JP2013513933A - 基板支持体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 上記の課題は、長手方向支持体および横方向支持体2、3から形成された、フレーム1の内側で、多数の長手方向ウェブおよび横方向ウェブ4、5は、基板の直接的または間接的な収容のための基礎格子が形成されるように、互いに格子体状に交差して設けられており、且つ、互いに結合されていることによって達成される。長手方向支持体および横方向支持体2、3と同様に、長手方向ウェブおよび横方向ウェブ4、5は、形状的に係合して、互いに結合されている。
Description
これら基板支持体は、同様に、キャリアー(Carrier)またはボート(Boot)、もしくは、プラズマボート(Plasmaboot)としても称される。この様式の基板支持体またはキャリアーは、特に、基板またはウェーハーが特別に傷付き易く、もしくは、特別に薄く、且つ大きな面積である場合に必要であり、従って、これら基板またはウェーハー自体の直接的な移送、即ち補助手段の利用無しの直接的な移送は、損傷の危険に基づいて可能ではない。
このウェーハー支持体/キャリアーが、それぞれに1つの基板を横たえて収容するための、互いに並列して設けられている、多数の窪み部を備えている、1枚の板からなり、その際、これら窪み部が、これら基板よりもほんの僅かにだけ大きい寸法を有している。
これら窪み部内において、3つの載置ピンが設けられており、これら載置ピンの上に、基板が載置され得る。この3点支持によって、そのことがプラズマプロセス、例えばPECVDプロセスのために必要であるような、可能な限りの電気的な接触信頼性が達成される。これら板自体は、耐温度性および必要な導電性のために、グラファイトから成っている。
同様にここで、基板の平らに置かれた状態の移送のために、可能な限り、ぴったりとはめ込まれた窪み部を有する基板支持体が使用され、この基板支持体は、同様にかなり質量が大きい。この基板支持体は、この基板支持体の上に位置決めされた基板と共に、ローラーの上で、プロセス設備のマストンネル(Massetunnel)を通って移送され、このマストンネル内において、HV/VHF電極が設けられている。
このことは、多数の基板支持体が備蓄されねばならないことを意味する。
長手方向支持体および横方向支持体から形成された、フレームの内側で、
多数の長手方向ウェブおよび横方向ウェブが、
基板の直接的または間接的な収容のための基礎格子が形成されるように、互いに格子体状に交差して設けられており、且つ、互いに結合されていることによって解決される。
従って、僅かの経費を有する、本発明に従う基板支持体でもって、適宜の基板が、プロセス設備を通って、移送され得る。何故ならば、適当な適合が特別のアダプターを用いて容易に可能であるからである。
外側の長手方向支持体は、それぞれに、上側帯状体および下側帯状体から成り、これらが、強固に、しかしながら解離可能に、互いに結合されており、このことは、ねじ止めによって、特別に簡単に行われ得る。
PyC(熱分解炭素)−、SiC(炭化ケイ素)−CVD被覆(化学蒸着被覆)、または、セラミック−プラズマ照射被覆を備えており、及び/または、
使用領域に依存して、CFC、CFK、イソ−グラファイト(合成グラファイト)、または他の適当な材料から成っている。
この被覆は、微粒子の発生の回避のため、および、電気的な絶縁のための役目を果たす。
これら上側帯状体6および下側帯状体7の間で、横方向支持体3および横方向ウェブ5が、ほぞ穴−ほぞ結合(Loch-/Zapfen-Verbindungen)8を用いて、形状的に係合して固定されている。必要な安定性は、これらほぞが、少なくとも非円形、もしくは角形の外側輪郭を、および、ほぞ穴が、形状的に一致した内側輪郭を有していることによって達成される。
このことによって、基板支持体の必要な安定性を形成するために、単に上側帯状体および下側帯状体を互いにねじ止めすることだけで十分である。
この様式の収容装置は、基板の寸法および形状に依存して、完全に適宜に構成されていることは可能である。
図2内において、例えば、横方向ウェブ5の上に、桁10が固定されている。
これら基板支持体は、同様に、キャリアーまたはボート、もしくは、プラズマボートとしても称される。この様式の基板支持体またはキャリアーは、特に、基板またはウェーハーが特別に傷付き易く、もしくは、特別に薄く、且つ大きな面積である場合に必要である。
2 長手方向支持体
3 横方向支持体
4 長手方向ウェブ
5 横方向ウェブ
6 上側帯状体
7 下側帯状体
8 ほぞ穴−ほぞ結合
9 はめ継ぎ結合
10 桁
Claims (10)
- 基板またはウェーハーの収容のための、および、プロセス設備内への、またはこれらプロセス設備を通っての移送のための、基板支持体において、
長手方向支持体および横方向支持体(2、3)から形成された、フレーム(1)の内側で、
多数の長手方向ウェブおよび横方向ウェブ(4、5)は、
基板の直接的または間接的な収容のための基礎格子が形成されるように、互いに格子体状に交差して設けられており、且つ、互いに結合されていることを特徴とする基板支持体。 - 長手方向支持体および横方向支持体(2、3)と同様に、長手方向ウェブおよび横方向ウェブ(4、5)は、形状的に係合して、互いに結合されていることを特徴とする請求項1に記載の基板支持体。
- 形状的に係合する結合は、
ほぞ穴−ほぞ結合(8)、及び/または、はめ継ぎ結合(9)によって行われ、その際、
上記ほぞが、少なくとも非円形、もしくは角形の外側輪郭を、および、上記ほぞ穴が、形状的に一致した内側輪郭を有していることを特徴とする請求項2に記載の基板支持体。 - 外側の長手方向支持体(2)は、それぞれに、上側帯状体および下側帯状体(6、7)から成り、これらが、強固に、しかしながら解離可能に、互いに結合されていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板支持体。
- 横方向ウェブ(5)は、上側帯状体と下側帯状体(6、7)との間で、並びに、長手方向支持体(2)において、形状的に係合して固定されていることを特徴とする請求項4に記載の基板支持体。
- 横方向ウェブ(5)の形状的に係合する固定のために、ほぞ穴−ほぞ結合(8)が行われることを特徴とする請求項5に記載の基板支持体。
- 長手方向ウェブおよび横方向ウェブ(4、5)は、一部材から成る、または多部材から成る収容装置を、基板またはウェーハーの載置および固定のために備えていることを特徴とする請求項1から6のいずれか一つに記載の基板支持体。
- 収容装置は、長手方向ウェブおよび横方向ウェブ(4、5)の上で、ピン、クランプ、またはねじを用いて固定されていることを特徴とする請求項7に記載の基板支持体。
- 収容装置は、差し込まれたまたはねじ止めされた、セラミック、グラファイトまたは金属から成る分離部片を備えていることを特徴とする請求項7または8に記載の基板支持体。
- 基板支持体の個別部材が、PyC−、SiC−CVD被覆、または、セラミック−プラズマ照射被覆を備えている、及び/または、
CFC、CFK、またはイソ−グラファイトから成っていることを特徴とする請求項1から9のいずれか一つに記載の基板支持体。
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