JP5775518B2 - 可変照明設定を有するマスク検査顕微鏡 - Google Patents
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Description
エタンデュ=NA*ビーム直径
NAB=NAM *dm/dB
sinα=λ/ρ≧(2NAB)
p≦λ/(2NAB)
エタンデュ=NA*ビーム直径
NAB=NAM *dm/dB=0.018
sinα=λ/p≧2NAB
p≦λ/(2NAB)
Ires〜(Ffr/Fg)2
Ires〜(1−(L/p)2)2
Ires〜(L/p)4
87,88 照明ビーム経路
35、35a λ/2板
85 ビームスプリッタ
210 データ処理システム
215 入力及び出力ユニット
Claims (21)
- 物体平面に配置されたレチクル(145)の構造(150)の像をマスク検査顕微鏡の視野平面に生成するためのマスク検査顕微鏡であって、
投影光を放出する光源(5)と、
少なくとも1つの照明ビーム経路(3,87,88)と、
前記投影光の結果的強度分布を生成するために前記マスク検査顕微鏡の照明光学系の瞳平面に配置された絞りと、
を含み、
前記絞りは、光透過基板と前記光透過基板の光不透過位置を被覆する光不透過層からなり、
前記絞りは、ラスタの配列を有し、
前記ラスタの各々は、光透過領域内にある光不透過ピクセルを有するか、光不透過領域内にある光透過ピクセルを有し、
前記ラスタ間の距離及び前記ピクセルの前記ピクセルのサイズによって、絞りが、投影光の結果的強度分布が最小及び最大強度値間に少なくとも1つの更に別の強度値を有するように構成され、
前記ラスタ間の距離が、前記絞りで回折される前記投影光のゼロ次の回折次数のものだけが、前記少なくとも1つの更に別の強度値に寄与するような方法で具現化される、
ことを特徴とするマスク検査顕微鏡。 - 前記ピクセルは、正方形であることを特徴とする請求項1に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記光不透過層は、透過率を変更するための少なくとも1つの吸光剤層を有することを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記光不透過層は、透過率を変更するための少なくとも1つの誘電体反射層を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 少なくとも2つの絞りが、絞り板(45,45a,65,65a)上にその個々の該絞りが該絞り板(45,45a,65,65a)の移動によって変更されるように配置されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記絞り板(45,45a,65,65a)は、駆動体(50,70,50a,70a)に接続されることを特徴とする請求項5に記載のマスク検査顕微鏡。
- 少なくとも1つの偏光子が、前記照明ビーム経路(3,87,88)に配置されることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記偏光子の少なくとも1つ(110)が、前記投影光を直線偏光にすることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記偏光子の少なくとも1つ(120)が、前記直線偏光投影光を、区画毎に偏光を回転させてタンジェンシャル偏光にすることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記瞳平面の前記投影光の前記結果的強度分布は、複数の絞りによって影響が及ぼされることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 少なくとも2つの絞りが、照明ビーム経路(3)内に配置されることを特徴とする請求項10に記載のマスク検査顕微鏡。
- 少なくとも2つの絞りが、前記照明光学系の異なる瞳平面に配置されることを特徴とする請求項11に記載のマスク検査顕微鏡。
- 少なくとも2つの絞りが、前記瞳平面に併せて配置されることを特徴とする請求項10に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記少なくとも1つの照明ビーム経路(3)は、前記投影光を分割するために少なくとも区画的に分割された少なくとも2つの分割照明ビーム経路(87,88)を含み、少なくとも1つの絞りが、該分割照明ビーム経路(87,88)の各々に配置されることを特徴とする請求項10から請求項13のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記分割照明ビーム経路(87,88)は、前記物体平面の上流で再度組み合わされることを特徴とする請求項14に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記投影光の望ましくない偏光の除去のための偏光変換器(35,35a)が、前記照明ビーム経路に配置されることを特徴とする請求項14又は請求項15のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 前記絞りの少なくとも2つが、前記瞳平面(135)の異なる位置で、前記結果的強度分布に影響を及ぼすことを特徴とする請求項14から請求項16のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 少なくとも1つの偏光子(110,120)が、前記照明ビーム経路の各々に配置されることを特徴とする請求項14から請求項17のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 減衰器(25,25a)が、前記分割照明ビーム経路(87,88)の少なくとも1つに配置されることを特徴とする請求項14から請求項18のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- シャッター(15)が、前記照明ビーム経路のうちの少なくとも1つに配置されることを特徴とする請求項14から請求項19のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
- 少なくとも1つのズームレンズ(55,75,55a,75a)が、前記少なくとも1つの照明ビーム経路に配置され、該少なくとも1つの照明ビーム経路(3,87,88)の瞳平面が、該少なくとも1つのズームレンズによって該照明ビーム経路の少なくとも1つの更に別の瞳平面上に可変サイズで結像されることを特徴とする請求項10から請求項20のいずれか1項に記載のマスク検査顕微鏡。
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