JP5819386B2 - オブスキュレーションがない高開口数の反射屈折対物系及びそのアプリケーション - Google Patents
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Description
許出願第61/045,125号に対する優先権を主張し、それは全体が参照により本明細書で述べられているかのように本明細書に組み込まれる。
応用である。
て、添付図面を参照しながら以下で詳細に説明する。
本発明は、減光がない高NAの反射屈折対物系、及びその応用に向けられる。以下の詳な説明で、「1つの実施形態」、「ある実施形態」、「例示的実施形態」などに言及する場合、それは説明される実施形態が特定の特徴、構造又は特性を含むことができるが、全ての実施形態が必ずしも特定の特徴、構造又は特性を含まないことを示す。さらに、このような文言は必ずしも同じ実施形態を指さない。さらに、特定の特徴、構造、又は特性をある実施形態と関連して説明する場合は、このような特徴、構造、又は特性を他の実施形態と関連して実行することが、当業者の知識にあることが提示される。
図1A及び図1Bはそれぞれリソグラフィ装置100及びリソグラフィ装置100’を概略的に示したものである。リソグラフィ装置100及びリソグラフィ装置100’はそれぞれ、放射ビームB(例えばDUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えばマスク、レチクル、又は動的パターニングデバイス)MAを支持するように構成され、パターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、基板Wを正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTとを含む。リソグラフィ装置100及び100’は、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システムPSも含む。リソグラフィ装置100内では、パターニングデバイスMA及び投影システムPSは反射型であり、リソグラフィ装置100’内では、パターニングデバイスMA及び投影システムPSは透過型である。
スクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームBにパターンを与える。
パルス状放射源SOを使用することができ、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、本明細書で言及するようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
上述したように、本発明の実施形態は中心減光がない高NAの反射屈折対物系に向けられる。このような対物系は、例えば(i)ICの度量衡器(レチクル及び/又はウェーハの検査)、(ii)高解像度の結像分光測光法及びスキャトロメータ使用、及び(iii)高いNA、大きい視野(field of view FOV)及び/又は広いスペクトルバンド幅の組み合わせを必要とする他の用途において非常に望ましい。本発明の実施形態による対物系は、以下でさらに詳細に述べるように、(A)偏光ビームスプリッタを含む、及び/又は(B)オフアクシス放射を使用するように構成することができる。
本発明の実施形態によれば、反射屈折対物系は、反射要素により高レベルの色収差の補を提供しながら、中心減光を解消するために偏光ビームスプリッタを含む。偏光ビーム
スプリッタは、(平行偏光(p偏光)放射のような)第一偏光の放射を通し、(シグマ偏光(s偏光)放射のような)第二偏光の放射を反射するように構成される。
本発明の実施形態によれば、反射光学対物系はオフアクシス放射を使用して、色収差(通常は全屈折対物系では補正されない)を補正しながら、中心減光(通常は従来の高NAの全反射又は反射屈折対物系に見られる)を解消する。この実施形態では、(第一光学グループに含まれる)凹面鏡が色収差(軸上の色)及び像面湾曲を補正する。色収差(軸上の色)及び像面湾曲の補正を補助するために、1つ又は複数の負のパワーのレンズも含まれる。高いNAは、第二光学グループの1つ又は複数の全屈折要素によって生成される。第二光学グループが通常、反射要素ではなく屈折性要素を含むことが重要である。従来の高NAの全反射又は反射屈折対物系に通常含まれる中心減光を回避するのは、オフアクシス照明と中間像面と適切な折り畳みとの組み合わせである。
以上では、減光がない高NAの反射屈折対物系の実施形態、及びその応用について説明している。発明の概要及び要約の項目は、発明者が想定するような本発明の1つ又は複数の例示的実施形態について述べることができるが、全部の例示的実施形態を述べることはできず、したがって本発明及び請求の範囲をいかなる意味でも制限しないものとする。
Claims (13)
- 散乱放射を使用して基板を検査する反射屈折対物系であって、
光軸に沿って配置された正のパワーのレンズであって、第1の中間像を前記光軸の第1の側に提供するように構成された正のパワーのレンズと、
オフアクシス放射を前記反射屈折対物系の瞳に提供する折り畳みミラーと、
前記光軸に沿って配置された屈折リレーであって、放射のスペクトル範囲による色収差を軽減するとともに像面湾曲収差を補正するように構成され、前記第1の中間像の再結像を、前記折り畳みミラーから離れた、前記光軸の第2の側に提供するように構成された屈折リレーを備える第一光学グループと、
前記反射屈折対物系の開口数を上げる屈折要素を備える第二光学グループと、
を備える反射屈折対物系。 - 前記反射屈折対物系の前記瞳の位置を制御するレンズを更に備える、請求項1に記載の反射屈折対物系。
- 前記屈折リレーが負のパワーのレンズ及び凹面鏡を備える、請求項1又は請求項2に記載の反射屈折対物系。
- 前記反射屈折対物系は、中心オブスキュレーションを実質的に解消するように構成されている、請求項1乃至請求項3のうち何れか1項に記載の反射屈折対物系。
- 前記第二光学グループは、所定値以上の開口数を提供するように構成されている、請求項1乃至請求項4のうち何れか1項に記載の反射屈折対物系。
- オブジェクト面は無限遠にあり、像面はオブジェクト面に一致する、請求項1乃至請求項5のうち何れか1項に記載の反射屈折対物系。
- 前記第一光学グループ及び前記第二光学グループは、溶融石英から形成されている、請求項1乃至請求項6のうち何れか1項に記載の反射屈折対物系。
- 反射屈折対物系を使用して基板を検査する方法であって、
光軸に沿って配置された正のパワーのレンズを用いて、第1の中間像を前記光軸の第1の側に提供することと、
折り畳みミラーを使用することによってオフアクシス放射を前記反射屈折対物系の瞳に提供すること、
前記光軸に沿って配置された屈折リレーを用いて、前記第1の中間像の再結像を、前記折り畳みミラーから離れた、前記光軸の第2の側に提供することと、
屈折要素を使用して、前記反射屈折対物系の開口数を上げることを含む方法。 - レンズを使用することにより、前記反射屈折対物系の前記瞳の位置を制御することを更に含む、請求項8に記載の方法。
- 前記屈折リレーは、負のパワーのレンズ及び凹面鏡を備える、請求項8又は請求項9に記載の方法。
- 中心オブスキュレーションを実質的に解消することを更に含む、請求項8乃至請求項10のうち何れか1項に記載の方法。
- オブジェクト面は無限遠にあり、像面はオブジェクト面に一致する、請求項8乃至請求項11のうち何れか1項に記載の方法。
- 前記屈折リレー及び前記屈折要素として、溶融石英を用いることを更に含む、請求項8乃至請求項12のうち何れか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US4512508P | 2008-04-15 | 2008-04-15 | |
US61/045,125 | 2008-04-15 | ||
US12/419,565 | 2009-04-07 | ||
US12/419,565 US8064148B2 (en) | 2008-04-15 | 2009-04-07 | High numerical aperture catadioptric objectives without obscuration and applications thereof |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009096571A Division JP2009258736A (ja) | 2008-04-15 | 2009-04-13 | オブスキュレーションがない高開口数の反射屈折対物系及びそのアプリケーション |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014041387A JP2014041387A (ja) | 2014-03-06 |
JP5819386B2 true JP5819386B2 (ja) | 2015-11-24 |
Family
ID=41163727
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009096571A Pending JP2009258736A (ja) | 2008-04-15 | 2009-04-13 | オブスキュレーションがない高開口数の反射屈折対物系及びそのアプリケーション |
JP2013247000A Active JP5819386B2 (ja) | 2008-04-15 | 2013-11-29 | オブスキュレーションがない高開口数の反射屈折対物系及びそのアプリケーション |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009096571A Pending JP2009258736A (ja) | 2008-04-15 | 2009-04-13 | オブスキュレーションがない高開口数の反射屈折対物系及びそのアプリケーション |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8064148B2 (ja) |
JP (2) | JP2009258736A (ja) |
NL (1) | NL1036833A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8064148B2 (en) | 2008-04-15 | 2011-11-22 | Asml Holding N.V. | High numerical aperture catadioptric objectives without obscuration and applications thereof |
JP2011192965A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-29 | Komatsu Ltd | チャンバ装置、および極端紫外光生成装置 |
JP2015166505A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | グンゼ株式会社 | 片面に綿しか露出しないパワーネット生地を用いた衣類 |
JP2015166506A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | グンゼ株式会社 | 片面に綿しか露出しないパワーネット生地を用いた下半身用衣類 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3235077B2 (ja) * | 1991-09-28 | 2001-12-04 | 株式会社ニコン | 露光装置、該装置を用いた露光方法、及び該装置を用いた半導体素子製造方法 |
JP2698521B2 (ja) * | 1992-12-14 | 1998-01-19 | キヤノン株式会社 | 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
JP3635684B2 (ja) * | 1994-08-23 | 2005-04-06 | 株式会社ニコン | 反射屈折縮小投影光学系、反射屈折光学系、並びに投影露光方法及び装置 |
JP3339592B2 (ja) * | 1993-03-12 | 2002-10-28 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、並びに露光方法及び装置 |
JPH07130606A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-05-19 | Canon Inc | 露光装置 |
DE4417489A1 (de) | 1994-05-19 | 1995-11-23 | Zeiss Carl Fa | Höchstaperturiges katadioptrisches Reduktionsobjektiv für die Miktrolithographie |
US6512631B2 (en) * | 1996-07-22 | 2003-01-28 | Kla-Tencor Corporation | Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system |
US6064517A (en) * | 1996-07-22 | 2000-05-16 | Kla-Tencor Corporation | High NA system for multiple mode imaging |
US5999310A (en) * | 1996-07-22 | 1999-12-07 | Shafer; David Ross | Ultra-broadband UV microscope imaging system with wide range zoom capability |
US5717518A (en) * | 1996-07-22 | 1998-02-10 | Kla Instruments Corporation | Broad spectrum ultraviolet catadioptric imaging system |
JP3812051B2 (ja) * | 1997-04-30 | 2006-08-23 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系 |
US6362923B1 (en) | 2000-03-10 | 2002-03-26 | Kla-Tencor | Lens for microscopic inspection |
US7136234B2 (en) * | 2000-09-12 | 2006-11-14 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Broad band DUV, VUV long-working distance catadioptric imaging system |
JP2003233009A (ja) * | 2002-12-25 | 2003-08-22 | Nikon Corp | 反射屈折投影光学系、反射屈折光学系、投影露光装置、及び投影露光方法 |
US7180658B2 (en) * | 2003-02-21 | 2007-02-20 | Kla-Tencor Technologies Corporation | High performance catadioptric imaging system |
US7351980B2 (en) * | 2005-03-31 | 2008-04-01 | Kla-Tencor Technologies Corp. | All-reflective optical systems for broadband wafer inspection |
US7245438B2 (en) * | 2005-05-23 | 2007-07-17 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Broad band objective having improved lateral color performance |
DE102006022958A1 (de) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsverfahren und Verwendung eines Projektionsobjektivs |
US8064148B2 (en) | 2008-04-15 | 2011-11-22 | Asml Holding N.V. | High numerical aperture catadioptric objectives without obscuration and applications thereof |
-
2009
- 2009-04-07 US US12/419,565 patent/US8064148B2/en active Active
- 2009-04-08 NL NL1036833A patent/NL1036833A1/nl active Search and Examination
- 2009-04-13 JP JP2009096571A patent/JP2009258736A/ja active Pending
-
2011
- 2011-10-06 US US13/267,401 patent/US8259398B2/en active Active
-
2013
- 2013-11-29 JP JP2013247000A patent/JP5819386B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8259398B2 (en) | 2012-09-04 |
JP2009258736A (ja) | 2009-11-05 |
JP2014041387A (ja) | 2014-03-06 |
US20120026607A1 (en) | 2012-02-02 |
US20090257053A1 (en) | 2009-10-15 |
US8064148B2 (en) | 2011-11-22 |
NL1036833A1 (nl) | 2009-10-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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|
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A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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