JP2013514246A5

JP2013514246A5 -

Info

Publication number: JP2013514246A5
Application number: JP2012543576A
Authority: JP
Filing date: 2010-11-25
Publication date: 2014-10-30
Anticipated expiration: 2030-11-25

Description

使用されるインジウム−ハロゲン−アルコキシドがＩｎＣｌ（ＯＭｅ）₂、ＩｎＣｌ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃）₂、ＩｎＣｌ（ＯＥｔ）₂、ＩｎＣｌ（ＯｉＰｒ）₂またはＩｎＣｌ（ＯｔＢｕ）₂である場合には、最善の結果が達成される。

比較例（前駆体としてのインジウムアルコキシド）
約１５ｍｍの辺の長さおよび約２００ｎｍの厚さの酸化ケイ素被覆およびＩＴＯ／金からなるフィンガー構造を有するドープされたシリコン基体上に、エタノール中のＩｎ（ＯｉＰｒ） ₃の２．５質量％溶液１００μｌを施した。次に、回転塗布を２０００ｒｐｍで行う（５秒）。被覆された基体に、前記の被覆工程の直後に５分間、水銀蒸気灯に由来するＵＶ線を１５０〜３００ｎｍの波長範囲で照射する。引続き、この基体を１時間、ホットプレート上で３５０℃の温度で加熱する。変換後、グローブボックス中で、３０Ｖ_DSで電界効果移動度μ_FET＝２．２ｃｍ²／Ｖｓの値を測定することができる。

Claims

非水性溶液から酸化インジウム含有層を形成させるための液相法において、
Ｒがアルキル基および／またはアルコキシアルキル基であり、かつＸがＦ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである一般式ＩｎＸ（ＯＲ）₂の少なくとも１つのインジウム−ハロゲン−アルコキシドおよび少なくとも１つの溶剤または分散媒体を含有する無水組成物を、項目ａ）〜ｄ）の順序で無水雰囲気中で、
ａ）基体上に施し、
ｂ）基体上に施された組成物に３６０ｎｍ以下の波長の電磁線を照射し、および
ｄ）酸化インジウム含有層に熱的に変換することを特徴とする、非水性溶液から酸化インジウム含有層を形成させるための液相法。
前記無水組成物を、項目ａ）〜ｄ）の順序で無水雰囲気中で、
ａ）基体上に施し、
ｂ）基体上に施された組成物に３６０ｎｍ以下の波長の電磁線を照射し、および
ｃ）乾燥し、次に
ｄ）酸化インジウム含有層に熱的に変換することを特徴とする、請求項１記載の方法。
少なくとも１つのインジウム−ハロゲン−アルコキシドのアルキル基またはアルコキシアルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１５アルコキシ基またはアルコキシアルキル基である、請求項１または２に記載の方法。
インジウム−ハロゲン−アルコキシドは、ＩｎＣｌ（ＯＭｅ）₂、ＩｎＣｌ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃）₂、ＩｎＣｌ（ＯＥｔ）₂、ＩｎＣｌ（ＯｉＰｒ）₂またはＩｎＣｌ（ＯｔＢｕ）₂である、請求項３記載の方法。
無水組成物は、インジウム−ハロゲン−アルコキシドと共に、別の前駆体を溶解または分散して有する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
前記別の前駆体が、別の元素のアルコキシドまたは別の元素のハロゲン−アルコキシドである、請求項５記載の方法。
前記別の前駆体が、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｐ、ＺｎもしくはＳｂのアルコキシドまたはハロゲン−アルコキシドである、請求項５または６に記載の方法。
インジウム−ハロゲン−アルコキシドＩｎＸ（ＯＲ）₂を前記組成物の全質量に対して０．１〜１０質量％の割合で使用する、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
溶剤または分散媒体は、非プロトン性または弱プロトン性溶剤または分散媒体であり、前記弱プロトン性溶剤は、アルコール、第一級アミン、第二級アミンまたはホルムアミドから選択される、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
少なくとも１つの溶剤または分散媒体は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフルフリルアルコール、第三ブタノール、ブチルアセテート、メトキシエタノールまたはトルエンである、請求項９記載の方法。
少なくとも１つの溶剤または分散媒体は、前記組成物の全質量に対して９０〜９９．９質量％の割合で存在する、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の方法。
前記組成物は、１ｍＰａ・ｓ〜１０Ｐａ・ｓの粘度を有する、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の方法。
基体は、ガラス、シリコン、二酸化ケイ素、金属酸化物、金属またはポリマー材料から構成される、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の方法。
前記金属酸化物が、遷移金属酸化物である、請求項１３記載の方法。
無水組成物を基体上に印刷法、噴霧法、回転被覆法、浸漬法、またはメニスカスコーティング法、スリットコーティング法、スロットダイコーティング法およびカーテンコーティング法からなる群から選択された方法により施す、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の方法。
施与を連続的インキジェット印刷法、熱的インキジェット印刷法またはピエゾ−インキジェット印刷法から選択されたインキジェット印刷法により行う、請求項１５記載の方法。
無水組成物を１５０〜３００ｎｍの波長の電磁線で照射する、請求項１から１６までのいずれか１項に記載の方法。
変換を熱的に１５０℃を上廻る温度によって行う、請求項１から１７までのいずれか１項に記載の方法。
熱処理の前、中または後にＵＶ線、ＩＲ線またはＶＩＳ線を照射する、請求項１から１８までのいずれか１項に記載の方法。
請求項１から１９までのいずれか１項に記載の方法により形成可能な酸化インジウム含有層。
電子構成部品のための導電性層または半導体層の形成のための請求項２０記載の少なくとも１つの酸化インジウム含有層の使用。