.35−1.15(m, 12H), 1.05−0.98(m, 2H), 0.90−0.89 (d, J=6.0 Hz, 3H), 0.83 (s, 3H), 0.58 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, DMSO): δ =174.8, 71.0, 69.9, 47.4, 46.1, 46.0, 41.6, 36.3, 35.6, 35.1, 34.9, 33.8, 32.9, 30.8, 30.7, 30.2, 28.6, 27.1, 27.0, 26.1, 23.5, 23.0, 16.9, 12.4.
質量(m/z)=393 [M+,+1].
IR=3363, 2933, 2863, 1694, 1453, 1372, 1042, cm−1.
融点=171.4〜173.6oC(エタノールから); 174−176 oC (Alfa Aesar) および 171−174 oC (Aldrich)。
前記の方法Bで得たDCA(26g)を、清浄乾燥フラスコに装填した。メタノール(65mL)およびDCM(585mL)を添加した。混合物を加熱還流して、透明溶液を得た。DCM(650mL)をその溶液に添加し、780mLの溶媒が採集されるまで、溶媒を大気圧下に蒸留した。混合物をGCによって分析して、溶媒組成を決定した。メタノール含有量が2%より高い場合、DCM(200mL)を添加し、200mLの留出液が採集されるまで大気圧下に蒸留した(GCによりメタノール含有量を調べる)。反応混合物を1〜2時間にわたって20〜25℃に冷却し、この温度で3〜4時間撹拌した。生成物を濾過し、DCM(81mL)で洗浄し、熱風乾燥機において50〜55℃で8時間乾燥させた。純度をHPLCによって測定した。単独最大不純物が0.1%より高い場合、前記のプロセスを繰り返す。
化合物33からのDCAの合成および精製の代替的方法
工程 1a: メチル3α−アセトキシ−12−オキソ−5β−コラ−9(11)−エン−24−オエート(24)の水素化
EtOAc(1.5L)中のPCC(149.1g、1.03当量)のスラリーを、前記の33溶液に、20〜25℃で添加した。反応を3.5時間進め、その時点で、HPLC分析により、<1%AUCのアリルアルコール86および<1%AUCの87が残留していることが示された。反応混合物を、Hyflo(登録商標)(300g)で濾過し、EtOAc(3.0L)で洗浄した。EtOAc濾液を、脱イオン(DI)水(2x3.6L)およびブライン(3.6L)で洗浄し、Hyflo(登録商標)(300g)で濾過し、EtOAc(3.0L)で洗浄した。得られた濾液を約7.5Lに濃縮し、さらに操作せずに先に進めた(HPLCにより77.7%AUC;5.3%AUCの24を含有)。
粉末活性炭DARCO(60g、20wt%)を、24を含有する前記の粗33溶液に添加した。得られたスラリーを45〜50℃に4時間加熱し、30〜35℃に冷却し、Celite(登録商標)で濾過した。濾過ケークを、EtOAc(7.5L)で洗浄し、約7.5Lに濃縮し、乾燥Pd/C(60.0g、20wt%)に添加した。反応混合物を45〜50℃に加熱し、50psiのH2に6時間加圧した。HPLC分析により、<1.0%AUCの24が残留し;1.1%AUCの86不純物および<1.0%AUCの87が形成されたことが示された。反応が完結したとみなし、30〜35℃に冷却し、Celite(登録商標)で濾過し、EtOAc(7.5L)で洗浄した。EtOAc濾液を約5ボリュームに濃縮し、MeOH(2x4.5L)と共に共沸して、約5ボリュームに戻した。得られたスラリーをDI水(2.4L)で希釈し、20〜25℃に維持した。スラリーを濾過し、DI水(2x600mL)で洗浄し、40〜50℃で真空乾燥して、266g(88%)の33(HPLCにより66.2%AUC)を得た。
THF(2.5L)中の33(245g、0.5mol)の溶液を、0〜5℃に冷却し、温度を5℃未満に維持しながらLi(t−BuO)3AlH(822.9mL、1.5当量)の1M溶液を添加した。反応混合物を5〜10℃で22時間撹拌した。反応は2〜4時間で完結しうる。HPLC分析により、反応が完結し、<1%の33が残留していることが示された。温度を20℃未満に維持しながら、反応を4M HCl(3.7L)でクエンチした。反応混合物をCH2Cl2(2x2.5L)で抽出し、集めた有機相をDI水(2x2.5L)で洗浄した。CH2Cl2相を濃縮して、300g(122%)の34(HPLCにより73.5%AUC)を得た。1H NMR分析により、9.7wt%のTHF、および0.8wt%のCH2Cl2が残留していることが示された。
DI水(438.6mL)中のNaOH溶液(87.6g、4当量)を、MeOH(980mL)およびTHF(475mL)中の34(245g、0.5mol)の溶液に、0〜5℃で添加した。反応混合物を20〜25℃に温めた。HPLC分析により、1時間後に反応が完結し、<0.5%の34および<0.5%の加水分解中間体が残留していることが示された。反応をDI水(2.5L)で希釈し、約10ボリュームに濃縮した。水溶液をCH2Cl2(2x1.3L)で洗浄し、2M HCl(1.6L)を使用してpH1.7〜2.0に調節した。白色スラリーが形成され、20〜25℃で1時間撹拌した。スラリーを濾過し、DI水(7x1L)で洗浄し、真空乾燥して、195g(91%)のDCA(HPLCにより82.2%AUC)を得た。
MeOH(475mL)およびCH2Cl2(4275mL)中の、前記で得たDCA(190g、0.48mol)の溶液を、35〜40℃に加熱した。CH2Cl2(4740mL)を添加して蒸留速度を適合させながら、MeOH/CH2Cl2を蒸留によって混合物から除去した。1H NMRによる溶媒組成の分析により、CH2Cl2に対して4.5mol%のMeOHが残留していることが示された。スラリーを20〜25℃に冷まし、16時間維持した。固形物を濾過によって分離し、CH2Cl2(600mL)で洗浄し、真空乾燥して、104g(55%)のDCAを得た(HPLC−RIDにより>99%AUC、およびHPLC−CADにより98.7%AUC)。
デオキシコール酸主要出発物質化合物24の調製プロセスを、改変し、大規模調製に適するようにした。該調製プロセスは、安全、経済的であり、環境に優しく、一貫して仕様を満たす高品質最終生成物を生じる。
・ 主要出発物質(即ち、メチル3α−アセトキシ−12−オキソ−5β−コラ−9(11)−エン−24−オエート)化合物24の調製。
該主要出発物質は、9−α−ヒドロキシアンドロスタ−4−エン−3,17−ジオン(9−HAD)から、8つの化学工程で調製される。いくつかの中間体は分離されないので、プロセスのこの部分は、ステージI〜ステージVに対応する。全ての中間体の構造指定は、NMRおよび質量スペクトルデータと一致している。最終プロセスの詳細手順、ならびに各工程からの生成物のスペクトルデータは、プロセスセクションに示されている。
スキーム1: 9α−ヒドロキシアンドロステンジオンから出発する合成スキーム
・提示プロセス工程の初期実施の欠点
DCAを調製するプロセスは、初期実施において提示経路を経て適度によく操作され、我々は、かなり高い純度を有する多グラム量の合成DCAを調製することができたが、欠点は、工場規模に適さない主要出発物質純度、収率およびウィッティヒステージカラムクロマトグラフィーであり、これらの事項は、水性メタノール中での結晶化方法を使用してうまく回避され、アリル酸化反応も化合物24の良好な収率および純度を向上させ、初期実験手順および各工程の結果を下記に示す。
生成物の化学名: 9α−ヒドロキシ−5β−アンドロスタン−3,17−ジオン
合成スキーム:
・溶媒の選択
・溶媒の量
・反応時間
・触媒の量
溶媒の選択
下記の溶媒を、この工程の改変において試験した:
・N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)
・アセトン
・水性アセトン
・ジクロロメタン(DCM)
・メタノール(MeOH)
・エタノール(EtOH)
・イソプロピルアルコール(IPA)
・n−ブタノール
・テトラヒドロフラン(THF)
・メチルt−ブチルエーテル(MTBE)
・1,4−ジオキサン
・酢酸エチル(EtOAc)
前記の溶媒を使用して下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
ジクロロメタン、メタノールまたは酢酸エチルを、25の水素化における溶媒として使用した場合、出発物質の完全消費が観測された(TLCによる)。生成物の分離およびHPLC−RIによる分析後に、化合物26の5α−および5β−異性体の両方が、約1:1の比率で形成された。
好ましい溶媒の量を決定するために、種々の量のアセトンを使用して反応を行った。下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
・生成物の収率および質は、全ての濃度において同様である。
・生成物品質を、HPLC(RI検出)、NMRおよびMASSによって監視した。
最も好適な反応時間を決定するために下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
Pd/Cの量を変更するために下記の実験を行い、実験結果を下記の表に示す。全ての場合において使用した触媒は、50%湿潤パラジウム炭素であった。
この工程の最終改変プロセスを下記に示す。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物26のRf=0.48、および化合物25のRf=0.3。溶離剤は、DCM中30%のEtOAcであった。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=2.40−2.37 (m, 1H), 2.11−.2.02 (m, 2H), 1.91−1.31 (m, 19H), 0.96 (s, 3H), 0.84 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=221.0, 95.7, 80.1, 47.0, 43.6, 38.6, 38.5, 37.1, 35.9, 33.41, 32.9, 32.0, 27.9, 26.9, 21.5, 20.2, 20.0, 12.6.
質量(m/z)=305.0[M++1], 322.0 [M++18].
IR (KBr)=3443, 2938, 1722, 1449, 1331, 1138 cm−1.
融点=213〜216oC(アセトンから).
[α]D=+116 (c=CHCl3中1%).
HPLC/RI 純度: 99.0%。
生成物の化学名: 5β−アンドロスタ−9(11)−エン−3,17−ジオン
合成スキーム:
・試薬の選択
試薬の選択
下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
この工程の最終改変プロセスを下記に示す。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物27のRf=0.76、および化合物25のRf=0.44。溶離剤は、DCM中30%のEtOAcであった。
1H NMR (500MHz,CDCl3 ): δ=5.61 (s,1H ), 2.57−2.47(m, 2H), 2.42−2.24 (m, 4H), 2.20−2.05 (m, 3H), 1.99−1.86 (m, 2H), 1.85−1.84 (d, J=6 Hz 1H), 1.63−1.57 (m, 5H), 1.40−1.37(d, J=13.5 Hz, 1H) 1.28−1.25 (dd, J=4.0, 13.5 Hz, 1H), 1.17 (s, 3H) 0.85 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=221.3, 212.8, 140.1, 118.5, 48.5, 45.9, 44.3, 43.5, 39.0, 38.0, 37.3, 36.1, 35.8, 33.3, 28.8, 26.0, 25.5, 22.5, 13.9.
質量(m/z)=287 [M++1 ], 304 [ M++18 ].
IR (KBr) =3450, 2913, 1737, 1707,1413, 1403,1207 cm−1.
融点=143.4〜145.9oC(DCMから).
[α]D=+142 (c=CHCl3中1%).
HPLC/ RI 純度: 96.7%。
生成物の化学名:(Z)−3α−アセトキシ−5β−プレグ−9(11),17(20)−ジエン(化合物30)
反応スキーム:
この工程の最終改変手順を下記に示す。
・溶媒の量
溶媒の量
MTBE溶媒量の評価を行うために、下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
いくつかの溶媒系を、この最終精製に関して調査した。それらは下記の溶媒である:
・メタノール
・水性メタノール
・エタノール
・イソプロピルアルコール
・アセトン
下記の実践を行い、その実験結果を下記の表に示す。
種々の溶媒量を使用して実験を行い、その実験結果を下記の表に示す。
分離温度を変化させることによって、下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
この工程の最終改変手順を下記に示す。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物30のRf=0.5、および化合物29のRf=0.15。溶離剤=ヘキサン中10%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=5.38 ( s, 1H), 5.20−5.18 (d, J=6.5 Hz, 1H), 4.76−4.72 (m, 1H), 2.40−2.35 (m, 3H), 2.25−2.22 (m, 1H), 2.09−2.03 (m, 3H), 2.01 (s, 3H), 1.98−1.49 (m, 10H), 1.41−1.31 (m, 2H), 1.27−1.16 (m, 3H), 1.07 (s, 3H), 0.79 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=170.5, 150.0, 140.4, 119.6, 114.3, 74.7, 53.5, 42.0, 41.7, 39.6, 38.6, 35.6, 35.3, 33.8, 31.9, 29.5, 27.8, 26.7, 26.6, 25.5, 21.3, 16.9, 13.2
質量(m/z)=342.9 [M++1], 360 [M++18].
IR (CHCl3)=3440, 3035, 1730, 1451, 1367, 1258, 1028cm−1.
融点=93.9〜97.8 oC.
[α]D=+109 (c=CHCl3中1%).
HPLC/ RI 純度: 96.0%。
生成物の化学名: メチル3α−アセトキシ−5β−コラ−9(11),16−ジエン−24−オエート(化合物84)
合成スキーム:
・ルイス酸の選択
・ルイス酸の量
・触媒の選択
・触媒の量
ルイス酸の選択
この工程における触媒としての代替的ルイス酸を調査するために、下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
エチルアルミニウムジクロリドが、この工程に有効であることが分かった。我々は、エチルアルミニウムジクロリドのモル比を試験し、その結果を下記の表に示す。
酸化白金をこの工程における触媒として最初に使用した。パラジウム炭素は、それほど高価格ではなく、一般的な水素化触媒でもあるので、これも調査した。下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
この工程の最終改変(medication)手順を下記に示す。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物32のRf=0.32、および化合物84のRf=0.30。溶離剤=ヘキサン中10%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=5.31 (s, 1H), 4.73(m, 1H), 3.66 (s, 3H), 2.37−2.03 (m, 7H), 2.01 (s, 3H), 1.98−1.09(m, 18H), 1.06 (s, 3H), 0.92−0.91 (d, J=6.0 Hz, 3H), 0.59 (s, 3H).
13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ=174.6, 170.5, 139.8, 119.5, 74.8, 56.0, 53.3, 51.4, 41.9, 41.7, 40.9, 38.5, 36.4, 35.4, 35.2, 33.8, 31.0, 30.9, 29.5, 28.2, 27.8, 26.8, 26.7, 25.2, 21.4, 17.9, 11.5
質量(m/z)=448.2 [M++18].
IR (KBr)=3435, 3039, 2941, 1729, 1448, 1435, 1252, 1022 cm−1.
融点 =122.1〜123.9 oC.
[α]D=+56 (c=CHCl3中1%).
HPLC/ RI 純度: 93.0%.
工程5の改変試験
生成物の化学名: メチル3α−アセトキシ−12−オキソ−5β−コラ−9(11)−エン−24−オエート(化合物24)
合成スキーム:
・試薬の選択
・試薬の化学量
・溶媒の選択
・溶媒の量
・反応温度
・反応時間
・生成物分離溶媒
・生成物再結晶
試薬の選択
多くの代替的酸化剤を使用して、反応を試験した。下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
いくつかの他の試薬、例えば、CrO3/TBHP、NaClO2/TBHP等も試験した。
この工程の実施の間に、酢酸を溶媒として使用した。下記の溶媒を代替物として選択し、その結果を比較した:
・ジクロロメタン
・酢酸エチル
・水
・多くの他の溶媒を、種々の酸化条件で試験した。いくつかの他の溶媒は、ACN、アセトンおよびAcOHであるが、他の溶媒も組み込みうる。
下記の実験を行い、その結果を表に示す。
20ボリュームの酢酸エチルを、この工程の初期実施において使用した。より少ない溶媒を使用しうるかを調べるために、下記の実験を行った。結果を下記の表に示す。
この工程の初期実施は、より少ない当量のTBHPを使用してなされた。この試薬のこの量を変更するために、下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
この工程の初期実施は、より少ない当量のNaOClを使用してなされた。この試薬のこの量を変更するために、下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
反応温度を変更するために、下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
初期実施の間に、反応を0〜5℃で行った(24時間)。反応時間を変更すべきかを確かめるために、下記の実験を行い、その結果を下記の表に示す。
この最終精製に関して、2つの溶媒系を調査した。それらは下記の溶媒である:
・メタノール
・水性メタノール
下記の実験を行い、その実験結果を下記の表に示す。
この最終精製に関して、2つの溶媒系を調査した。それらは下記の溶媒である:
・メタノール
・水性メタノール
下記の実験を行い、その実験結果を下記の表に示す。
この工程の最終改変手順を下記に示す。
TLC:p−アニスアルデヒド 黒焼き、化合物24のRf=0.28、および化合物32のRf=0.52。溶離剤=ヘキサン中20%のEtOAc。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ=5.71 (s, 1H), 4.75−4.71 (m, 1H), 3.66 (s, 3H), 2.42−2.37(m, 3H), 2.31−2.02(m, 2H), 2.0 (s, 3H), 1.98−1.67 (m, 9H), 1.56−1.24 (m, 9H), 1.19 (s, 3H), 1.02−1.01 (d, J=6.5 Hz, 3H), 0.90 (s, 3H).
13C NMR (500 MHz, CDCl3): δ=204.9, 174.5, 170.4, 163.8, 123.6, 73.7, 53.4, 53.0, 51.3, 47.2, 41.7, 39.8, 37.7, 35.2, 35.0, 33.9, 31.4, 30.5, 29.6, 27.6, 27.3, 26.4, 26.1, 24.1, 21.2, 19.4, 10.6.
質量(m/z)=445.0 [M++1], 462.0 [M++18].
IR=3437, 3045, 2946, 2870, 1729, 1680, 1252, 1168, 1020, cm−1.
融点 =141〜142 oC.
[α]D=+102 (c=CHCl3中1%).
HPLC/ RI 純度: 96.2%。
ステージI: 9α−ヒドロキシ−5β−アンドロスタン−3,17−ジオン
01. アセトン(2200mL)を、清浄乾燥オートクレーブに装填する。
02. 9−HAD(100g)を、前記オートクレーブに装填する。
03. 反応混合物を25℃(室温)で撹拌し、アセトン(200mL)中のPd/C(8.0g)のスラリーを添加する。
04. 窒素で不活性化した後、水素ガスで60psiに加圧する。
05. 反応混合物を、25〜35℃(室温)および60psiで4〜5時間撹拌する。
06. HPLCにより完結を確認する(DCM中30%のEtOAc;0.5%以下(NMT)の25)。
07. 反応混合物を、ジクロロメタン(300mL)で希釈する。
08. Celite(登録商標)床(20g)で濾過し、Celite(登録商標)をジクロロメタン(900mL)で洗浄する。
09. 濾液を、45℃未満での全溶媒の真空蒸留によって、濃縮する。
10. アセトン(300mL)を装填し、溶媒を、真空下に65℃未満で完全に除去する。
11. アセトン(200mL)を装填し、0〜5℃に冷却する。
12. 得られたスラリーを0〜5℃で2時間維持し、次に、濾過する。
13. 湿潤ケークを、冷却(0〜10℃)アセトン(100mL)で洗浄する。
14. 得られた白色固形物を、乾燥減量(LOD)が1%以下(NMT)になるまで、熱風炉において45〜50℃で乾燥させる。
湿潤重量: 105g
乾燥重量: 86g
収率: 85.4%
乾燥減量(LOD)<1.0%
融点範囲: 218〜219.7℃
SOR: +126.4(c=CHCl3中1%)
HPLC/RI純度: 99.0%
注: 水素化の代替的プロセス。
15. DMF(500mL)を、清浄乾燥オートクレーブに装填する。
16. 9−HAD(100g)を、前記オートクレーブに装填する。
17. 反応混合物を25℃(室温)で撹拌し、DMF(200mL)中のPd/C(7.0g)のスラリーを添加する。
18. 窒素で不活性化した後、水素ガスで60psiに加圧する。
19. 反応混合物を、25〜35℃(室温)および60psiで3時間撹拌する。
20. TLCにより完結を確認する(DCM中30%のEtOAc;2%以下(NMT)の25)。
21. 反応混合物を、ジクロロメタン(300mL)で希釈する。
22. Celite(登録商標)床(20g)で濾過し、Celite(登録商標)をジクロロメタン(900mL)で洗浄する。
23. 濾液を、65℃未満での全溶媒の真空蒸留によって、濃縮する。
24. アセトン(300mL)を装填し、溶媒を、真空下に65℃未満で完全に除去する。
25. アセトン(200mL)を装填し、0〜5℃に冷却する。
26. 得られたスラリーを、0〜5℃で2時間維持し、次に、濾過する。
27. 湿潤ケークを、冷却(0〜10℃)アセトン(100mL)で洗浄する。
28. 得られた白色固形物を、乾燥減量(LOD)が1%以下(NMT)になるまで、熱風炉において45〜50℃で乾燥させる。
湿潤重量: 105g
乾燥重量: 88g
収率: 87.4%
乾燥減量(LOD)<1.0%
融点範囲: 218〜219.7℃
SOR: +126.4(c=CHCl3中1%)。
01. ジクロロメタン(1275mL)およびステージI生成物を、清浄乾燥フラスコに装填する。
02. 混合物を10℃に冷却し、次に、硫酸(13.5mL)を10〜15℃で15分間にわたってゆっくり添加する。
03. 反応溶液温度を25〜35℃に上げ、25〜35℃で2時間撹拌する。
04. TLCによって完結を確認する(DCM中30%のEtOAc;1%以下(NMT)のステージI生成物)。
05. 反応混合物を水(300mL)で洗浄する。
06. 水性層をDCM(2x212mL)で逆抽出し、次に、有機層を集める。
07. 有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム溶液(425mL)で洗浄する。
08. 有機層を、水(550mL)、次にブライン溶液(425mL)で洗浄する。
07. 真空下に45℃未満で蒸留することによって、溶媒を完全に除去する。
08. ヘキサン(340mL)を添加し、真空下に50℃未満で蒸留することによって、溶媒を完全に除去する。
09. 水(616mL)を添加し、室温で15分間撹拌し、次に、濾過し、ケークを水(255mL)で洗浄する。
10. 白色固形物を、熱風乾燥機において55〜60℃で、湿分が0.5%以下(NMT)になるまで乾燥させる。
湿潤重量: 約190g
乾燥重量: 76g
収率: 95%
湿分<0.5%
融点範囲: 148.5〜150.1℃
SOR: +144.4(c=CHCl3中1%)
HPLC/RI純度: 96.0%。
01. 乾燥THF(760mL)およびステージII生成物(76g)を、窒素下に、清浄乾燥フラスコに装填する。
02. −35〜−45℃に冷却し、次に、リチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドの溶液を−35〜−45℃で1時間にわたって添加する。
03. 反応温度物を、−35〜−45℃で2〜3時間撹拌する。
04. HPLCによって反応を監視する(DCM中30%のEtOAc;3%以下(NMT)のステージII生成物)。
05. 2N HCl溶液(474mL)を反応混合物に添加し、温度を<0℃に維持する。
06. 層を分離し、水性層をジクロロメタン(2x380mL)で2回、逆抽出する。
07. 集めた有機層を、水(380mL)、次にブライン溶液(380mL)で洗浄する。
08. 溶媒を、60℃未満での常圧蒸留によって、完全に除去する。
09. 残渣の水分量を調べる。それが>0.5%である場合、DCM(156mL)を添加し、再び60℃未満で大気圧下に蒸留する。
10. 残渣を乾燥THF(380mL)に溶解させ、溶液を窒素雰囲気下に維持する。これはステージIIIA生成物である。
11. エチルトリフェニルホスホニウムブロミド(295g)および乾燥THF(250mL)を、窒素下に、清浄乾燥フラスコに装填する。
12. カリウムt−ブトキシド(THF中1M、769mL)の溶液を10分間にわたって添加し、次に、得られた赤色溶液を25〜35℃で1時間撹拌する。
13. 工程10のTHF溶液を、1/2時間にわたって添加し、次に、さらに3時間、25〜35℃で撹拌する。
14. TLCによって完結を確認する(DCM中30%のEtOAc;1%以下(NMT)のステージIIIA生成物)。
15. 氷水(780mL)を、反応混合物に25〜35℃で添加する(5〜8℃により発熱)。
16. 層を分離し、水性相をMTBE(2x380mL)で逆抽出する。
17. 有機層を集め、水(380mL)、次にブライン(380mL)で洗浄する。
18. 真空下に50℃未満で蒸留することによって、溶媒を完全に除去する。
19. MTBE(264mL)を添加し、真空下に50℃未満で蒸留することによって完全に除去する。
20. MTBE(380mL)を再び添加し、25〜35℃で2時間撹拌する。
21. 不所望の塩を濾過し、それをMTBE(380mL)で洗浄し、濾液を集める。
22. 真空下に50℃未満で蒸留することによって、溶媒を完全に除去する。
23. 新しいMTBE(380mL)を添加し、次に、真空下に蒸留することによってそれを完全に除去する。
24. MTBE(380mL)を再び添加し、25〜35℃で2時間撹拌する。
25. 不所望の塩を濾過し、それをMTBE(380mL)で洗浄し、濾液を集め、真空下に20%まで蒸留し、新しいMTBE(180mL)を添加する。
26. 濾液(760mL)ステージIIIB生成物を、清浄乾燥フラスコに装填する。
27. DMAP(3.2g)を装填する。
28. トリエチルアミン(73.8mL)を添加する。
29. 無水酢酸(37.58mL)を、25〜35℃で15分間にわたってゆっくり添加する。
30. 反応混合物を、25〜35℃で2〜3時間撹拌する。
31. TLCによって完結を確認する(ヘキサン中10%のEtOAc;1%以下(NMT)のステージIIIB生成物)。
32. 反応混合物を水(760mL)で洗浄し、次に、水性層をMTBE(380mL)で抽出し、集めた有機層を飽和ブライン溶液(380mL)で洗浄する。
33. 有機層を、50℃未満での完全常圧蒸留によって、濃縮する。
34. メタノール(152mL)を装填し、真空下に50℃未満で溶媒を完全に除去する。
35. 2%の水性メタノール(304mL)を装填し、60〜65℃に加熱する。
36. 得られた透明溶液を60〜65℃で1時間維持し、次に、15〜20℃にゆっくり冷却し、その温度に2時間維持し、次に、濾過する。
37. 湿潤ケークを、冷却(10〜15℃)の2%水性メタノール(76mL)で洗浄する。
38. 得られた白色固形物を、熱風炉において45〜50℃で、乾燥減量(LOD)が1%以下(NMT)になるまで乾燥させる。
湿潤重量: 約70g
乾燥重量: 55g
収率: 63%
湿分<0.5%
HPLC/RI純度: 95.0%。
01. ジクロロメタン(1000mL)およびステージIII生成物(102g)を装填し、反応素材を0℃に冷却する。
02. メチルアクリレート(61mL)を、0〜5℃で1/2時間にわたって添加する。
03. 0〜5℃で1時間撹拌し、次に、エチルアルミニウムジクロリドの溶液(トルエン中1.8M、496mL)を、0〜5℃で1時間にわたって添加する(注意:この試薬は水と激しく反応する)。
04. 0〜5℃で1/2時間撹拌し、温度を25〜35℃に上げ、16時間撹拌する。
05. TLCによって完結を確認する(ヘキサン中10%のEtOAc;5%以下(NMT)のステージIII生成物)。
06. 反応素材を、氷水(2000mL)に10〜15分間でゆっくり注ぎ、相を分離する。
07. 水性層をDCM(500mL)で抽出する。
08. 有機相を集め、水(1000mL)、続いて飽和バイカーボネート溶液(1000mL)、次にブライン溶液(1000mL)で洗浄する。
09. 有機相を、真空下に50℃未満で濃縮乾固する。これはステージIVA生成物である。
10.残渣をヘキサン(1000mL)に溶解させ、シリカ床ブフナー漏斗に通し、床をヘキサン中10%の酢酸エチル(3000mL)で洗浄する。
11. 全濾液を採集し、真空下に50℃未満で乾燥させる。これはステージIVA生成物である。
12. フラスコから出し、酢酸エチル中の40%メタノール(800mL)で濯ぎ、この濯ぎ液を次の工程用に取っておく。
13. 前記からの酢酸エチル中40%メタノールの濯ぎ液(200mL)中のステージIVA生成物を、乾燥オートクレーブに装填する。
14. 10%パラジウム炭素のスラリー(200mLの酢酸エチル中12g)を装填する。
15. 水素(70psi)で加圧し、混合物を25〜35℃で16時間撹拌する。
16. HPLCによって完結を確認する(1%以下(NMT)のステージIVA生成物)。
17. 反応混合物を、Celite(登録商標)(30g)で濾過し、ケークを酢酸エチル(1000mL)で洗浄する。
18. 60℃未満における真空蒸留によって、濾液を濃縮乾固する。
19. メタノール(200mL)を添加し、60℃未満における真空蒸留によって濃縮乾固する。
20. 3%水性メタノール(300mL)を添加し、0〜5℃で15分間撹拌し、濾過し、ケークを3%水性メタノール(100mL)で洗浄する。
21. 白色固形物を、熱風乾燥機において50〜55℃で、湿分が0.5%以下(NMT)になるまで乾燥させる。
湿潤重量: 約80g
乾燥重量: 60g
収率: 85%
湿分<0.5%
融点範囲: 131.7〜133.1℃
SOR: +57.4(c=CHCl3中1%)
HPLC/RI純度: 93.0%。
01. 酢酸エチル(600mL)およびステージIV生成物(60g)を、清浄乾燥フラスコに装填する。
02. 25〜35℃で10分間撹拌する
03. 水(610mL)中の70%TBHPを、25〜35℃で添加し、次に、0〜5℃に冷却する。
04. 10%次亜硫酸ナトリウム(660mL)を、0〜5℃で7時間にわたって添加する。
05. 反応混合物を、0〜5℃で3時間撹拌する。
06. HPLC−RIによって完結を確認する(ヘキサン中20%のEtOAc;1%以下(NMT)のステージIV生成物)。
07. 有機層を分離し、水性層を酢酸エチル(300mL)で抽出する。
08. 集めた有機層を、水(2x600mL)で洗浄する。
09. 酢酸エチル層および20%水性亜硫酸ナトリウム(600mL)を装填し、55℃で2時間維持する。
10. 有機層を分離し、水(2x600mL)で洗浄する。
11. 有機層をR.B.フラスコに装填し、PCC(32.8g)を25〜30℃で装填する。
12. 反応混合物を、25〜30℃で6〜8時間撹拌する。
13. HPLC−RIによって完結を確認する(ヘキサン中20%のEtOAc;2%以下(NMT)のアリルアルコール)。
14. DM水(1200mL)を装填し、15分間撹拌し、有機層を分離する。
15. 有機層を、DM水(3x600mL)およびブライン溶液(300mL)で洗浄する。
16. 溶媒を、50℃未満での真空蒸留下に、完全に除去する。
17. メタノール(240mL)を添加し、50℃未満での真空蒸留によって、溶媒を完全に除去する。
18. 20%水性メタノール(180mL)を添加し、次に、0〜5℃に冷却する。
19. 0〜5℃で2時間撹拌し、濾過し、ケークを、冷却(0〜5℃)20%水性メタノール(30mL)で洗浄する。
20. 固形物を、熱風乾燥機において50〜55℃で8時間、粗重量約38gに乾燥させる。
21. 粗重量38gのステージV物質を、新しい乾燥RBFに装填する。
22. メタノール383mLを装填する。
23. 反応素材を還流させて、透明溶液を得る。
24. 還流下にDM水を57mL滴下し、還流を30分間継続する(固形物の沈殿が観察される)。
25. 反応素材を、20〜25℃、次に10〜15℃に、ゆっくり冷却し、1時間撹拌する。
26. 濾過し、吸引乾燥し、13%水性メタノール(40mL)で洗浄する。
27. 化合物を、熱風炉において60〜65℃で、LOD(乾燥減量)<0.5%まで乾燥させる。
湿潤重量: 38g
乾燥重量: 32g
収率: 51.6%
融点範囲: 142〜143.1℃
SOR: +102.4(c=アセトン中1%)
HPLC/RI純度: 94.0%。
下記の原材料および溶媒のリストは、前記のプロセスの詳細に基づく。
プロセス改変の間に、下記の工程が臨界パラメーターとして特定され、それらは品質または収率に有意な作用を示しうる。
操作: 窒素雰囲気下における、リチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライド溶液の化合物への−40〜−45℃での添加。
還元剤、リチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドの化学量の調節は、この工程における有利な結果にとって重要である。少なすぎる還元剤を使用した場合、反応が完結しない。多すぎる還元剤を使用した場合は、より多くの副生成物、化合物83が形成される。
化学量の調節は、還元剤が感湿性であるために、より困難である。従って、無水溶媒を使用し、反応を窒素雰囲気下に行うことが重要である。湿分が反応を汚染した場合、いくらかのリチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドがクエンチされる。
強塩基がこの反応に必要とされる。カリウムt−ブトキシドは、充分に強い塩基であり、よく作用する。水に暴露された場合、その塩基はクエンチされ、代わりに水酸化カリウムを形成し、それは所望の反応を生じるのに充分に強い塩基ではない。この理由から、無水溶媒を使用し、この反応を窒素雰囲気下に行うことが重要である。
操作: 窒素雰囲気下における、0〜5℃でのエチルアルミニウムジクロリド溶液の添加。
説明:
エチルアルミニウムジクロリドは、この反応に特に良好な触媒である。他のそれほど高価でない触媒が試されたが、これらを用いた反応はうまくいかない。水がエチルアルミニウムジクロリドと反応し、この反応を触媒するその能力を消失させる。この理由から、この反応に無水溶媒および窒素雰囲気を使用することが重要である。反応が少量の水に暴露された場合でも、反応はうまくいかない。
操作:
次亜塩素酸ナトリウムの添加は、6〜7時間にわたって行うべきであり、温度を5℃未満に調節する必要がある。
5℃より高い温度はこの反応においてあまり良くない結果を生じ、次亜塩素酸ナトリウムの添加の間に温度がこの限度より高くなる可能性がある。従って、適切な温度および時間調節を可能にするのに充分に遅い速度で次亜塩素酸ナトリウムを添加することが重要である。これは、大規模の場合に、さらに大きい問題となりうる。
洗浄手順を規定するために、デオキシコール酸中間体について試験を行った。デオキシコール酸中間体は、ジクロロメタン、それに続いて水およびメタノールに溶けやすいと結論づけられる。
プロセス開発中に多くの不純物が分離され同定され、またはある場合には、疑わしい不純物が独立して合成された。そのような化合物ならびに各化合物に関する入手可能データのリストを、下記の表に示す。
スキーム2に示されている化合物24からのデオキシコール酸の合成の調製プロセスを、大規模調製に適するようにした。該調製プロセスは、安全、経済的であり、環境に優しく、一貫して仕様を満たす高品質最終生成物を生じる。
化合物33の形成を、40グラム規模で行った。10.0g(25wt%)の乾燥10%パラジウム炭素(Pd/C)に、化合物24(40.0g、90.0mmol、HPLCにより98.2%AUC)、次に、600mLの酢酸エチル(EtOAc)を添加した。反応混合物を、60psiの水素(H2)に加圧し、70℃で反応させた。13時間後のHPLC分析により、<1%AUC(HPLCによる)の化合物24が残留し、<1%AUCのアリルアルコールが形成され、14.5%AUCの化合物24 34のジアステレオマーが形成されたことが示された。反応が完結したものとみなし、30〜35℃に冷却し、Celiteで濾過した。CeliteケークをEtOAc(400mL)で洗浄し、得られた濾液を約25ボリュームに濃縮し、さらに操作せずに先に進めた。
下記の分離条件を満たして、化合物33の前記試料の10g部分を、化合物34の形成に進めた。60mLのテトラヒドロフラン(THF)中の化合物33(10.0g、22.4mmol)の溶液に、4〜6℃で、THF中の33.6mL(1.5当量、Aldrich ロット#00419TH)の1M リチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライド(Li(t−BuO)3AlH)を添加し、その間、温度を6℃未満に維持した。18時間後のHPLC分析により、<1%AUCの化合物33が残留し、5.5%AUCの化合物34のジアステレオマーが形成されていることが示された。反応が完結したものとみなし、温度を20℃未満に維持しながら4M HCl(150mL)でクエンチした。反応混合物をヘプタン(2x100mL)で抽出した。集めた有機相を、1M HCl(100mL)およびDI水(2x100mL)で洗浄した。透明溶液を蒸留して約10ボリュームにし、ヘプタン(2x100mL)と共に共沸させて約10ボリュームにした。いくらかのスケール付着が観察され、試料をヘプタン(100mL)およびMTBE(2.5mL)で希釈した。次に、試料を70〜75℃で加熱して溶解させ、1時間にわたって約52℃に徐々に冷まし、その際、固形物が沈殿した。希薄スラリーを52℃で1時間、48℃で1時間、および42℃で1時間維持し、次に、加熱を止め、スラリーを20〜25℃に一晩ゆっくり冷ました。スラリーを濾過し、ヘプタン(2x25mL)で洗浄し、35〜45℃で真空乾燥して、6.8g(68%)の化合物34(96.0%AUC;2.8%AUCの化合物34のジアステレオマーを含有)を、白色固形物として得た。濾過後に、いくらかのスケール付着がフラスコにおいて観察された。固形物をCH2Cl2に溶解させ、濃縮して、1.3g(13%)の化合物34(96.5%AUC:1.9%AUCの化合物34のジアステレオマーを含有)を得た。母液および洗浄液を濃縮して、1.6g(16%)の化合物34を得た。
水性DCA−粗(340mL)の試料を、2−MeTHF(2x340mL)で洗浄した。水性相をHPLCによって分析したところ、0.1%AUCの不明不純物(RRT=1.12を有する)が示された。水性相を、2−MeTHF(340mL)で希釈し、4M HCl(60mL)を使用してpH=1.7〜2.0に調節した。相を分離し、2−MeTHF相をDI水(2x400mL)で洗浄した。2−MeTHF相を、約5ボリュームに濃縮し、ヘプタン(3x320mL)と共に共沸させて、約5ボリュームに戻した。5ボリュームスラリーを、1H NMRによって分析したところ、ヘプタンに対して2.0mol%の2−MeTHFが残留していることが示された。スラリーをヘプタン(320mL)で希釈し、20〜25℃で1時間維持した。スラリーを濾過し、ヘプタン(2x150mL)で洗浄し、35〜45℃で真空乾燥して、24.2g(96%)のDCA−粗を得た(95.7%AUC;0.4%AUCのDCA−粗のジアステレオマー、1.8%AUCの不明不純物(RRT=0.5)、および0.04%AUCの不明不純物(RRT=1.12)を含有)。
DCA−粗の一連のスラリー精製を、2.0gにおいて試験し、純度および回収率の評価を行った。DCA−粗の試料(2.0g、5.1mmol)を、25ボリュームのMeOH/CH2Cl2(表1参照)で希釈し、得られたスラリーを特定温度(表1参照)で1時間維持した。スラリーを特定温度(表1参照)に冷まし、濾過した。濾過ケークをCH2Cl2(2x3vol)で洗浄し、35〜40℃で一晩真空乾燥させて、DCA(表1参照)を得た。結果を下記の表1に要約する。
(項目1) 化合物2および3および必要に応じて1:
Pgはヒドロキシル保護基であり、
Rは水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり、
R1は胆汁酸の17−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで該側鎖のカルボキシル官能基はC1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され、そして
R2は水素であるか、あるいは
R1およびR2はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成し;そして
R3、R4およびR5はそれぞれ独立にC1−C3アルキルである]
に変換するプロセスであって;
該プロセスが、
先ず、該混合物を水素化条件下で反応させる工程;および
次に、該工程によって形成された生成物を、酸化条件下で反応させる工程;
を含むプロセス。
(項目2) 前記混合物が2、3および1を含む、項目1に記載のプロセス。
(項目3) R1およびR2が、それらに結合している炭素原子と一緒になって、
を形成する、項目1に記載のプロセス。
(項目4) R1が、胆汁酸の17−側鎖であり、該胆汁酸が、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される、項目1に記載のプロセス。
(項目5) 前記側鎖のカルボキシル官能基が、C1−C6アルキル基でエステル化されている、項目1または4に記載のプロセス。
(項目6) R2が水素であり、R1が、
から成る群から選択される、項目1に記載のプロセス。
(項目7) 前記水素化条件が、化合物の前記混合物を、白金、パラジウム、ロジウムおよび/またはルテニウムを含む白金族金属触媒に接触させる工程を含む、項目1に記載のプロセス。
(項目8) 前記触媒がPd/CまたはPtO2である、項目7に記載のプロセス。
(項目9) 前記酸化条件が、EtOAc中のピリジニウムクロロクロメート(PCC)の使用を含む、項目1に記載のプロセス。
(項目10) 化合物39を還元して、化合物40:
(項目11) 12−ケト化合物3:
Pgはヒドロキシル保護基であり、
Rは水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり、
R1は胆汁酸の17−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで該側鎖のカルボキシル官能基はC1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され、そして
R2は水素であり、または
R1およびR2はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成する]
から調製するプロセスであって;
該プロセスが、
補助酸化剤の存在下、式(R3)(R4)(R5)C−O−OH[ここで、R3、R4およびR5はそれぞれ独立にC1−C3アルキルである]のアルキルヒドロペルオキシドとの反応によって、化合物4の12位においてアリル酸化を行って、化合物1、2および3:
必要に応じて、化合物2をさらに酸化して、Δ−9,11−エン−12−オン化合物3を得る工程;
を含むプロセス。
(項目12) 11−β−ヒドロキシステロイドを、対応する12−ケトステロイドに変換するプロセスであって、該プロセスは:
a) 適切に保護された11−β−ヒドロキシステロイドを選択する工程;
b) 該11−β−ヒドロキシステロイドを脱水して、該ステロイド中にΔ−9,11−エン官能基を与える工程;
c) 補助酸化剤の存在下、該b)のステロイド生成物をアルキルヒドロペルオキシドと反応させることによって、12位におけるアリル酸化を行う工程;および
d) Δ−9,11−エン官能基を水素化して、9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−ケトステロイドを得る工程;および
e) 必要に応じて、該d)で生成された9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−ケトステロイドの12−ケト官能基を、有効量の還元剤で還元して、9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−α−ヒドロキシステロイドを得る工程
を含む、プロセス。
(項目13) 前記11−β−ヒドロキシステロイドが、対応する11−ケトステロイドを少なくとも化学論量の還元剤で還元して11−β−ヒドロキシステロイドを得ることによって調製される、項目12に記載のプロセス。
(項目14) 前記11−β−ヒドロキシステロイドが、ヒドロコルチゾンまたはヒドロコルチゾン誘導体である、項目12に記載のプロセス。
(項目15) 前記アリル酸化が、1当量または1当量より多い当量のt−ブチルヒドロペルオキシドによってCuIの存在下で行われる、項目11および12のいずれか一項に記載のプロセス。
(項目16) 前記補助酸化剤が、水性次亜塩素酸ナトリウム、パラジウム炭素、Pd(OCOCF3)2、Pd(OAc)2およびCuIから成る群から選択される、項目11および12のいずれか一項に記載のプロセス。
(項目17) 式1の化合物:
Pgは、ヒドロキシル保護基であり;
Rは、水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり;
R1は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の17−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、C1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され;
R2は、水素であり;または
R1およびR2は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し;
R3、R4およびR5はそれぞれ独立に、C1−C3アルキルである]。
(項目18) 式2の化合物が、化合物42、43、44、45および46:
(項目19) 式5の化合物:
Pgは、ヒドロキシル保護基であり;
Rは、水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり;
R1は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の17−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、C1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され;
R2は、水素であり;または
R1およびR2は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し;
R3、R4およびR5はそれぞれ独立に、C1−C3アルキルである]。
(項目20) 式5の化合物が、化合物48、49、50、51および52:
(項目21) 式6の化合物:
Pgは、ヒドロキシル保護基であり;
Rは、水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり;
R1は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の17−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、C1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され;
R2は、水素であり;または
R1およびR2は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成する]。
(項目22) 式6の化合物が、化合物48a、49a、50a、51aおよび52a:
(項目23) R1が、
から成る群から選択される、項目17、19または21のいずれか一項に記載の化合物。
(項目24) R1およびR2が、それらに結合している炭素原子と一緒になってケト基を形成する、項目17、19または21のいずれか一項に記載の化合物。
(項目25) R1およびR2が、それらに結合している炭素原子と一緒になって、
を形成する、項目17、19または21のいずれか一項に記載の化合物。
(項目26) 化合物12:
を、脱水条件下で接触させて、化合物12を得る工程を含む方法。
(項目27) 前記脱水条件が、塩化チオニルおよびピリジンを含む、項目26に記載の方法。
(項目28) 化合物13が、化合物17:
(項目29) 化合物17が、化合物16:
(項目30) 前記ビシナルアルコール酸化剤がNaIO4である、項目29に記載の方法。
(項目31) 化合物16が、化合物15:
(項目32) 前記還元剤がNaBH4を含む、項目31に記載の方法。
(項目33) 化合物15が、ヒドロコルチゾン:
(項目34) 前記水素化条件が、Pd/Cを触媒として含み、DMFを溶媒として含む、項目33に記載の方法。
(項目35) 式14の化合物:
a) ヒドロコルチゾン:
化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、式13の化合物:
を得る工程;
e) 式13の化合物を、脱水条件下で接触させて、式12の化合物;
f) ヒドロキシル保護基を除去して、化合物14を得る工程
を含む、方法。
(項目36) 式18の化合物:
a) ヒドロコルチゾン:
化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物13:
を得る工程;
e) 式13の化合物を、脱水条件下で接触させて、化合物12;
f) 化合物12を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物18:
を含む、方法。
(項目37) デオキシコール酸またはその塩を調製する方法であって:
a) ヒドロコルチゾン:
化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物13:
を得る工程;
e) 化合物13を、脱水条件下で接触させて、化合物12;
f) 化合物12を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物18:
g) 化合物18を、ルイス酸の存在下に、アルキルプロピオレートCH≡CC(O)ORまたはアルキルアクリレートCH2=CHC(O)OR[ここでRはアルキルである]と反応させて、化合物19:
を形成する工程;
h) 式19の化合物を、水素化条件下で、H2と反応させて、化合物20:
i) 化合物20を酸化剤と反応させて、化合物21:
j) 化合物21を、水素化条件下で、H2と反応させて、化合物22:
k) 化合物22を還元剤と反応させて、化合物23:
l) 化合物23を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する工程
を含む、方法。
(項目38) 化合物24:
a) 化合物25:
b) 化合物26を、硫酸の存在下に、水が除去される条件下で脱水して、化合物27:
c) 化合物27を、−40℃〜−45℃の温度を包含する選択的還元条件下で、過剰のリチウムトリ−t−ブトキシアルミニウムハイドライドに接触させて、化合物28:
d) 化合物28を、ウィッティヒ反応条件下で、過剰のエチルトリアリールホスホニウムハライドに接触させて、化合物29:
e) 化合物29の
f) 化合物30を、アルキル化条件下で、過剰のC1−C2アルキルアルミニウムジクロリドの存在下で、過剰のメチルアクリレートに接触させて、化合物31:
g) 化合物31を、高圧に維持されたオートクレーブを包含する水素化条件下で、不活性溶媒中で、水素、ならびに白金および乾燥パラジウム炭素から成る群から選択される水素化触媒に接触させて、化合物32:
h) 不活性溶媒に溶解させた化合物32を、酸化条件下、第一酸化剤としての過剰のC4−C6t−アルキルヒドロペルオキシドおよび補助酸化剤としての過剰のNaOClを包含する補助酸化条件下で接触させ、必要に応じて、それに続いて、わずかに過剰のピリジニウムクロロクロメートでさらに酸化して、化合物24:
i) 必要に応じて、化合物24をメタノールで洗浄する工程
を含む、方法。
(項目39) 項目38に記載の方法であって:
工程a)が、アセトンを溶媒として含み;
工程b)が、ジクロロメタンを溶媒として含み;
工程c)が、不活性雰囲気において、無水テトラヒドロフランを溶媒として含み;
工程d)のウィッティヒ反応条件が、不活性雰囲気において、溶媒としての無水テトラヒドロフラン中に、カリウムt−ブトキシドを含み;
工程e)が、トリエチルアミンおよび4−ジメチルアミノピリジンを含み;
工程f)のC1−C2アルキルアルミニウムジクロリドが、0〜5℃で、不活性雰囲気中、溶媒としての無水ジクロロメタン中に、エチルアルミニウムジクロリドを含み;
工程g)の水素化触媒が、溶媒としての酢酸エチル中に、乾燥パラジウム炭素を含み;そして、
工程h)のC4−C6t−アルキルヒドロペルオキシドが、5℃未満の温度において、溶媒としての水中に、t−ブチルヒドロペルオキシドを含む、方法。
(項目40) デオキシコール酸またはその塩を調製する方法であって、下記:
a) 化合物24:
b) 化合物33を、還元条件下で、リチウムトリ−t−アルコキシアルミニウムハイドライドと反応させて、化合物34:
c) 化合物34を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する工程
を含む、方法。
(項目41) 化合物30:
(項目42) 化合物25:
(項目43) 96%より高い純度を有するデオキシコール酸(DCA)、またはその塩を調製する方法であって:
(a) DCA溶液を形成する条件下、約95%以下の純度を有するDCAを、ジクロロメタンを含む溶媒に接触させる工程;
(b) 工程(a)で得たDCA溶液からDCAを結晶化して、結晶性DCAを含有する溶液を得る工程;および
(c) 96%より高い純度を有する結晶性DCAを回収する工程
を含む、方法。
(項目44) 前記溶媒がメタノールをさらに含む、項目43に記載の方法。
(項目45) ジクロロメタン/メタノールの比率が、約100:1〜約3:1である、項目44に記載の方法。
(項目46) 溶媒/DCAの比率が、約40:1〜約10:1である、項目43に記載の方法。
(項目47) 前記接触が還流条件下での接触である、項目43に記載の方法。
(項目48) 工程(c)において充分量のジクロロメタンを除去することによって、DCAが結晶化される、項目43に記載の方法。
(項目49) 前記溶媒の一部を除去し、前記溶液の温度を下げることによって、前記DCAが結晶化される、項目43に記載の方法。
(項目50) 前記結晶化されたDCAを濾過によって回収する、項目43に記載の方法。
(項目51) 前記DCAを、薬学的に許容されうる塩に変換する工程をさらに含む、項目43に記載の方法。
(項目52) 前記純度が少なくとも99%である、項目43に記載の方法。
(項目53) 96%より高い純度を有するデオキシコール酸(DCA)を調製する方法であって:
(a) DCA溶液を形成する条件下で、約95%以下の純度を有するDCAを、ジクロロメタンおよびメタノールを含む溶媒に接触させる工程;
(b) 工程(1)で得たDCA溶液からDCAを結晶化して、結晶性DCAを含有する溶液を得る工程;および
(c) 該結晶性DCAを回収し、回収した該結晶性DCAに96%より高い純度を与えるのに充分な量のジクロロメタンを除去する工程
を含む、方法。
(項目54) ジクロロメタン/メタノールの比率が、約100:1〜約3:1である、項目53に記載の方法。
(項目55) 溶媒/DCAの比率が、約40:1〜約10:1である、項目53に記載の方法。
(項目56) 前記接触が還流条件下での接触である、項目53に記載の方法。
(項目57) 前記溶媒の一部を除去し、前記溶液の温度を下げることによって、前記DCAが結晶化される、項目53に記載の方法。
(項目58) 前記結晶化されたDCAを濾過によって回収する、項目53に記載の方法。
(項目59) 前記DCAを、薬学的に許容されうる塩に変換する工程をさらに含む、項目53に記載の方法。
(項目60) 前記純度が少なくとも99%である、項目53に記載の方法。
(項目61) 少なくとも99%の純度を有する完全合成デオキシコール酸(DCA)または薬学的に許容されうるその塩。
(項目62) 少なくとも99%の純度を有するDCA、または薬学的に許容されうるその塩、ならびに薬学的に許容されうる賦形剤を含む、組成物。
(項目63) 局所的脂肪の非外科的除去用の組成物であって、該組成物が、少なくとも99%の純度を有するDCAまたは薬学的に許容されうるその塩から本質的になり、該DCAが、該組成物の本質的に単独の脂肪除去成分である、組成物。
(項目64) DCAおよび溶媒を含む組成物であって、該溶媒がメタノールを含むか、または含まないジクロロメタンを含み、溶媒に対するDCAの濃度が40:1〜約10:1である、組成物。
Claims (22)
- 12−ケト化合物3:
Pgはヒドロキシル保護基であり、
Rは水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり、
R1は胆汁酸の17−側鎖であり、該胆汁酸はコール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択され、ここで該側鎖のカルボキシル官能基はC1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され、そして
R2は水素であり、または
R1およびR2はそれらに結合している炭素原子と一緒になってケト基またはケト保護基を形成する]
から調製するプロセスであって;
該プロセスが、
補助酸化剤の存在下、式(R3)(R4)(R5)C−O−OH[ここで、R3、R4およびR5はそれぞれ独立にC1−C3アルキルである]のアルキルヒドロペルオキシドとの反応によって、化合物4の12位においてアリル酸化を行って、化合物1、2および3:
必要に応じて、化合物2をさらに酸化して、Δ−9,11−エン−12−オン化合物3を得る工程;
を含むプロセス。 - 11−β−ヒドロキシステロイドを、対応する12−ケトステロイドに変換するプロセスであって、該プロセスは:
a) 適切に保護された11−β−ヒドロキシステロイドを選択する工程;
b) 該11−β−ヒドロキシステロイドを脱水して、該ステロイド中にΔ−9,11−エン官能基を与える工程;
c) 補助酸化剤の存在下、該b)のステロイド生成物をアルキルヒドロペルオキシドと反応させることによって、12位におけるアリル酸化を行う工程;および
d) Δ−9,11−エン官能基を水素化して、9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−ケトステロイドを得る工程;および
e) 必要に応じて、該d)で生成された9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−ケトステロイドの12−ケト官能基を、有効量の還元剤で還元して、9−α−ヒドロ−11−ジヒドロ−12−α−ヒドロキシステロイドを得る工程
を含む、プロセス。 - 前記11−β−ヒドロキシステロイドが、対応する11−ケトステロイドを少なくとも化学論量の還元剤で還元して11−β−ヒドロキシステロイドを得ることによって調製される、請求項2に記載のプロセス。
- 前記11−β−ヒドロキシステロイドが、ヒドロコルチゾンまたはヒドロコルチゾン誘導体である、請求項2に記載のプロセス。
- 前記アリル酸化が、1当量または1当量より多い当量のt−ブチルヒドロペルオキシドによってCuIの存在下で行われる、請求項1および2のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記補助酸化剤が、水性次亜塩素酸ナトリウム、パラジウム炭素、Pd(OCOCF3)2、Pd(OAc)2およびCuIから成る群から選択される、請求項1および2のいずれか一項に記載のプロセス。
- 式1の化合物:
Pgは、ヒドロキシル保護基であり;
Rは、水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり;
R1は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の17−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、C1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され;
R2は、水素であり;または
R1およびR2は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し;
R3、R4およびR5はそれぞれ独立に、C1−C3アルキルである]。 - 式2の化合物が、化合物42、43、44、45および46:
- 式5の化合物:
Pgは、ヒドロキシル保護基であり;
Rは、水素、ヒドロキシルまたは−OPgであり;
R1は、コール酸、デオキシコール酸、タウロコール酸およびグリココール酸から成る群から選択される胆汁酸の17−側鎖であり、ここで、該側鎖のカルボキシル官能基は、C1−C6アルキル基で必要に応じてエステル化され;
R2は、水素であり;または
R1およびR2は、それらに結合している炭素原子と一緒になって、ケト基またはケト保護基を形成し;
R3、R4およびR5はそれぞれ独立に、C1−C3アルキルである]。 - 式5の化合物が、化合物48、49、50、51および52:
- R1が、
から成る群から選択される、請求項7または9のいずれか一項に記載の化合物。 - R1およびR2が、それらに結合している炭素原子と一緒になってケト基を形成する、請求項7または9のいずれか一項に記載の化合物。
- R1およびR2が、それらに結合している炭素原子と一緒になって、
を形成する、請求項7または9のいずれか一項に記載の化合物。 - 化合物12:
を、脱水条件下で接触させて、化合物12を得る工程を含み、ここで、化合物13は、化合物17:
- 前記ビシナルアルコール酸化剤がNaIO4である、請求項14に記載の方法。
- 化合物16が、化合物15:
- 前記還元剤がNaBH4を含む、請求項16に記載の方法。
- 化合物15が、ヒドロコルチゾン:
- 前記水素化条件が、Pd/Cを触媒として含み、DMFを溶媒として含む、請求項18に記載の方法。
- 式14の化合物:
a) ヒドロコルチゾン:
化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、式13の化合物:
を得る工程;
e) 式13の化合物を、脱水条件下で接触させて、式12の化合物;
f) ヒドロキシル保護基を除去して、化合物14を得る工程
を含む、方法。 - 式18の化合物:
a) ヒドロコルチゾン:
化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物13:
を得る工程;
e) 式13の化合物を、脱水条件下で接触させて、化合物12;
f) 化合物12を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物18:
を含む、方法。 - デオキシコール酸またはその塩を調製する方法であって:
a) ヒドロコルチゾン:
化合物15を、カルボニル基がアルコール基に還元される条件下で、少なくとも2当量の還元剤に接触させて、化合物16:
c) 化合物16を、酸化条件下で、ビシナルアルコール酸化剤に接触させて、化合物17:
d) 化合物17の3−ヒドロキシル基を選択的に保護して、化合物13:
を得る工程;
e) 化合物13を、脱水条件下で接触させて、化合物12;
f) 化合物12を、オレフィン形成条件下で変換して、化合物18:
g) 化合物18を、ルイス酸の存在下に、アルキルプロピオレートCH≡CC(O)ORまたはアルキルアクリレートCH2=CHC(O)OR[ここでRはアルキルである]と反応させて、化合物19:
を形成する工程;
h) 式19の化合物を、水素化条件下で、H2と反応させて、化合物20:
i) 化合物20を酸化剤と反応させて、化合物21:
j) 化合物21を、水素化条件下で、H2と反応させて、化合物22:
k) 化合物22を還元剤と反応させて、化合物23:
l) 化合物23を、脱保護および加水分解条件に暴露して、デオキシコール酸またはその塩を形成する工程
を含む、方法。
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