JPS59198607A - 保護膜を備えた透明導電膜 - Google Patents
保護膜を備えた透明導電膜Info
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- JPS59198607A JPS59198607A JP58072924A JP7292483A JPS59198607A JP S59198607 A JPS59198607 A JP S59198607A JP 58072924 A JP58072924 A JP 58072924A JP 7292483 A JP7292483 A JP 7292483A JP S59198607 A JPS59198607 A JP S59198607A
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- Japan
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- transparent conductive
- film
- conductive film
- transparent
- protective
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- Pending
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- Laminated Bodies (AREA)
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- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、保護膜を備えた透明導電膜に関する。
ガラス等からなる基体上に設けられる透明導電膜は、静
電気の帯電防止などを目的として、また液晶表示素子や
エレクトロルミネッセンスなどの透明電極として、さら
に、自動車、航空機、建造物等の窓ガラス等の防霜・防
曇膜として広く使用されている。
電気の帯電防止などを目的として、また液晶表示素子や
エレクトロルミネッセンスなどの透明電極として、さら
に、自動車、航空機、建造物等の窓ガラス等の防霜・防
曇膜として広く使用されている。
このような透明導電膜としては、酸化スズ、酸化スズ−
酸化アンチモン又は酸化インジウム−酸化スズからなる
もの等が知られている。その製法としては、真空蒸着法
、スパッタリング、ＣＶＤ法を利用するものがある。ま
た、これらの方法はいずれも原料利用率が低く、製造装
置が高価で量産に適しないため、別の方法も提案されて
いる。
酸化アンチモン又は酸化インジウム−酸化スズからなる
もの等が知られている。その製法としては、真空蒸着法
、スパッタリング、ＣＶＤ法を利用するものがある。ま
た、これらの方法はいずれも原料利用率が低く、製造装
置が高価で量産に適しないため、別の方法も提案されて
いる。
そのひとつに、適当なスズ化合物、アンチモン化合物、
インジウム化合物等を適当な溶剤に溶かして塗布液を作
シ、該塗布液を基体表面に塗布後。
インジウム化合物等を適当な溶剤に溶かして塗布液を作
シ、該塗布液を基体表面に塗布後。
乾燥、焼成する塗布法がある。例えば、酸化スズや酸化
スズ−酸化アンチモンの導電膜に関しては。
スズ−酸化アンチモンの導電膜に関しては。
米国特許第２，１１８，７９５号、特開昭５５−１０４
６６号彦とに記載されている。また、酸化インジウム−
酸化スズに関しては特開昭５５−６９９０４号。
６６号彦とに記載されている。また、酸化インジウム−
酸化スズに関しては特開昭５５−６９９０４号。
特開昭５４−１５０４１７号に記載されている。
また２本件出願人が本願とともに出願する他の特許出願
による方法もこの塗布法に属するものである。ヒトつは
、スズ化合物としてアルコキシスズクロライドを用い、
アンチモン化合物と、適当な有機溶剤と少量の水に溶か
して塗布液を調製する。
による方法もこの塗布法に属するものである。ヒトつは
、スズ化合物としてアルコキシスズクロライドを用い、
アンチモン化合物と、適当な有機溶剤と少量の水に溶か
して塗布液を調製する。
他のひとつはインジウム化合物としてアルコキシインジ
ウムクロライドを用い、スズ化合物とともに、適当な有
機溶剤と少量の水に溶かして塗布液を調製するものであ
る。これら本願出願１人による二つの塗布液は、安定性
が高く□、保存寿命が長い点で特に従来のものより優れ
ている。
ウムクロライドを用い、スズ化合物とともに、適当な有
機溶剤と少量の水に溶かして塗布液を調製するものであ
る。これら本願出願１人による二つの塗布液は、安定性
が高く□、保存寿命が長い点で特に従来のものより優れ
ている。
このように、透明導電膜の形成法としては種々の方法が
知られ、又は提案されているが、用途によっては膜強度
が不十分であったり、得られる膜表面が平滑でないため
に光の散乱によシ透明性が低下する場合もあった。特に
、塗布法で膜を形成した場合には、塗布の方法によって
表面の平滑な膜を得ることが容易でないことがあった。
知られ、又は提案されているが、用途によっては膜強度
が不十分であったり、得られる膜表面が平滑でないため
に光の散乱によシ透明性が低下する場合もあった。特に
、塗布法で膜を形成した場合には、塗布の方法によって
表面の平滑な膜を得ることが容易でないことがあった。
そこで２本発明の目的は、透明導電膜の膜強度を向上さ
せ、透明性を改良した透明導電膜の提供にある。
せ、透明性を改良した透明導電膜の提供にある。
本発明者らは、導電層の上に極く薄い保護膜を形成する
ことにより、導電層による帯電防止効果等を損なうこと
なく上記課題を解決し得ることを見出した。
ことにより、導電層による帯電防止効果等を損なうこと
なく上記課題を解決し得ることを見出した。
即ち２本発明によシ提供される導電膜は、基体表面に形
成された透明導電膜であって、基体表面上に設けられた
透明導電層と、該導電層の上に被覆された透明保護層と
からなる透明導電膜である。
成された透明導電膜であって、基体表面上に設けられた
透明導電層と、該導電層の上に被覆された透明保護層と
からなる透明導電膜である。
本発明における透明保護層は、各種の塗料を用いて形成
できる。乾燥後透明になるものであれば水性でも油性で
もよい。使用できる塗料を例示すると、ポリエステル、
ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリ
ル、エポキシ、シリコーンの樹脂系のようなものがあげ
られる。膜強度を特に高めたい場合には、アクリル−メ
ラミン樹脂系塗料を使用すればよく２表面摩擦係数を小
さくした場合にはシリコーン系塗料を使用すればよい。
できる。乾燥後透明になるものであれば水性でも油性で
もよい。使用できる塗料を例示すると、ポリエステル、
ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリ
ル、エポキシ、シリコーンの樹脂系のようなものがあげ
られる。膜強度を特に高めたい場合には、アクリル−メ
ラミン樹脂系塗料を使用すればよく２表面摩擦係数を小
さくした場合にはシリコーン系塗料を使用すればよい。
また、採機膜形成用塗料は、その透明性や塗膜の強度を
害しない限シ２着色のため顔料、染料等の添加物が分散
されてもよい。
害しない限シ２着色のため顔料、染料等の添加物が分散
されてもよい。
このようにして形成される保護膜は一般に電気絶縁性で
あるが、その膜厚が数十μｍ以下、好ましくは２０μｍ
以下であれば、その下地である導電層の機能を損わない
ことがわかった。即ち、保゛譚層にも帯電防止効果が及
ぶのである。例えばポリエステル樹脂系保護層は、数十
μｍの厚さまで透明性はほとんど減じないが２表面抵抗
は厚みとともに増加し、膜厚２０μｍを越えると１００
７口以上となる。このことは保護層の厚さを適当な薄さ
に調整することによシ透明４電膜本体の機能を損わない
で、膜強度の向上と透明性の改善を達成できることを甘
味する。
あるが、その膜厚が数十μｍ以下、好ましくは２０μｍ
以下であれば、その下地である導電層の機能を損わない
ことがわかった。即ち、保゛譚層にも帯電防止効果が及
ぶのである。例えばポリエステル樹脂系保護層は、数十
μｍの厚さまで透明性はほとんど減じないが２表面抵抗
は厚みとともに増加し、膜厚２０μｍを越えると１００
７口以上となる。このことは保護層の厚さを適当な薄さ
に調整することによシ透明４電膜本体の機能を損わない
で、膜強度の向上と透明性の改善を達成できることを甘
味する。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
ＳｎＣＡ２（ＯＣ２Ｈ５）２１０ ｊｉ’と８ｂ（ＯＣ
２Ｈ５）３０．５ ｙ−を酢ばエチル１００１ｄに溶か
し塗布液を調整した。
２Ｈ５）３０．５ ｙ−を酢ばエチル１００１ｄに溶か
し塗布液を調整した。
これにソーダライムガラスプレートを浸漬し引き上げ、
大気中にて６０分間放置し、１００℃で１５分間乾燥後
、５００℃で′５０分間加熱した。
大気中にて６０分間放置し、１００℃で１５分間乾燥後
、５００℃で′５０分間加熱した。
透明な導電膜が得られた。表面抵抗は１． ＯＸ １０
５Ω／口であった。接着強度は２９０ｊ？／２５ｍ１ｌ
巾（ＪＩＳ、ｐ８（１３の方法に基づき測定）であった
。これにポリエステル樹脂１５％含有のフェノをワイヤ
ーバーで６μｍの厚さに塗布した。接着強度は１２２０
ノ／ ２５ ｒｉｍ巾と著しく向上した。
５Ω／口であった。接着強度は２９０ｊ？／２５ｍ１ｌ
巾（ＪＩＳ、ｐ８（１３の方法に基づき測定）であった
。これにポリエステル樹脂１５％含有のフェノをワイヤ
ーバーで６μｍの厚さに塗布した。接着強度は１２２０
ノ／ ２５ ｒｉｍ巾と著しく向上した。
表面抵抗は５．２Ｘ１０５Ω／口であった。
実施例２
実施例１と同一の透明導電膜に、信越シリコーン（株）
製シリコーン樹脂塗料ｒＫＳ−７７２Ｊを厚さ５μｍ塗
布した。表面抵抗は２．４Ｘ１０５Ω／口であった。
製シリコーン樹脂塗料ｒＫＳ−７７２Ｊを厚さ５μｍ塗
布した。表面抵抗は２．４Ｘ１０５Ω／口であった。
実施例６
ＩｎＣＡ（ＯＣ３Ｈ７）２１０ ｊｉ”と５ｎ（ＯＣ２
Ｈ５）４１．３ ！ｆを酢酸エチル１００ゴに溶かし塗
布液を調整した。
Ｈ５）４１．３ ！ｆを酢酸エチル１００ゴに溶かし塗
布液を調整した。
以下実施例１と同様な操作を行った結果、ガラスプレー
トの表面に透明な導電膜が得られた。表面抵抗は、１．
２Ｘ１０Ω／口であった。これにパイロナールＭＤ−１
２００（ポリエステル系塗料）を４μｍ塗布したところ
表面抵抗は３．６Ｘ１０”Ω／口となった。
トの表面に透明な導電膜が得られた。表面抵抗は、１．
２Ｘ１０Ω／口であった。これにパイロナールＭＤ−１
２００（ポリエステル系塗料）を４μｍ塗布したところ
表面抵抗は３．６Ｘ１０”Ω／口となった。
特許出願人 三菱金属株式会社
代理人 弁理士 松 井 政 広
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基体表面に形成された透明導電膜であって。 基体表面上に設けられた透明導電層と、該導電層の上に
被覆された透明保護層とからなる透明導電膜。 ２、特許請求の範囲第１項記載の透明導電膜であって、
透明保護層がポリエステル、アクリル、シリコーン、ポ
リプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン又はエポキ
シの樹脂からなるもの。 ６、特許請求の範囲第１項又は第２項記載の透明導電膜
であって、透明導電層が、 ５ｎ０２−８ｂ２０３又
はＩｎ２Ｏ３−８ｎ０２からなるもの。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58072924A JPS59198607A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 保護膜を備えた透明導電膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58072924A JPS59198607A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 保護膜を備えた透明導電膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59198607A true JPS59198607A (ja) | 1984-11-10 |
Family
ID=13503383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58072924A Pending JPS59198607A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 保護膜を備えた透明導電膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59198607A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6059606A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-06 | 帝人株式会社 | 透明導電性積層体 |
| JPS6220209A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-28 | ダイセル化学工業株式会社 | メンブレンスイツチ |
| JPS63233027A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-28 | Central Glass Co Ltd | 複写機用ガラスおよびその製造方法 |
| JPH06125519A (ja) * | 1992-04-28 | 1994-05-06 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 耐摩耗性・耐スクラッチ性の導電性重合体組成物 |
| JP2003504227A (ja) * | 1999-07-02 | 2003-02-04 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | 除去可能な保護コーティングを有する光透過性及び（又は）コーティングされた物品 |
| US6746770B1 (en) | 1989-05-26 | 2004-06-08 | Internatonal Business Machines Corporation | Electrically conductive and abrasion/scratch resistant polymeric materials, method of fabrication thereof and uses thereof |
| WO2011073005A2 (de) | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von indiumoxid-haltigen schichten, nach dem verfahren hergestellte indiumoxid-haltige schichten und ihre verwendung |
| WO2011072887A1 (de) * | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von indiumchlordialkoxiden |
| DE102010043668A1 (de) | 2010-11-10 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Indiumoxid-haltigen Schichten, nach dem Verfahren hergestellte Indiumoxid-haltige Schichten und ihre Verwendung |
| JP2018203610A (ja) * | 2017-06-07 | 2018-12-27 | パロ アルト リサーチ センター インコーポレイテッド | 窓構造の受動放射冷却 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS535282A (en) * | 1976-07-05 | 1978-01-18 | Teijin Ltd | Conductive plastic sheets having rub resistance |
-
1983
- 1983-04-27 JP JP58072924A patent/JPS59198607A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2011073005A2 (de) | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von indiumoxid-haltigen schichten, nach dem verfahren hergestellte indiumoxid-haltige schichten und ihre verwendung |
| CN102652137A (zh) * | 2009-12-18 | 2012-08-29 | 赢创德固赛有限公司 | 制备铟氯二醇盐的方法 |
| CN102652187A (zh) * | 2009-12-18 | 2012-08-29 | 赢创德固赛有限公司 | 生产含氧化铟的层的方法，通过该方法生产的含氧化铟的层及其用途 |
| US8580989B2 (en) | 2009-12-18 | 2013-11-12 | Evonik Degussa Gmbh | Process for the preparation of indium chlordialkoxides |
| TWI509102B (zh) * | 2009-12-18 | 2015-11-21 | Evonik Degussa Gmbh | 製造含氧化銦之層的方法，藉由該方法製得之含氧化銦之層及其用途 |
| CN102652137B (zh) * | 2009-12-18 | 2015-12-02 | 赢创德固赛有限公司 | 制备铟氯二醇盐的方法 |
| DE102010043668A1 (de) | 2010-11-10 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Indiumoxid-haltigen Schichten, nach dem Verfahren hergestellte Indiumoxid-haltige Schichten und ihre Verwendung |
| WO2012062575A1 (de) | 2010-11-10 | 2012-05-18 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von indiumoxid-haltigen schichten |
| JP2018203610A (ja) * | 2017-06-07 | 2018-12-27 | パロ アルト リサーチ センター インコーポレイテッド | 窓構造の受動放射冷却 |
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