JP2013507494A - 微細で薄い合成基材をベースとする真珠光沢顔料 - Google Patents
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Abstract
Description
a)ほぼ透明な微小板形状の合成基材を分級して、40nm〜110nmの範囲の平均高さhSを有する基材を得る工程、
b)少なくとも1種の光学活性、好ましくは高屈折率な層を用いてその分級されたほぼ透明な微小板形状の合成基材をコーティングして、2.1μm〜8.6μmの範囲の平均サイズd50を有する真珠光沢顔料を得る工程。
・30〜80重量%の金属酸化物含量と、20を超え50nmまでの平均金属酸化物層厚み;
・50〜85重量%の金属酸化物含量と、50を超え75nmまでの平均金属酸化物層厚み;
・59〜89重量%の金属酸化物含量と、75を超え95nmまでの平均金属酸化物層厚み;
・66〜92重量%の金属酸化物含量と、95を超え125nmまでの平均金属酸化物層厚み;
・69〜96重量%の金属酸化物含量と、125を超え215nmまでの平均金属酸化物層厚み。
・35〜62重量%のTiO2含量と、20を超え35nmまでの平均TiO2層厚み;
・40〜74重量%のTiO2含量と、35を超え45nmまでの平均TiO2層厚み;
・45〜78重量%のTiO2含量と、45を超え55nmまでの平均TiO2層厚み;
・50〜82重量%のTiO2含量と、55を超え65nmまでの平均TiO2層厚み;
・55〜85重量%のTiO2含量と、65を超え75nmまでの平均TiO2層厚み;
・60〜86.5重量%のTiO2含量と、75を超え85nmまでの平均TiO2層厚み;
・65〜88重量%のTiO2と、85を超え95nmまでの平均TiO2層厚み;
・67〜89重量%のTiO2含量と、95を超え105nmまでの平均TiO2層厚み;
・68〜90重量%のTiO2含量と、105を超え115nmまでの平均TiO2層厚み;
・69〜91重量%のTiO2含量と、115を超え125nmまでの平均TiO2層厚み;
・70〜92重量%のTiO2含量と、125を超え135nmまでの平均TiO2層厚み;
・71〜92.5重量%のTiO2含量と、135を超え145nmまでの平均TiO2層厚み;
・72〜93重量%のTiO2含量と、145を超え155nmまでの平均TiO2層厚み;
・73〜93重量%のTiO2含量と、155を超え165nmまでの平均TiO2層厚み;
・73.5〜93.5重量%のTiO2含量と、165を超え175nmまでの平均TiO2層厚み;
・74〜94重量%のTiO2含量と、175を超え185nmまでの平均TiO2層厚み;
・74.5〜94重量%のTiO2含量と、185を超え195nmまでの平均TiO2層厚み;
・75〜94.5重量%のTiO2含量と、195を超え205nmまでの平均TiO2層厚み;
・75.5〜95重量%のTiO2含量と、205を超え215nmまでの平均TiO2層厚み。
・47.5〜62重量%の範囲のTiO2含量と、20を超え35nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・58〜74重量%の範囲のTiO2含量と、35を超え45nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・63〜78重量%の範囲のTiO2含量と、45を超え55nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・67〜82重量%の範囲のTiO2含量と、55を超え65nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・70〜85重量%の範囲のTiO2含量と、65を超え75nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・73.5〜86.5重量%の範囲のTiO2含量と、75を超え85nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・75〜88重量%の範囲のTiO2含量と、85を超え95nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・76.5〜89重量%の範囲のTiO2含量と、95を超え105nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・78.5〜90重量%の範囲のTiO2含量と、105を超え115nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・80〜91重量%の範囲のTiO2含量と、115を超え125nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・81.5〜92重量%の範囲のTiO2含量と、125を超え135nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・83〜92.5重量%の範囲のTiO2含量と、135を超え145nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・84〜93重量%の範囲のTiO2含量と、145を超え155nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・85〜93重量%の範囲のTiO2含量と、155を超え165nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・86〜93.5重量%の範囲のTiO2含量と、165を超え175nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・87〜94重量%の範囲のTiO2含量と、175を超え185nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・87.5〜94重量%の範囲のTiO2含量と、185を超え195nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・88〜94.5重量%の範囲のTiO2含量と、195を超え205nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・89〜95重量%の範囲のTiO2含量と、205を超え215nmまでの範囲の平均TiO2層厚み。
・50.5〜62重量%の範囲のTiO2含量と、20を超え35nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・61〜74重量%の範囲のTiO2含量と、35を超え45nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・65.5〜78重量%の範囲のTiO2含量と、45を超え55nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・69.5〜82重量%の範囲のTiO2含量と、55を超え65nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・72.5〜85重量%の範囲のTiO2含量と、65を超え75nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・75〜86.5重量%の範囲のTiO2含量と、75を超え85nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・77.5〜88重量%の範囲のTiO2含量と、85を超え95nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・79〜89重量%の範囲のTiO2含量と、95を超え105nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・80.5〜90重量%の範囲のTiO2含量と、105を超え115nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・82〜91重量%の範囲のTiO2含量と、115を超え125nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・83〜92重量%の範囲のTiO2含量と、125を超え135nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・84.5〜92.5重量%の範囲のTiO2含量と、135を超え145nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・85.5〜93重量%の範囲のTiO2含量と、145を超え155nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・86.5〜93重量%の範囲のTiO2含量と、155を超え165nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・87〜93.5重量%の範囲のTiO2含量と、165を超え175nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・88〜94重量%の範囲のTiO2含量と、175を超え185nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・88.5〜94重量%の範囲のTiO2含量と、185を超え195nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・89〜94.5重量%の範囲のTiO2含量と、195を超え205nmまでの範囲の平均TiO2層厚み;
・89.5〜95重量%の範囲のTiO2含量と、205を超え215nmまでの範囲の平均TiO2層厚み。
・35〜62重量%のTiO2含量と、20を超え35nmまでの平均TiO2層厚み;
・40〜74重量%のTiO2含量と、35を超え45nmまでの平均TiO2層厚み;
・45〜78重量%のTiO2含量と、45を超え55nmまでの平均TiO2層厚み;
・50〜82重量%のTiO2含量と、55を超え65nmまでの平均TiO2層厚み;
・55〜85重量%のTiO2含量と、65を超え75nmまでの平均TiO2層厚み;
・60〜86.5重量%のTiO2含量と、75を超え85nmまでの平均TiO2層厚み;
・65〜88重量%のTiO2含量と、85を超え95nmまでの平均TiO2層厚み;
・67〜89重量%のTiO2含量と、95を超え105nmまでの平均TiO2層厚み;
・68〜90重量%のTiO2含量と、105を超え115nmまでの平均TiO2層厚み;
・69〜91重量%のTiO2含量と、115を超え125nmまでの平均TiO2層厚み;
・70〜92重量%のTiO2含量と、125を超え135nmまでの平均TiO2層厚み;
・71〜92.5重量%のTiO2含量と、135を超え145nmまでの平均TiO2層厚み。
・47.5〜62重量%のTiO2含量と、20を超え35nmまでの平均TiO2層厚み;
・58〜74重量%のTiO2含量と、35を超え45nmまでの平均TiO2層厚み;
・63〜78重量%のTiO2含量と、45を超え55nmまでの平均TiO2層厚み;
・67〜82重量%のTiO2含量と、55を超え65nmまでの平均TiO2層厚み;
・70〜85重量%のTiO2含量と、65を超え75nmまでの平均TiO2層厚み;
・73.5〜86.5重量%のTiO2含量と、75を超え85nmまでの平均TiO2層厚み;
・75〜88重量%のTiO2含量と、85を超え95nmまでの平均TiO2層厚み;
・76.5〜89重量%のTiO2含量と、95を超え105nmまでの平均TiO2層厚み;
・78.5〜90重量%のTiO2含量と、105を超え115nmまでの平均TiO2層厚み;
・80〜91重量%のTiO2含量と、115を超え125nmまでの平均TiO2層厚み;
・81.5〜92重量%のTiO2含量と、125を超え135nmまでの平均TiO2層厚み;
・83〜92.5重量%のTiO2含量と、135を超え145nmまでの平均TiO2層厚み。
・47.5〜72.4重量%のFe2O3含量と、35を超え45nmまでの平均Fe2O3層厚み;
・57.5〜82.4重量%のFe2O3含量と、45を超え55nmまでの平均Fe2O3層厚み;
・62.5〜87.4重量%のFe2O3含量と、55を超え65nmまでの平均Fe2O3層厚み。
a)最大級の拡散反射
b)最小限の直接反射
c)最大級の透過率。
a)ほぼ透明な微小板形状の合成基材を分級して、40nm〜110nmの範囲の平均高さhSを有する基材を得る工程、
b)少なくとも1種の光学活性、好ましくは高屈折率な層を用いてその分級されたほぼ透明な微小板形状の合成基材をコーティングして、2.1μm〜8.6μmの範囲の平均サイズd50を有する真珠光沢顔料を得る工程。
a)顔料は、均一な半径rSおよび均一な高さhSを有する円柱(微小板)からなる。したがって、最初から「平均値」を用いて計算を行う。
b)基材の上に堆積するコーティング分子の確率は、いずれの場所でも同程度の高さである。したがって、微小板層厚みは、たとえば縁の部分と面の部分で違いはない。この仮定の結果として、どの部分においても、コーティングは均一な層厚みdMを形成している。ここの添字のMは、光学活性コーティング、好ましくは金属酸化物および/または金属を表している。その均一なコーティング厚みは、多数のコーティングされた微小板形状の効果顔料のSEM測定で実際に観察される。
c)Mの二次的な沈降は無視する、別の言い方をすれば、物質Mはすべて、基材の上にコーティングとして適用される。
実施例1α:合成マイカの分級
1kgの微小板形状の合成マイカの10〜40μm画分(Shantou F.T.Z.Sanbao Pearl Luster Mica Tech Co.,Ltd.China製)を、1000mLのDI水(すなわち、完全脱イオン水)と混合し、次いでAmerican Cyanamid Company製の実験室用エッジランナーミルの中で、約30分間かけて層剥離させた。
100gの実施例1αからの微小板形状の合成マイカ(固形分含量:42.3重量%)を、200mLのDI水中に懸濁させた。希塩酸を計量添加することによってpHを2.2に合わせ、その懸濁液を加熱して80℃とした。次いで、50mLの塩化スズ溶液(c(Sn)=24g/L)を、90分間かけて計量仕込みした。15重量%強度のアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を同時に導入することによって、pHを2.2に一定に保った。その溶液をさらに撹拌しながらの約1/4時間の中断の後に、希塩酸の計量添加によってそのpHを1.8に調節した。次いで、1リットルあたり150gのTiCl4および50gのHClの溶液2.4Lの添加を開始した。15重量%強度のアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を同時に導入することによって、pHを一定に保った。
100gの実施例1αからの微小板形状の合成マイカ(固形分含量:42.3重量%)を、200mLのDI水中に懸濁させた。希塩酸を計量添加することによってpHを2.2に合わせ、その懸濁液を加熱して80℃とした。次いで、50mLの塩化スズ溶液(c(Sn)=24g/L)を、90分間かけて計量仕込みした。15重量%強度のアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を同時に導入することによって、pHを2.2に一定に保った。その溶液をさらに撹拌しながらの約1/4時間の中断の後に、希塩酸の計量添加によってそのpHを1.8に調節した。次いで、1リットルあたり150gのTiCl4および50gのHClの溶液5.6Lの添加を開始した。15重量%強度のアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を同時に導入することによって、pHを一定に保った。
100gの実施例1αからの微小板形状の合成マイカ(固形分含量:42.3重量%)を、200mLのDI水中に懸濁させた。希塩酸を計量添加することによってpHを2.2に合わせ、その懸濁液を加熱して80℃とした。次いで、50mLの塩化スズ溶液(c(Sn)=24g/L)を、90分間かけて計量仕込みした。15重量%強度のアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を同時に導入することによって、pHを2.2に一定に保った。その溶液をさらに撹拌しながらの約1/4時間の中断の後に、希塩酸の計量添加によってそのpHを1.8に調節した。次いで、1リットルあたり150gのTiCl4および50gのHClの溶液7.2Lの添加を開始した。15重量%強度のアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を同時に導入することによって、pHを一定に保った。
市販の、TiO2コーティングされたシルバーの真珠光沢顔料、SunShine Super White(SunChemical製)
100gの実施例1αからの微小板形状の合成マイカ(固形分含量:42.3重量%)を、200mLのDI水中に懸濁させた。希塩酸を計量添加することによってpHを2.9に合わせ、その懸濁液を加熱して75℃とした。次いで、150mL/hの計量注入速度で硫酸鉄溶液を添加したが、その溶液には、100mLの溶液あたり65gのFe2(SO4)3・9H2Oおよび1mLの濃硫酸が含まれていた。15重量%強度のアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を同時に計量添加することによって、pHを3.8に保った。茶色がかった沈殿物として水酸化鉄が得られたので、それを顔料粒子の上に堆積させる。
Ia 粒子サイズ測定
本発明実施例および比較例の顔料ならびに実施例1αからの合成マイカについて、レーザー回折法(機器名:Cilas1064,Quantachrome製)により、特性解析した。フラウンホーファー法によって、その散乱光シグナルを評価した。
平均基材厚みを複数の方法を用いて測定した。その結果を表3に示す。
a)真珠光沢顔料をAutoclear Plus HS 2成分クリアコート(Sikkens GmbH製)の中にスリーブブラシを用いて10重量%の濃度で組み入れ、次いで線巻コーティングバーを用いて塗布し(湿膜厚み26μm)、乾燥させた。24時間の乾燥時間の後、これらのナイフドローダウンから研磨片を調製した。SEMにより、その研磨片の測定を行った。有意な統計を得る目的で、このサンプルそれぞれにおいて、少なくとも100個の顔料粒子について測定した。この場合、基材の層厚みだけではなく、金属酸化物層の層厚みも測定した。
b)WO 2004/087816 A2に記載されている方法により真珠光沢顔料を調製し、SEMにより同様に測定した。その結果を表3の第10列に示す。
c)式7により平均基材高さを計算した。この場合、基材の半径には、体積平均サイズ分布のd50値の半分の値を使用した。
酸化物含量および酸化物の層厚みから式7により計算された値では、良好な一致が見出されたが、その平均層厚みは、垂直に配向させたマイカの粉体の評価(第10列)、およびナイフドローダウン中のマイカの評価に従って見出されたものである。
IIa 角度依存性明度の測定
反射性散乱光フラクションを特性解析する目的で、通常使用されるニトロセルロースワニス(Dr.Renger Erco Bronzemischlack 2615e;Morton製)の中に、真珠光沢顔料を、顔料添加量が6重量%(ウェットワニスの全重量を基準にして)のレベルで、撹拌しながら組み入れた。真珠光沢顔料を導入し、次いでブラシを用いてワニスの中に分散させた。
それぞれのサンプルの散乱性は、グロスを測定することによってもさらに特性解析することができる。グロスは、直接反射の目安である。そのため、散乱性が強いサンプルは、低いグロス値を有する筈である。IIaからのニトロセルロースワニス塗布物を、Byk Gardner製のMicro−Tri−Glossグロスメーターを使用して、黒色の背景に対して測定角60度での測定にかけた。
本発明および比較例の真珠光沢顔料を、IIaのようにして、Byk Gardner製の#2853テストチャート(コントラストペーパー)の上に異なった濃度で塗布し、その不透明性を視覚的に比較した。この不透明性は、以下の評点に基づいて評価した。
1=極めて不良
2=不良
3=中程度
4=良好
5=極めて良好
鉛含量は、固体グラファイトチューブ原子吸光分析法により求めた。使用した機器は、SSA600固体サンプラーを備えたZEENIT650(メーカー:Analytik Jena)であった。本発明の真珠光沢顔料の鉛含量は、表4に見ることができる。
この目的のために、通常使用されるニトロセルロースワニス(Dr.Renger Erco Bronzemischlack 2615e;Morton製)の中に、真珠光沢顔料を、顔料添加量が2.5重量%(ウェットワニスの全重量を基準にして)のレベルで、撹拌しながら組み入れた。この場合、真珠光沢顔料を導入し、次いでブラシを用いてワニスの中に分散させた。
Claims (10)
- 密度ρSを有するほぼ透明な微小板形状の合成基材および密度ρMを有する少なくとも1種の光学活性コーティングを含む真珠光沢顔料であって、
基材が、2.0μm〜8.0μmの範囲の平均サイズd50および40nm〜110nmの範囲の平均高さhSを有し、そしてその真珠光沢顔料の全鉛含量が、10ppm以下であることを特徴とする、
真珠光沢顔料。 - 真珠光沢顔料が、5.0μm〜11.0μmの範囲のd90値であるサイズ分布を有することを特徴とする、請求項1に記載の真珠光沢顔料。
- 光学活性コーティングが、高屈折率コーティングであり、好ましくは2.0を超える屈折率nMを有することを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載の真珠光沢顔料。
- 光学活性層が、金属酸化物層および/または金属水酸化物層および/または金属酸化物水和物層を有しているか、それらであることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載の真珠光沢顔料。
- 平均基材高さhSが、次式によって求められることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載の真珠光沢顔料。
rS=d50/2が、レーザー回折法により求められた基材の平均半径であり、
ρSが、基材の密度であり、ρMが、光学活性コーティングの密度であり、そしてcMが、基材および光学活性コーティングの合計重量を基準にし、分析的測定によって求めた、光学活性コーティングの重量分率(単位、%)である。] - 金属酸化物層が、好ましくはほとんどアナターゼ変態にあるTiO2からなり、基材が、合成マイカからなり、TiO2と合成マイカの合計重量を基準にしたTiO2含量(重量%)と、TiO2コーティングの平均層厚みの間の関係が、好ましくは次の関係にあることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載の真珠光沢顔料。
・30〜80重量%の金属酸化物含量と、20を超え50nmまでの平均金属酸化物層厚み;
・50〜85重量%の金属酸化物含量と、50を超え75nmまでの平均金属酸化物層厚み;
・59〜89重量%の金属酸化物含量と、75を超え95nmまでの平均金属酸化物層厚み;
・66〜92重量%の金属酸化物含量と、95を超え125nmまでの平均金属酸化物層厚み;
・69〜96重量%の金属酸化物含量と、125を超え215nmまでの平均金属酸化物層厚み - 透明な微小板形状の合成基材が、合成マイカ、SiO2微小板、Al2O3微小板、およびそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする、先行する請求項のいずれかに記載の真珠光沢顔料。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の真珠光沢顔料を製造するための方法であって、
方法が、以下の工程を含むことを特徴とする、方法。
a)ほぼ透明な微小板形状の合成基材を分級して、40nm〜110nmの範囲の平均高さhSを有する基材を得る工程;
b)少なくとも1種の光学活性、好ましくは高屈折率な層を用いてその分級されたほぼ透明な微小板形状の合成基材をコーティングして、2.1μm〜8.6μmの範囲の平均サイズd50を有する真珠光沢顔料を得る工程 - 塗料、印刷インキ、インクジェットインキ、トナー、化粧料、プラスチック、織物、ガラス、エナメル、グレーズ、またはセラミックにおける、請求項1〜7のいずれかに記載の真珠光沢顔料の一つの使用。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の真珠光沢顔料の一つを含む、コーティング組成物、より具体的には化粧料製品。
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