JP2013504774A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012037182A1 (en) * 2010-09-14 2012-03-22 Applied Precision, Inc. Oblique-illumination systems and methods
DE102010047050B4 (de) 2010-09-29 2021-09-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Charakterisierung einer Struktur auf einer Maske und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US9213003B2 (en) 2010-12-23 2015-12-15 Carl Zeiss Sms Gmbh Method for characterizing a structure on a mask and device for carrying out said method
DE102011104357B4 (de) * 2011-06-14 2024-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Simulation eines Luftbildes
US9207544B2 (en) 2011-06-14 2015-12-08 Carl Zeiss Sms Gmbh Method for simulating an aerial image
JP5373228B2 (ja) * 2011-09-21 2013-12-18 オリンパスメディカルシステムズ株式会社 撮像装置および内視鏡
US8928973B2 (en) * 2011-12-16 2015-01-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Microscope apparatus for phase image acquisition
US8984453B2 (en) * 2012-06-28 2015-03-17 Applied Materials Israel, Ltd. Method and system for creation of binary spatial filters
US8755114B1 (en) 2013-06-14 2014-06-17 Computer Power Supply, Inc. Apparatus for aiding manual, mechanical alignment of optical equipment
DE102014219755A1 (de) 2013-10-30 2015-04-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Reflektives optisches Element
DE102013223808A1 (de) * 2013-11-21 2014-12-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Spiegeleinrichtung zur Reflexion eines Bündels von EUV-Licht
NL2015160A (en) 2014-07-28 2016-07-07 Asml Netherlands Bv Illumination system, inspection apparatus including such an illumination system, inspection method and manufacturing method.
DE102014114468A1 (de) * 2014-10-06 2016-04-07 Leica Microsystems (Schweiz) Ag Mikroskop
CN107430352B (zh) 2015-03-25 2020-01-21 Asml荷兰有限公司 量测方法、量测设备和器件制造方法
US9909972B2 (en) * 2016-02-08 2018-03-06 MANTA Instruments, Inc. Multi-camera apparatus for observation of microscopic movements and counting of particles in colloids and its calibration
DE102016204535A1 (de) * 2016-03-18 2017-09-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Messmikroskop zur Vermessung von Masken für lithographische Verfahren sowie Messverfahren und Kalibrierverfahren hierfür
DE102017115262B9 (de) * 2017-07-07 2021-05-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie
DE102017118499A1 (de) * 2017-08-14 2019-02-14 Endress+Hauser Conducta Gmbh+Co. Kg Kalibriereinsatz und Halterung desselben
DE102018107112B9 (de) * 2018-03-26 2020-02-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Inspektion einer Maske
DE102018210603B4 (de) * 2018-06-28 2025-10-09 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Erzeugen eines Übersichtsbilds unter Verwendung eines hochaperturigen Objektivs
US10816483B2 (en) 2018-12-27 2020-10-27 Globalfoundries Inc. Double pass diluted ultraviolet reticle inspection
DE102019114272A1 (de) * 2019-05-28 2020-12-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Bestimmung einer Abbildungsfunktion eines Maskeninspektionsmikroskops und Maskeninspektionsmikroskop
DE102019215972A1 (de) * 2019-10-17 2021-04-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Messung einer Reflektivität eines Objekts für Messlicht sowie Metrologiesystem zur Durchführung des Verfahrens
DE102020208045A1 (de) * 2020-06-29 2021-12-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Ermittlung eines Bildes eines Objekts
DE102020123615B9 (de) 2020-09-10 2022-04-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie
DE102021210671A1 (de) 2021-09-24 2022-12-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Intensitätsanpassungsfilter für eine optische anordnung und optische anordnung mit einem entsprechenden intensitätsanpassungsfilter sowie verfahren zu dessen herstellung
DE102022200372A1 (de) * 2022-01-14 2023-07-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Nachbilden von Beleuchtungs- und Abbildungseigenschaften eines optischen Produktionssystems bei der Beleuchtung und Abbildung eines Objekts mittels eines optischen Messsystems
US20240003827A1 (en) * 2022-06-30 2024-01-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Systems and methods for actinic mask inspection and review in vacuum
JP2024104699A (ja) * 2023-01-24 2024-08-05 ギガフォトン株式会社 チルトステージ、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法
DE102023101902B4 (de) * 2023-01-26 2025-10-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Messvorrichtung, Verfahren zum Betreiben einer maskenmetrologischen Messvorrichtung und Computerprogrammprodukt

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4419013A (en) * 1981-03-30 1983-12-06 Tre Semiconductor Equipment Corporation Phase contrast alignment system for a semiconductor manufacturing apparatus
NL8600638A (nl) * 1986-03-12 1987-10-01 Philips Nv Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat.
JPH0513297A (ja) * 1991-07-09 1993-01-22 Nikon Corp 位置合わせ装置
JPH05259035A (ja) * 1992-03-11 1993-10-08 Hitachi Ltd 投影露光装置及びパターン形成方法
JP2530081B2 (ja) * 1992-01-09 1996-09-04 株式会社東芝 マスク検査装置
JP3339149B2 (ja) * 1993-12-08 2002-10-28 株式会社ニコン 走査型露光装置ならびに露光方法
DE19513350A1 (de) * 1994-04-15 1995-10-19 Zeiss Carl Fa Filter zur Lichtsteuerung und optisches Gerät mit einem solchen Filter
US6064517A (en) 1996-07-22 2000-05-16 Kla-Tencor Corporation High NA system for multiple mode imaging
JPH11219891A (ja) * 1998-02-04 1999-08-10 Hitachi Ltd マスクの検査方法および装置
DE19847992A1 (de) * 1998-10-17 2000-04-20 Zeiss Carl Jena Gmbh Anordnung zur Erfassung der Veränderung der Positionierung
JP2003506881A (ja) * 1999-07-30 2003-02-18 カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス Euv照明光学系の射出瞳における照明分布の制御
JP3631094B2 (ja) * 2000-03-30 2005-03-23 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイス製造方法
DE10110597A1 (de) * 2001-03-06 2002-09-12 Leica Microsystems Anordnung zur Strahlabschwächung
US7072502B2 (en) * 2001-06-07 2006-07-04 Applied Materials, Inc. Alternating phase-shift mask inspection method and apparatus
DE10138847A1 (de) * 2001-08-15 2003-02-27 Zeiss Carl Blende für eine Integratoreinheit
JP2004311896A (ja) * 2003-04-10 2004-11-04 Nikon Corp 露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにマスク
DE102004023739A1 (de) * 2004-05-12 2005-12-15 Leica Microsystems Semiconductor Gmbh Messgerät und Verfahren zum Betreiben eines Messgeräts zur optischen Inspektion eines Objekts
JP2007027240A (ja) * 2005-07-13 2007-02-01 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP4572821B2 (ja) * 2005-11-30 2010-11-04 セイコーエプソン株式会社 グレイスケールマスク、マイクロレンズの製造方法
DE102008049365A1 (de) 2008-09-26 2010-04-01 Carl Zeiss Sms Gmbh Maskeninspektionsmikroskop mit variabler Beleuchtungseinstellung

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