KR20180021407A - 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치는, 기판의 테두리부측 복수의 부위가 기판지지홀더에 지지된다. 그러면, 기판지지홀더와 접촉된 기판의 테두리부 복수의 부위를 제외한 기판의 전면(全面)이 균일하게 처리되므로, 기판의 막질이 향상되는 효과가 있을 수 있다. 그리고, 기판지지홀더에 지지되는 기판의 테두리부측이 비표시 영역 또는 더미 영역이면, 기판의 막질이 더욱 향상되는 효과가 있을 수 있다. 또한, 기판지지홀더의 프레임, 제1지지바, 제2지지바 및 지지부재의 직경 또는 부피가 상대적으로 크므로, 기판지지홀더를 용이하게 제작할 수 있는 효과가 있을 수 있다.

Description

기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치 {SUBSTRATE SUPPORTING HOLDER AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING THE SAME}
본 발명은, 기판의 이송 및 기판의 처리시, 기판이 탑재 지지되는 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치에 관한 것이다.
기판처리장치는, 반도체 소자, 평판 디스플레이 또는 박막형 태양전지(Solar Cell) 등의 제조시 사용되며, 증착장치(Vapor Deposition Apparatus)와 어닐링장치(Annealing Apparstus) 장치로 대별된다.
도 1은 종래의 기판처리장치의 개략 단면도로서, 이를 설명한다.
도시된 바와 같이, 종래의 기판처리장치는 기판(S)이 반입되어 처리되는 공간을 제공하는 챔버(11)를 포함하고, 챔버(11)의 내부에는 서셉터(Susceptor)(13)가 승강가능하게 설치된다. 그리고, 서셉터(13)에는 복수의 기판(S)이 탑재 지지지되는 트레이(15)가 탑재 지지된다.
트레이(15)는 글라스 또는 카본으로 형성되며, 로봇에 의하여 이송된다.
기판처리장치의 지속적인 사용을 위해서는, 챔버(11)의 내면 및 챔버(11)의 내부에 설치된 부품들에 증착된 증착물질을 세정가스를 이용하여 세정한다. 이때, 트레이(15)의 표면이 세정가스에 의하여 손상되는 것을 방지하기 위하여, 트레이(15)의 표면을 알루미늄으로 용사(Thermal Spraying)하여 코팅한다. 그런데, 트레이(15)의 표면을 알루미늄으로 코팅하는데 많은 비용이 소요되어, 원가가 상승하는 단점이 있다.
그리고, 글라스 또는 카본으로 형성된 트레이(15)의 경우, 상대적으로 열전도율이 낮다. 이로 인해, 트레이(15)를 챔버(11)로 이송하기 전에 로드락챔버 등에서 트레이(15)를 장시간 예열하여야 한다. 또한, 어느 하나의 공정 온도와 다른 하나의 공정 온도가 상이할 경우, 트레이(15)의 온도를 하강시키거나 상승시키는데 많은 시간이 소요된다. 이로 인해, 생산성이 저하되는 단점이 있다.
상기와 같은 단점을 해소하기 위하여 와이어(Wire)로 기판을 접촉 지지하는 기판지지홀더가 개발되어 사용되고 있다.
그런데, 상기 기판지지홀더의 상기 와이어는 세정가스에 충분히 견딜 수 있어야 하므로, 알루미늄으로 형성된다.
그러면, 기판을 처리하기 위한 플라즈마의 발생시, 상기 와이어는 접지의 기능을 하는 서셉터와 접촉되어 접지의 기능을 하므로, 상기 와이어의 주위에 플라즈마가 밀집된다. 이로 인해, 상기 와이어와 인접한 기판의 부위와 상기 와이어와 이격된 기판의 부위에 불균일한 막이 증착되므로, 막질이 저하되는 단점이 있다. 기판이 태양전지용 기판일 경우, 광변환 효율이 저하되는 단점이 있다.
상기 와이어로 인해 기판의 막질이 저하되는 것을 방지하기 위해서는, 상기 와이어의 직경을 대단히 작게 형성하여야 한다. 이로 인해, 기판지지홀더의 제작이 어려운 단점이 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 모든 문제점들을 해결할 수 있는 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.
본 발명의 다른 목적은 기판의 막질이 저하되는 것을 방지할 수 있는 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 용이하게 제작할 수 있는 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지용 기판지지홀더는, 외곽을 형성하는 프레임; 상호 간격을 가지는 복수개로 마련되어 상기 프레임의 내부에 형성되고, 제1방향을 향하면서 상기 프레임의 내부를 상기 제1방향과 직교하는 제2방향으로 구획하는 제1지지바; 상호 간격을 가지는 복수개로 마련되어 상기 프레임의 내부에 형성되고, 상기 제2방향을 향하면서 상기 프레임의 내부를 상기 제1방향으로 구획하며, 상기 제1지지바와 작용하여 상기 프레임의 내부를 기판이 위치되는 복수의 구획된 공간으로 구획하는 제2지지바; 상기 제1지지바 및 상기 제2지지바에 각각 설치되며, 상기 프레임의 구획된 공간에 위치되는 기판의 테두리부측을 받쳐서 지지하는 지지부재를 포함할 수 있다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판처리장치는, 기판이 반입되어 처리되는 공간을 제공하며, 일측면에는 출입구가 형성된 챔버; 상기 챔버의 하측 부위에 승강가능하게 설치된 서셉터; 내부에 복수의 기판이 상호 구획되어 지지되는 구획된 공간이 형성되고, 상기 출입구를 출입하면서 상기 서셉터의 상면측에 탑재 지지되는 기판지지홀더를 포함하며, 각 기판은 테두리부측 복수의 부위가 상기 기판지지홀더에 지지되어 상기 서셉터의 상면과 이격될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치는, 기판의 테두리부측 복수의 부위가 기판지지홀더에 지지된다. 그러면, 기판지지홀더와 접촉된 기판의 테두리부 복수의 부위를 제외한 기판의 전면(全面)이 균일하게 처리되므로, 기판의 막질이 향상되는 효과가 있을 수 있다.
그리고, 기판지지홀더에 지지되는 기판의 테두리부측이 비표시 영역 또는 더미 영역이면, 기판의 막질이 더욱 향상되는 효과가 있을 수 있다.
또한, 기판지지홀더의 프레임, 제1지지바, 제2지지바 및 지지부재의 직경 또는 부피가 상대적으로 크므로, 기판지지홀더를 용이하게 제작할 수 있는 효과가 있을 수 있다.
도 1은 종래의 기판처리장치의 개략 단면도.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 정단면도.
도 3은 기판을 제거한 도 2의 평단면도.
도 4는 도 2 및 도 3에 도시된 기판지지홀더 및 서셉터의 사시도.
도 5는 도 4의 "P"부 확대도.
도 6은 도 4의 결합 단면도.
도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치로 기판을 반입하는 것을 보인 도.
도 8a는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 기판지지홀더의 사시도.
도 8b는 도 8a의 "Q"부 확대도.
도 9a는 본 발명의 제3실시예에 따른 기판처리장치의 기판지지홀더 및 서셉터의 사시도.
도 9b는 도 9a의 결합 평면도.
도 10a는 본 발명의 제4실시예에 따른 기판처리장치의 기판지지홀더 및 서셉터의 사시도.
도 10b는 도 10a의 결합 평면도.
본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다.
한편, 본 명세서에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 정의하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다.
"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1항목, 제2항목 및 제3항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제1항목, 제2항목 또는 제3항목 각각 뿐만 아니라 제1항목, 제2항목 및 제3항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.
"및/또는"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1항목, 제2항목 및/또는 제3항목"의 의미는 제1항목, 제2항목 또는 제3항목뿐만 아니라 제1항목, 제2항목 또는 제3항목들 중 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결된다 또는 설치된다"고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결 또는 설치될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결된다 또는 설치된다"라고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "∼사이에"와 "바로 ∼사이에" 또는 "∼에 이웃하는"과 "∼에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
이하에서는, 본 발명의 실시예들에 따른 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제1실시예
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 정단면도이고, 도 3은 기판을 제거한 도 2의 평단면도이다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치는 기판(S)이 반입(搬入)되어 처리되는 공간을 제공하는 챔버(110)를 포함할 수 있고, 챔버(110)는 상면이 개방된 챔버 월(Wall)(111)과 챔버 월(111)의 개방된 상면에 결합된 리드(Lid)(115)를 포함할 수 있다.
챔버 월(111)의 상면에 리드(115)가 결합되므로, 챔버(110)의 내부 하측 부위는 챔버 월(111)의 내부 하측 부위이고, 챔버(110)의 내부 상측 부위는 리드(115)측 임은 당연하다.
챔버 월(111)의 일측면에는 복수의 기판(S)이 탑재 지지된 후술할 기판지지홀더(200)가 출입하는 출입구(111a)가 형성될 수 있고, 챔버 월(111)의 하면측에는 가스 등을 배출시키기 위한 배출구(111b)가 형성될 수 있다.
챔버(110)의 상면인 리드(115)의 상면에는 가스공급부로부터 공정가스를 공급받는 가스공급관(121)이 설치될 수 있고, 챔버(110)의 내부 상측인 리드(115)측에는 챔버(110)의 내부 하측 부위로 공정가스를 균일하게 분사하는 샤워헤드(125)가 설치될 수 있다. 이때, 샤워헤드(125)는 플라즈마를 발생하기 위한 플라즈마 전극의 기능을 할 수 있다.
챔버(110)의 내부 하측 부위에는 기판지지홀더(200)를 매개로 기판(S)이 탑재 지지되는 서셉터(130)가 설치될 수 있고, 서셉터(130)는 모터 또는 실린더 등과 같은 구동수단에 의하여 승강 및 회전가능하게 설치될 수 있다.
서셉터(130)는 플라즈마 전극인 샤워헤드(125)의 상대 전극의 기능을 할 수 있고, 서셉터(130)의 내부에는 기판(S)을 처리하기 위한 공정 중에 기판(S)을 적절하게 가열하기 위한 히터 등이 설치될 수 있다. 서셉터(130)는 상기 구동수단의 구동축을 통하여 접지될 수 있다.
챔버(110)의 외측에는 샤워헤드(125)와 접속되어 샤워헤드(125)에 RF(Radio Frequency) 전원 등을 인가하기 위한 전원장치(141) 및 임피던스를 정합하기 위한 매처(145)가 설치될 수 있다.
챔버(110)의 외측에 적재 보관된 기판(S)은 기판지지홀더(200)에 탑재 지지되어 챔버(110)로 반입되거나, 챔버(110)로부터 반출된다. 챔버(110) 외측의 기판지지홀더(200)는 로봇에 의하여 챔버(110)의 내부로 이송되어 서셉터(130)에 탑재되거나, 서셉터(130)에 탑재된 기판지지홀더(200)는 로봇에 의하여 챔버(110)의 외부로 이송된다.
기판지지홀더(200)에 대하여 도 2 내지 도 6을 참조하여 설명한다. 도 4는 도 2 및 도 3에 도시된 기판지지홀더 및 서셉터의 사시도이고, 도 5는 도 4의 "P"부 확대도이고, 도 6은 도 4의 결합 단면도이다.
도시된 바와 같이, 기판지지홀더(200)는 기판(S)을 지지할 수 있고, 기판지지홀더(200)의 내부에는 복수의 구획된 공간(210a)이 형성될 수 있다. 기판(S)은 기판지지홀더(200)의 구획된 공간(210a)에 위치되어 상호 구획될 수 있고, 테두리부측이 각각 지지될 수 있다. 그리하여, 기판지지홀더(200)가 서셉터(130)에 탑재 지지되었을 때, 기판(S)의 하면은 서셉터(130)의 상면과 이격될 수 있다.
기판지지홀더(200)는 프레임(210), 제1지지바(220), 제2지지바(230) 및 지지부재(240)를 포함할 수 있다.
프레임(210)은 사각형상으로 형성될 수 있으며, 서셉터(130)가 상승하면 서셉터(130)의 측면 상측 부위를 감쌀 수 있다. 즉, 서셉터(130)가 상승하면, 서셉터(130)의 측면 상측 부위는 프레임(210)의 내부에 삽입될 수 있다.
제1지지바(220)는 상호 간격을 가지는 복수개로 마련되어 프레임(210)의 내부에 형성될 수 있으며, 제1방향인 챔버(110)의 좌우 방향을 향하면서 프레임(210)의 내부를 제2방향인 챔버(110)의 전후 방향으로 구획할 수 있다. 상기 제1방향이 챔버(110)의 좌우 방향이고, 상기 제2방향이 챔버(110)의 전후 방향이므로, 상기 제1방향과 상기 제2방향은 직교함은 당연하다.
제2지지바(230)는 상호 간격을 가지는 복수개로 마련되어 프레임(210)의 내부에 형성될 수 있으며, 챔버(110)의 전후 방향을 향하면서 프레임(210)의 내부를 챔버(110)의 좌우 방향으로 구획할 수 있다. 그리하여, 제1지지바(220)와 제2지지바(230)의 작용에 의하여, 프레임(210)의 내부는 복수의 구획된 공간(210a)으로 구획되고, 프레임(210)의 구획된 공간(210a)에 기판(S)이 위치되어 지지된다.
제1지지바(220) 및 제2지지바(230)는 각각 봉 형상으로 형성될 수 있으며, 알루미늄으로 형성될 수 있다. 그리고, 제1지지바(220)와 제2지지바(230)는, 프레임(210)을 기준으로, 동일 높이에 위치될 수 있다. 제1지지바(220)와 제2지지바(230)를 일체로 형성하거나, 제1지지바(220)와 제2지지바(230)의 교차 부위를 벤딩시키면, 제1지지바(220)와 제2지지바(230)를 동일 높이인 동일 평면상에 위치시킬 수 있다.
지지부재(240)는 제1지지바(220) 및 제2지지바(230)에 각각 복수개 설치 고정될 수 있다. 지지부재(240)의 상측 부위는 제1지지바(220) 및 제2지지바(230)에 각각 설치 고정될 수 있고, 하측 부위는 프레임(210)의 구획된 공간(210a)에 위치될 수 있다. 프레임(210)의 구획된 공간(210a)에 위치된 지지부재(240)의 하측 부위에 프레임(210)의 구획된 공간(210a)에 위치된 기판(S)의 테두리부가 접촉 지지될 수 있다. 그리고, 지지부재(240)의 하면은 서셉터(130)의 상면과 접촉할 수 있다.
지지부재(240)는 세라믹으로 형성될 수 있으며, 결합관(241)과 지지부(245)를 포함할 수 있다.
결합관(241)은 제1지지바(220) 및 제2지지바(230)의 외면에 결합 고정될 수 있다. 지지부(245)는 결합관(241)의 외면에 형성되어 하측으로 돌출되며, 상단부측은 결합관(241)에 결합되고 하측 부위에는 기판(S)의 테두리부측이 지지될 수 있다.
지지부(245)는 블럭 형상으로 형성될 수 있다. 즉, 지지부(245)는 사각블럭 형상으로 형성되어 결합관의 외면에서 하측으로 연장된 연장블럭(245a)과 연장블럭(245a)의 하단부 일측면 및 타측면에서 외측으로 각각 돌출된 지지블럭(245b)을 포함할 수 있다. 이때, 지지블럭(245b)은 결합관(241)의 반경 방향을 향할 수 있으며, 지지블럭(245b)의 상면에 기판(S)의 테두리부측이 탑재 지지될 수 있다.
프레임(210)의 어느 하나의 구획된 공간(210a)은 상호 대향하는 제1지지바(220)와 상호 대향하는 제2지지바(230)에 의하여 형성된다. 이때, 프레임(210)의 어느 하나의 구획된 공간(210a)을 형성하는 상호 대향하는 제1지지바(220)에는 2개의 지지부재(245)가 각각 설치되고, 상호 대향하는 제2지지바(230)에는 2개의 지지부재(245)가 설치되는 것이 바람직하다. 그러면, 기판(S)의 테두리부 8군데 부위가 지지부재(245)의 지지블럭(245b)에 지지되므로, 지지블럭(245b)에 접촉 지지되는 기판(S)의 부위를 최소화하면서 기판(S)을 안정되게 지지할 수 있다.
기판(S)을 흡착하여 프레임(210)의 구획된 공간(210a)에 기판(S)을 위치시키거나, 프레임(210)의 구획된 공간(210a)에 위치 지지된 기판(S)을 공간(210a)으로부터 꺼낼 수 있다.
본 발명의 제1실시예에 따른 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치는, 기판(S)의 테두리부측 복수의 부위가 기판지지홀더(200)에 지지된다. 그러면, 기판지지홀더(200)와 접촉된 기판(S)의 테두리부 복수의 부위를 제외한 기판(S)의 전면(全面)이 균일하게 처리되므로, 기판(S)의 막질이 향상된다. 기판(S)이 태양전지용 기판(S)일 경우, 광변환 효율이 향상된다. 이때, 기판지지홀더(200)에 지지되는 기판(S)의 테두리부측이 비표시 영역 또는 더미 영역이면, 기판(S)의 막질이 더욱 향상될 수 있다.
그리고, 기판지지홀더(200)의 프레임(210), 제1지지바(220), 제2지지바(230) 및 지지부재(240)의 직경 또는 부피가 상대적으로 크므로, 기판지지홀더(200)를 용이하게 제작할 수 있다.
도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치로 기판을 반입하는 것을 보인 도로서, 이를 설명한다.
도 7a에 도시된 바와 같이, 서셉터(130)가 하강된 상태를 최초의 상태라 가정한다. 최초의 상태에서, 기판(S)을 서셉터(130)에 탑재하기 위해서는, 도 7b에 도시된 바와 같이, 복수의 기판(S)이 탑재 지지된 기판지지홀더(200)의 프레임(210)을 로봇(50)으로 지지하여, 챔버(110)로 이송한 다음, 기판지지홀더(200)를 서셉터(130)의 상측에 위치시킨다.
그 후, 도 7c에 도시된 바와 같이, 서셉터(130)를 상승시켜, 서셉터(130)의 상면에 기판지지홀더(200)의 지지부재(240)의 하면이 접촉되게 한다. 서셉터(130)의 상면과 지지부재(240)의 하면이 접촉되면, 서셉터(130)의 측면 상측 부위가 프레임(210)의 내부에 삽입된다.
그리고, 도 7d에 도시된 바와 같이, 로봇(50)을 챔버(110)의 외측으로 빼낸 다음, 서셉터(130)를 공정 위치로 이동한 후, 기판(S)을 처리하면 된다.
기판(S)을 챔버(110)로부터 반출하기 위해서는, 도 7d에 도시된 상태에서, 로봇(50)으로 기판지지홀더(200)의 프레임(210)을 지지한 다음, 서셉터(130)를 하강시킨다. 그 후, 로봇(50)을 챔버(110)로부터 빼내면 된다.
제2실시예
도 8a는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 기판지지홀더의 사시도이고, 도 8b는 도 8a의 "Q"부 확대도로서, 제1실시예와의 차이점만을 설명한다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 기판지지홀더(300)의 제1지지바(320)와 제2지지바(330)는, 프레임(310)을 기준으로, 상이한 높이에 위치될 수 있다.
이때, 제1지지바(320)에 설치된 지지부재(340)의 지지부(345)와 제2지지바(330)에 설치된 지지부재(340)의 지지부(345)는 제1지지바(320)와 제2지지바(330)의 높이 차와 대응되는 높이 차를 가질 수 있다.
즉, 제1지지바(320)가 제2지지바(330) 보다 상측에 위치된다고 가정하면, 제1지지바(320)의 설치된 지지부재(340)의 지지부(345)는 제2지지바(330)에 설치된 지지부재(340)의 지지부(345) 보다 높이를 높게 형성될 수 있다. 그러면, 제1지지바(320)에 설치된 지지부(345)의 하면과 제2지지바(330)에 설치된 지지부(345)의 하면은 서셉터(130)(도 2 참조)의 상면과 접촉할 수 있다.
제3실시예
도 9a는 본 발명의 제3실시예에 따른 기판처리장치의 기판지지홀더 및 서셉터의 사시도이고, 도 9b는 도 9a의 결합 평면도로서, 제1실시예와의 차이점만을 설명한다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제3실시예에 따른 기판처리장치의 서셉터(180)의 상면에는 복수의 안내핀(181)이 설치될 수 있다. 안내핀(181)은 서셉터(180)의 가장자리를 따라 설치될 수 있으며, 서셉터(180)의 상측에 위치되는 기판지지홀더(200)의 제1지지바(220) 및 제2지지바(230)가 놓이는 위치를 안내할 수 있다.
즉, 안내핀(181)은 프레임(210)과 최외곽에 위치된 제1지지바(220) 사이 및 프레임(210)과 최외곽에 위치된 제2지지바(230) 사이를 통과하여, 제1지지바(220) 및 제2지지바(230)가 놓이는 위치를 안내할 수 있다. 제1지지바(220) 및 제2지지바(230)가 놓이는 위치가 안내되면, 서셉터(180) 상에 기판(S)이 놓이는 위치가 안내됨은 당연하다.
본 발명의 제3실시예를 본 발명의 제2실시예에도 적용할 수 있음은 당연하다.
제4실시예
도 10a는 본 발명의 제4실시예에 따른 기판처리장치의 기판지지홀더 및 서셉터의 사시도이고, 도 10b는 도 10a의 결합 평면도로서, 이를 설명한다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제3실시예에 따른 기판처리장치의 서셉터(190)의 상면에는 기판지지홀더(200)의 제1지지바(220) 및 제2지지바(230)가 각각 삽입되는 삽입로(193)가 각각 함몰 형성될 수 있고, 서셉터(190)의 상면에는 기판(S)이 안치(安置)되는 안치홈(195)이 형성될 수 있다.
그러면, 삽입로(193)와 안치홈(195)으로 인하여, 서셉터(190)의 상면에는 삽입로(193) 및 안치홈(195)을 형성하는 격벽(197)이 형성된다. 이때, 격벽(197)에는 기판지지홀더(200)의 지지부재(240)의 지지부(245)의 지지블럭(245b)의 일측이 삽입되는 삽입홈(197a)이 형성될 수 있다. 그리고, 지지블럭(245b)의 타측은 안치홈(195)에 위치되어 기판(S)을 지지할 수 있다.
본 발명의 제4실시예를 본 발명의 제2실시예에도 적용할 수 있음은 당연하다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
110: 챔버
130: 서셉터
200: 기판지지홀더
210: 프레임
220: 제1지지바
230: 제2지지바
240: 지지부재

Claims (15)

  1. 외곽을 형성하는 프레임;
    상호 간격을 가지는 복수개로 마련되어 상기 프레임의 내부에 형성되고, 제1방향을 향하면서 상기 프레임의 내부를 상기 제1방향과 직교하는 제2방향으로 구획하는 제1지지바;
    상호 간격을 가지는 복수개로 마련되어 상기 프레임의 내부에 형성되고, 상기 제2방향을 향하면서 상기 프레임의 내부를 상기 제1방향으로 구획하며, 상기 제1지지바와 작용하여 상기 프레임의 내부를 기판이 위치되는 복수의 구획된 공간으로 구획하는 제2지지바;
    상기 제1지지바 및 상기 제2지지바에 각각 설치되며, 상기 프레임의 구획된 공간에 위치되는 기판의 테두리부측을 받쳐서 지지하는 지지부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판지지홀더.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 지지부재는,
    상기 제1지지바 및 상기 제2지지바의 외면에 결합되는 결합관;
    상기 결합관의 외면에 형성되어 하측으로 돌출되며, 자신의 하측 부위에 기판의 테두리부측이 지지되는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판지지홀더.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 지지부는,
    상기 결합관의 외면에서 하측으로 연장된 연장블럭;
    상기 연장블럭의 하단부 일측면 및 타측면에서 외측으로 돌출되고, 상기 결합관의 반경 방향을 향하며, 상기 기판의 테두리부측이 지지되는 지지블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판지지홀더.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1지지바와 상기 제2지지바는, 상기 프레임을 기준으로, 동일 높이에 위치된 것을 특징으로 하는 기판지지홀더.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제1지지바와 상기 제2지지바는, 상기 프레임을 기준으로, 상이한 높이에 위치된 것을 특징으로 하는 기판지지홀더.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1지지바에 설치된 상기 지지부재의 상기 지지부와 상기 제2지지바에 설치된 상기 지지부재의 상기 지지부는 상기 제1지지바와 상기 제2지지바의 높이 차와 대응되는 높이 차를 가지고,
    상기 제1지지바에 설치된 상기 지지부재의 상기 지지부의 하면과 상기 제2지지바에 설치된 상기 지지부재의 상기 지지부의 하면은, 상기 프레임을 기준으로, 동일한 높이에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판지지홀더.
  7. 기판이 반입되어 처리되는 공간을 제공하며, 일측면에는 출입구가 형성된 챔버;
    상기 챔버의 하측 부위에 승강가능하게 설치된 서셉터;
    내부에 복수의 기판이 상호 구획되어 지지되는 구획된 공간이 형성되고, 상기 출입구를 출입하면서 상기 서셉터의 상면측에 탑재 지지되는 기판지지홀더를 포함하며,
    각 기판은 테두리부측 복수의 부위가 상기 기판지지홀더에 지지되어 상기 서셉터의 상면과 이격되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 기판지지홀더는,
    상기 서셉터가 상승하면 상기 서셉터의 측면 상측 부위를 감싸는 프레임,
    상호 간격을 가지는 복수개로 마련되어 상기 프레임의 내부에 형성되고, 상기 챔버의 좌우 방향을 향하면서 상기 프레임의 내부를 상기 챔버의 전후 방향으로 구획하는 제1지지바;
    상호 간격을 가지는 복수개로 마련되어 상기 프레임의 내부에 형성되고, 상기 챔버의 전후 방향을 향하면서 상기 프레임의 내부를 상기 챔버의 좌우 방향으로 구획하며, 상기 제1지지바와 작용하여 상기 프레임의 내부를 상기 기판지지홀더의 구획된 공간인 구획된 공간으로 구획하는 제2지지바;
    상측 부위는 상기 제1지지바 및 상기 제2지지바에 각각 설치되고, 하면은 상기 서셉터의 상면과 접촉하며, 상기 프레임의 구획된 공간에 위치되는 기판의 테두리부측을 받쳐서 지지하는 복수의 지지부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 지지부재는,
    상기 제1지지바 및 상기 제2지지바의 외면에 결합되는 결합관;
    상기 결합관의 외면에 형성되어 하측으로 돌출되며, 하면은 상기 서셉터와 접촉하고 하측 부위에는 기판의 테두리부측이 접촉 지지되는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 지지부는,
    상기 결합관의 외면에서 하측으로 연장된 연장블럭;
    상기 연장블럭의 하측 부위 일측면 및 타측면에서 외측으로 돌출되고, 상기 결합관의 반경 방향을 향하며, 하면은 상기 서셉터와 접촉하고 상면에는 상기 기판의 테두리부측이 접촉 지지되는 지지블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 제1지지바와 상기 제2지지바는, 상기 프레임을 기준으로, 동일 높이에 위치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 제1지지바와 상기 제2지지바는, 상기 프레임을 기준으로, 상이한 높이에 위치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1지지바에 설치된 상기 지지부재의 상기 지지부와 상기 제2지지바에 설치된 상기 지지부재의 상기 지지부는 상기 제1지지바와 상기 제2지지바의 높이 차와 대응되는 높이 차를 가지면서 하면이 상기 서셉터의 상면과 접촉하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  14. 제8항에 있어서,
    상기 서셉터의 상면에는 상기 서셉터의 상측에 위치되는 상기 제1지지바 및 상기 제2지지바가 놓이는 위치를 안내하는 복수의 안내핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  15. 제8항에 있어서,
    상기 서셉터의 상면에는 상기 제1지지바 및 상기 제2지지바가 각각 삽입되는 삽입로가 각각 함몰 형성되고,
    상기 서셉터의 상면에는 상기 기판이 안치(安置)되는 안치홈이 형성되며,
    상기 삽입로 및 상기 안치홈을 형성하는 상기 서셉터의 격벽에는 상기 기판이 지지되는 상기 지지부재의 하측 부위 일측이 삽입되는 삽입홈이 형성되며,
    상기 삽입홈에 삽입된 상기 지지부재의 하측 부위 타측은 상기 안치홈에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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